NIL系統肖特增強現實負責人RuedigerSprengard博士表示:“將高折射率玻璃晶圓的制造擴展到300-mm,對于實現我們客戶滿足當今和未來**AR/MR設備不斷增長的市場需求所需的規模經濟產量來說至關重要。通過攜手合作,EVG和肖特彰顯了當今300-mm高折射率玻璃制造的設備和供應鏈的就緒性?!痹诖酥?,使用光刻/納米壓印技術對具有光子學應用結構的玻璃基板進行圖案成形***于200-mm基板。向300-mm晶圓加工的遷移是將AR/MR頭戴顯示設備推向大眾消費和工業市場邁出的重要一步。不過,在這些較大的基板上保持高基板質量和工藝均勻性是很難控制的,需要先進的自動化和工藝控制能力...
**的衍射波導設計商和制造商WaveOptics***宣布與EV Group(EVG)進行合作,EV Group是晶圓鍵合和納米壓印光刻設備的**供應商,以帶來高性能增強現實( AR)波導以當今業界*低的成本進入大眾市場。波導是可穿戴AR的關鍵光學組件。 WaveOptics首席執行官David Hayes評論:“這一合作伙伴關系標志著增強現實行業的轉折點,是大規模生產高質量增強現實解決方案的關鍵步驟,這是迄今為止尚無法實現的能力。” EVG的專業知識與我們可擴展的通用技術的結合將使到明年年底,AR終端用戶產品的市場價格將低于600美元?!斑@項合作...
EVG公司技術開發和IP總監Markus Wimplinger補充說:“我們開發新技術和工藝以應對*復雜的挑戰,幫助我們的客戶成功地將其新產品創意商業化。技術,我們創建了我們的NILPhotonics能力中心。“在具有保護客戶IP的強大政策的框架內,我們為客戶提供了從可行性到生產階段的產品開發和商業化支持。這正是我們***與AR領域的**者WaveOptics合作所要做的,以為*終客戶提供真正可擴展的解決方案?!? EVG的NILPhotonics?能力中心框架內的協作開發工作旨在支持WaveOptics的承諾,即在工業,企業和消費者等所有主要市場領...
NIL300mmEV集團企業技術開發和知識產權總監MarkusWimplinger表示:“EVG的NILPhotonics能力中心成立于2014年,為光刻/納米壓印技術供應鏈中的各個合作伙伴和公司與EVG合作提供了一個開放式的創新孵化器,從而縮短創新光子器件和應用的開發周期和上市時間。我們很高興與肖特公司合作,證明EVG光刻/納米壓印技術解決方案的價值,不僅有助于新技術和新工藝的開發,還能夠加速新技術和新工藝在大眾市場中的采用。我們正在攜手肖特開展的工作,彰顯了光刻/納米壓印技術設備和工藝的成熟性,為各種令人興奮的基于光子學的新產品和新應用的300-mm制造奠定了基礎?!盨CHOTTR...
EVG公司技術開發和IP總監Markus Wimplinger補充說:“我們開發新技術和工藝以應對*復雜的挑戰,幫助我們的客戶成功地將其新產品創意商業化。技術,我們創建了我們的NILPhotonics能力中心?!霸诰哂斜Wo客戶IP的強大政策的框架內,我們為客戶提供了從可行性到生產階段的產品開發和商業化支持。這正是我們***與AR領域的**者WaveOptics合作所要做的,以為*終客戶提供真正可擴展的解決方案?!? EVG的NILPhotonics?能力中心框架內的協作開發工作旨在支持WaveOptics的承諾,即在工業,企業和消費者等所有主要市場領...
EVG ? 7200 LA特征: 專有SmartNIL ?技術,提供了****的印跡形大面積 經過驗證的技術,具有出色的復制保真度和均勻性 多次使用的聚合物工作印模技術可延長母版使用壽命并節省大量成本 強大且精確可控的處理 與所有市售的壓印材料兼容 EVG ? 7200 LA技術數據: 晶圓直徑(基板尺寸):直徑200毫米(比較大Gen3)(550 x 650毫米) 解析度:40 nm-10 μm(分辨率取決于模板和工藝) 支持流程:SmartNIL ? 曝光源:大功率窄帶(> 400 mW /cm2) 對準:可選的...
