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晶圓納米壓印有哪些應用

來源: 發布時間:2020-03-23

    NIL系統肖特增強現實負責人RuedigerSprengard博士表示:“將高折射率玻璃晶圓的制造擴展到300-mm,對于實現我們客戶滿足當今和未來**AR/MR設備不斷增長的市場需求所需的規模經濟產量來說至關重要。通過攜手合作,EVG和肖特彰顯了當今300-mm高折射率玻璃制造的設備和供應鏈的就緒性。”在此之前,使用光刻/納米壓印技術對具有光子學應用結構的玻璃基板進行圖案成形***于200-mm基板。向300-mm晶圓加工的遷移是將AR/MR頭戴顯示設備推向大眾消費和工業市場邁出的重要一步。不過,在這些較大的基板上保持高基板質量和工藝均勻性是很難控制的,需要先進的自動化和工藝控制能力。EVG的SmartNIL技術得益于多年的研究、開發和實驗,旨在滿足納米圖案成形的需求,經過了現場驗證,能夠輕松從晶圓級樣品尺寸擴展到大面積基板。去年六月,EVG推出了HERCULES?NIL300mm,將SmartNIL引入300-mm制造,滿足各種設備和應用的生產需求,其中包括AR、MR和虛擬現實(VR)頭戴顯示設備的光學器件以及3D傳感器、生物醫療設備、納米光子學和等離子電子學。集成到SmartNIL?UV-NIL系統的全模塊化EVG?HERCULES?。EVG高達300 mm的高精度聚合物透鏡成型和堆疊設備支持晶圓級光學(WLO)的制造。晶圓納米壓印有哪些應用

EVG ® 510 HE特征:

用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應用

自動化壓花工藝

EVG專有的**對準工藝,用于光學對準的壓印和壓印

完全由軟件控制的流程執行

閉環冷卻水供應選項

外部浮雕和冷卻站


EVG ® 510 HE技術數據:

加熱器尺寸:150毫米 ,200毫米

比較大基板尺寸:150毫米,200毫米

**小基板尺寸:單芯片,100毫米

比較大接觸力:10、20、60 kN

比較高溫度:標準:350°C;可選:550°C

夾盤系統/對準系統

150毫米加熱器:EVG ® 610,EVG ® 620,EVG ® 6200

200毫米加熱器:EVG ® 6200,MBA300,的Smart View ® NT

真空:

標準:0.1毫巴


可選:0.00001 mbar


重慶襯底納米壓印EVG系統是客戶進行大批量晶圓級鏡頭復制(制造)的***選擇。

EVG ® 720自動SmartNIL

® UV納米壓印光刻系統

自動全視野的UV納米壓印溶液達150毫米,設有EVG's專有SmartNIL ®技術


EVG720系統利用EVG的創新SmartNIL技術和材料專業知識,能夠大規模制造微米和納米級結構。具有SmartNIL技術的EVG720系統能夠在大面積上印刷小至40 nm *的納米結構,具有****的吞吐量,非常適合批量生產下一代微流控和光子器件,例如衍射光學元件( DOEs)。

*分辨率取決于過程和模板


如果需要詳細的信息,請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。也可以訪問官網,獲得更多信息。

對于壓印工藝,EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到比較大直徑150 mm。納米技術應用的配置除了可編程的高和低接觸力外,還可以包括用于印章的釋放機構。EV Group專有的卡盤設計可提供均勻的接觸力,以實現高產量的壓印,該卡盤支持軟性和硬性印模。


EVG610特征:

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形誤差補償機制

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術

**小化系統占地面積和設施要求

分步流程指導

遠程技術支持

多用戶概念(無限數量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)

敏捷處理和光刻工藝之間的轉換

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版


附加功能:

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻 

μ接觸印刷


EVG620 NT支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,以及背面對準選項。

納米壓印應用三:連續性UV納米壓印

EVG770是用于步進重復納米壓印光刻的通用平臺,可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結合,分步重復刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。岱美作為EVG在中國區的代理商,歡迎各位聯系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。


EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT是具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統。芯片納米壓印價格怎么樣

SmartNIL 非常適合對具有復雜納米結構微流控芯片進行高精度圖案化,用在下一代藥 物研究和醫學診斷設備生產。晶圓納米壓印有哪些應用

SmartNIL技術簡介

SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術,可提供功能強大的下一代光刻技術,幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能,因此還可以實現****的吞吐量,并具有顯著的擁有成本的優勢,同時保留了可擴展性和易于維護的操作功能。另外,主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當的時間。岱美作為EVG在中國區的代理商,歡迎各位聯系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。


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