IQ Aligner UV-NIL 自動化紫外線納米壓印光刻系統 應用:用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統 IQ Aligner UV-NIL系統允許使用直徑從150 mm至300 mm的壓模和晶片進行微成型和納米壓印工藝,非常適合高度平行地制造聚合物微透鏡。該系統從從晶圓尺寸的主圖章復制的軟性圖章開始,提供了混合和整體式微透鏡成型工藝,可以輕松地將其與工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合相適應。此外,EV Group提供合格的微透鏡成型工藝,包括所有相關的材料專業知識。EV Group專有的卡盤設計可為高產量大面積印刷提供均勻的接觸力。配置包括從壓印基材上釋放印章的釋...
HERCULES ? NIL完全模塊化和集成SmartNIL ? UV-NIL系統達300毫米 結合EVG的SmartNIL一個完全模塊化平臺?技術支持AR / VR,3D傳感器,光子和生物技術生產應用 EVG的HERCULES NIL 300 mm是一個完全集成的跟 蹤系統,將清潔,抗蝕劑涂層和烘烤預處理步驟與EVG專有的SmartNIL大面積納米壓印光刻(NIL)工藝結合在一個平臺上,用于直徑比較大為300 mm的晶圓。它是***個基于EVG的全模塊化設備平臺和可交換模塊的NIL系統,可為客戶提供比較大的自由度來配置他們的系統,以比較好地滿足其生產需求,包括200 ...
UV納米壓印光刻系統 EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT:具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統 ■高精度對準臺 ■自動楔形誤差補償機制 ■電動和程序控制的曝光間隙 ■支持***的UV-LED技術 ■**小化系統占地面積和設施要求 EVG?720/EVG?7200/EVG?7200LA:自動化的全場納米壓印解決方案,適用于第3代基材 ■體積驗證的壓印技術,具有出色的復制保真度 ■專有的SmartNIL?技術和多用途聚合物印章技術 ■集成式壓印,UV固化,脫模和工作印模制作 ■盒帶間自動處理以及...
UV納米壓印光刻 EV Group提供完整的UV納米壓印光刻(UV-NIL)產品線,包括不同的***積壓印系統,大面積壓印機,微透鏡成型設備以及用于高 效母版制作的分步重復系統。除了柔軟的UV-NIL,EVG還提供其專有的SmartNIL技術以及多種用途的聚合物印模技術。高 效,強大的SmartNIL工藝可提供高圖案保真度,高度均勻的圖案層和**少的殘留層,并具有易于擴展的晶圓尺寸和產量。EVG的SmartNI技術達到了納米壓印的長期預期,即納米壓印是一種用于大規模生產微米和納米級結構的高性能,低成本和具有批量生產能力的技術。 EVG620 NT是以其靈活性和可靠性而聞名的,...
首先準備一塊柔性薄膜作為彈性基底層,然后將巰基-烯預聚物旋涂在具有表面結構的母板上,彈性薄膜壓印在巰基-烯層上,與材料均勻接觸。巰基-烯材料可以在自然環境中固化通過“點擊反應”形成交聯聚合物,不受氧氣和水的阻聚作用。順利分離開母板后,彈性薄膜與固化后的巰基-烯層緊密連接在一起,獲得雙層結構的復合柔性模板。由于良好的材料特性,剛性巰基-烯結構層可以實現較高的分辨率。因此,利用該方法可以制備高 分辨的復合柔性模板,經過表面防粘處理后可以作為軟壓印模板使用。該研究利用新方法制備了以PDMS和PET為彈性基底的亞100nm線寬的光柵結構復合軟壓印模板。相關研究成果發表于《納米科技與納米技術雜志...
EV Group的一系列高精度熱壓花系統基于該公司市場**的晶圓鍵合技術。出色的壓力和溫度控制以及大面積上的均勻性可實現高精度的壓印。熱壓印是一種經濟高 效且靈活的制造技術,具有非常高的復制精度,可用于**小50 nm的特征尺寸。該系統非常適合將復雜的微結構和納米結構以及高長寬比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中。 NILPhotonics?能力中心-支持和開發 NILPhotonics能力中心是經過驗證的創新孵化器。 歡迎各位客戶來樣制作,驗證EVG的納米壓印設備的性能。 EVG?770可用于連續重復的納米壓印光刻技術,可進行有效的母版制作。本地納...
EVGROUP?|產品/納米壓印光刻解決方案 納米壓印光刻的介紹: EV Group是納米壓印光刻(NIL)的市場**設備供應商。EVG開拓了這種非常規光刻技術多年,掌握了NIL并已在不斷增長的基板尺寸上實現了批量生產。EVG的專有SmartNIL技術通過多年的研究,開發和現場經驗進行了優化,以解決常規光刻無法滿足的納米圖案要求。SmartNIL可提供低至40 nm的出色保形壓印結果。岱美作為EVG在中國區的代理商,歡迎各位聯系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。 EVG先進的多用戶概念可以適應從初學者到**級別的所有需求,因此使其成為大學和研發應用...
NIL系統肖特增強現實負責人RuedigerSprengard博士表示:“將高折射率玻璃晶圓的制造擴展到300-mm,對于實現我們客戶滿足當今和未來**AR/MR設備不斷增長的市場需求所需的規模經濟產量來說至關重要。通過攜手合作,EVG和肖特彰顯了當今300-mm高折射率玻璃制造的設備和供應鏈的就緒性。”在此之前,使用光刻/納米壓印技術對具有光子學應用結構的玻璃基板進行圖案成形***于200-mm基板。向300-mm晶圓加工的遷移是將AR/MR頭戴顯示設備推向大眾消費和工業市場邁出的重要一步。不過,在這些較大的基板上保持高基板質量和工藝均勻性是很難控制的,需要先進的自動化和工藝控制能力...
”EV集團的技術研發與IP主管MarkusWimplinger說,“通過與供應鏈的關鍵企業的合作,例如DELO,我們能夠進一步提高效率,作為與工藝和設備**們一同研究并建立關鍵的新生產線制造步驟的中心?!薄癊VG和DELO分別是晶圓級光學儀器與NIL設備與光學材料的技術與市場**企業。雙方在將技術與工藝流程應用于大規模生產方面有可靠的經驗,”DELO的董事總經理RobertSaller說道?!巴ㄟ^合作,我們將提供自己獨特的技術,將晶圓級工藝技術應用于光學器件和光電器件制造中,EVG也成為我們***產品開發的理想合作伙伴。這種合作還將使我們以應用**和前列合作伙伴的身份為客戶服務。"晶圓...
該公司的高科技粘合劑以功能與可靠性聞名于世。根據客戶的專門需求,公司對這些聚合物作出調整,使其具備其它特征。它們極其適合工業環境,在較短的生產周期時間內粘合各種微小的元件。此外,DELO紫外線LED固化設備與點膠閥的可靠度十分杰出。關于德路德路(DELO)是世界前列的工業粘合劑制造商,總部位于德國慕尼黑附近的Windach。在美國、中國、新加坡及日本均設有子公司。2019財政年,公司的780名員工創造了。該公司產品在全球范圍內廣泛應用于汽車、消費類電子產品與工業電子產品。幾乎每一部智能手機與超過一半的汽車上都使用該公司產品。DELO的客戶包括博世、戴姆勒、華為、歐司朗、西門子以及索尼等...
EVG ? 7200 LA特征: 專有SmartNIL ?技術,提供了****的印跡形大面積 經過驗證的技術,具有出色的復制保真度和均勻性 多次使用的聚合物工作印模技術可延長母版使用壽命并節省大量成本 強大且精確可控的處理 與所有市售的壓印材料兼容 EVG ? 7200 LA技術數據: 晶圓直徑(基板尺寸):直徑200毫米(比較大Gen3)(550 x 650毫米) 解析度:40 nm-10 μm(分辨率取決于模板和工藝) 支持流程:SmartNIL ? 曝光源:大功率窄帶(> 400 mW /cm2) 對準:可選的...
納米壓印應用三:連續性UV納米壓印 EVG770是用于步進重復納米壓印光刻的通用平臺,可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結合,分步重復刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。岱美作為EVG在中國區的代理商,歡迎各位聯系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。 EVG先進的多用戶概念可以適應從初學者到**級別的所有需求,因此使其成為大學和研發應用程序的理想選擇。微接...
NIL系統肖特增強現實負責人RuedigerSprengard博士表示:“將高折射率玻璃晶圓的制造擴展到300-mm,對于實現我們客戶滿足當今和未來**AR/MR設備不斷增長的市場需求所需的規模經濟產量來說至關重要。通過攜手合作,EVG和肖特彰顯了當今300-mm高折射率玻璃制造的設備和供應鏈的就緒性?!痹诖酥?,使用光刻/納米壓印技術對具有光子學應用結構的玻璃基板進行圖案成形***于200-mm基板。向300-mm晶圓加工的遷移是將AR/MR頭戴顯示設備推向大眾消費和工業市場邁出的重要一步。不過,在這些較大的基板上保持高基板質量和工藝均勻性是很難控制的,需要先進的自動化和工藝控制能力...
其中包括家用電器、醫藥、電子、光學、生命科學、汽車和航空業。肖特在全球34個國家和地區設有生產基地和銷售辦事處。公司目前擁有員工超過15500名,2017/2018財年的銷售額為??偛课挥诘聡酪虼牡哪腹維CHOTTAG由卡爾蔡司基金會(CarlZeissFoundation)全資擁有。卡爾蔡司基金會是德國歷史**悠久的私立基金會之一,同時也是德國規模比較大的科學促進基金會之一。作為一家基金公司,肖特對其員工,社會和環境負有特殊責任。關于EV集團(EVG)EV集團(EVG)是為半導體、微機電系統(MEMS)、化合物半導體、功率器件和納米技術器件制造提供設備與工藝解決方案的**供應商。其...
納米壓印應用三:連續性UV納米壓印 EVG770是用于步進重復納米壓印光刻的通用平臺,可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結合,分步重復刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。岱美作為EVG在中國區的代理商,歡迎各位聯系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。 EVG提供不同的***積壓印系統,大面積壓印機,微透鏡成型設備以及用于高 效母版制作的分步重復系統。IQA...
通過中心提供的試驗生產線基礎設施,WaveOptics將超越其客戶對下個季度的預期需求,并有一條可靠的途徑將大批量生產工藝和設備轉移至能夠大規模生產波導的指定設施適用于全球前列OEM品牌。 WaveOptics與EVG的合作突顯了其致力于以可實現的價格提供高性能,商用波導來幫助客戶將AR顯示器推向市場的承諾。利用EVG在批量生產設備和工藝技術方面的專業知識,到2019年,AR終端用戶產品將以不到600美元的價格進入市場,這是當今行業中的*低價位。 **小外形尺寸和大體積創新型光子結構提供了更多的自由度,這對于實現衍射光學元件(DOE)至關重要。聯電納米壓...
SmartNIL是行業**的NIL技術,可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化,并可以對各種結構尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術相結合,可實現****的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優勢,同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的SmartNIL兌現了納米壓印的長期前景,即納米壓印是一種用于大規模制造微米級和納米級結構的低成本,大批量替代光刻技術。 *分辨率取決于過程和模板 如果需要詳細的信息,請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。 EVG的EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統。廣東納米壓印優惠價格 據外媒報道,美...
首先準備一塊柔性薄膜作為彈性基底層,然后將巰基-烯預聚物旋涂在具有表面結構的母板上,彈性薄膜壓印在巰基-烯層上,與材料均勻接觸。巰基-烯材料可以在自然環境中固化通過“點擊反應”形成交聯聚合物,不受氧氣和水的阻聚作用。順利分離開母板后,彈性薄膜與固化后的巰基-烯層緊密連接在一起,獲得雙層結構的復合柔性模板。由于良好的材料特性,剛性巰基-烯結構層可以實現較高的分辨率。因此,利用該方法可以制備高 分辨的復合柔性模板,經過表面防粘處理后可以作為軟壓印模板使用。該研究利用新方法制備了以PDMS和PET為彈性基底的亞100nm線寬的光柵結構復合軟壓印模板。相關研究成果發表于《納米科技與納米技術雜志...
IQ Aligner UV-NIL 自動化紫外線納米壓印光刻系統 應用:用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統 IQ Aligner UV-NIL系統允許使用直徑從150 mm至300 mm的壓模和晶片進行微成型和納米壓印工藝,非常適合高度平行地制造聚合物微透鏡。該系統從從晶圓尺寸的主圖章復制的軟性圖章開始,提供了混合和整體式微透鏡成型工藝,可以輕松地將其與工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合相適應。此外,EV Group提供合格的微透鏡成型工藝,包括所有相關的材料專業知識。EV Group專有的卡盤設計可為高產量大面積印刷提供均勻的接觸力。配置包括從壓印基材上釋放印章的釋...
通過中心提供的試驗生產線基礎設施,WaveOptics將超越其客戶對下個季度的預期需求,并有一條可靠的途徑將大批量生產工藝和設備轉移至能夠大規模生產波導的指定設施適用于全球前列OEM品牌。 WaveOptics與EVG的合作突顯了其致力于以可實現的價格提供高性能,商用波導來幫助客戶將AR顯示器推向市場的承諾。利用EVG在批量生產設備和工藝技術方面的專業知識,到2019年,AR終端用戶產品將以不到600美元的價格進入市場,這是當今行業中的*低價位。 EVG系統是客戶進行大批量晶圓級鏡頭復制(制造)的***選擇。紫外光納米壓印有哪些應用 NIL已被證明是...
關于WaveOptics WaveOptics是衍射波導的全球**設計商和制造商,衍射波導是可穿戴AR設備中的關鍵光學組件。 諸如智能眼鏡之類的AR可穿戴設備使用戶能夠觀看覆蓋在現實世界之上的數字圖像。有兩個關鍵元素可讓您看到這些圖像-微型投影儀之類的光源,以及將圖像從投影儀傳遞到用戶眼睛中的一種方式。 WaveOptics的波導技術可傳輸來自光源的光波并將其投射到用戶的眼睛中。該技術可產生大的眼框,雙目觀察和高視野。眼圖框(查看窗口)是從中可以看到完整圖像的AR顯示器的尺寸-請參見下圖。WaveOptics的波導提供清晰,無失真的...
通過中心提供的試驗生產線基礎設施,WaveOptics將超越其客戶對下個季度的預期需求,并有一條可靠的途徑將大批量生產工藝和設備轉移至能夠大規模生產波導的指定設施適用于全球前列OEM品牌。 WaveOptics與EVG的合作突顯了其致力于以可實現的價格提供高性能,商用波導來幫助客戶將AR顯示器推向市場的承諾。利用EVG在批量生產設備和工藝技術方面的專業知識,到2019年,AR終端用戶產品將以不到600美元的價格進入市場,這是當今行業中的*低價位。 EVG的EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統。氮化鎵納米壓印技術服務 對于壓印...
EVG ? 610 紫外線納米壓印光刻系統 具有紫外線納米壓印功能的通用研發掩膜對準系統,從碎片到比較大150毫米。 該工具支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并且可以選擇背面對準。此外,該系統還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對準和納米壓印光刻(NIL)。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具,以改變用戶需求,光刻和NIL之間的轉換時間*為幾分鐘。其先進的多用戶概念可以適應從初學者到**級別的所有需求,因此使其成為大學和研發應用程序的理想選擇。 EVG ? 770是分步重復納米壓印光刻系統,使用分步重復納米壓印光刻技術,可進行有效的母版制作。半導...