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EVG ? 7200 LA特征： 專有SmartNIL ?技術，提供了****的印跡形大面積 經(jīng)過驗證的技術，具有出色的復制保真度和均勻性 多次使用的聚合物工作印模技術可延長母版使用壽命并節(jié)省大量成本 強大且精確可控的處理 與所有市售的壓印材料兼容 EVG ? 7200 LA技術數(shù)據(jù)： 晶圓直徑（基板尺寸）：直徑200毫米（比較大Gen3）（550 x 650毫米） 解析度：40 nm-10 μm（分辨率取決于模板和工藝） 支持流程：SmartNIL ? 曝光源：大功率窄帶（> 400 mW /cm2） 對準：可選的...

EVG ? 770特征： 微透鏡用于晶片級光學器件的高 效率制造主下降到納米結(jié)構為SmartNIL ? 簡單實施不同種類的大師 可變抗蝕劑分配模式 分配，壓印和脫模過程中的實時圖像 用于壓印和脫模的原位力控制 可選的光學楔形誤差補償 可選的自動盒帶間處理 EVG ? 770技術數(shù)據(jù)： 晶圓直徑（基板尺寸）：100至300毫米 解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝） 支持流程：柔軟的UV-NIL 曝光源：大功率LED（i線）> 100 mW /cm2 對準：頂側(cè)顯微鏡，用于實時重疊校準≤±500 n...

IQ Aligner UV-NIL特征： 用于光學元件的微成型應用 用于全場納米壓印應用 三個**控制的Z軸，可在印模和基材之間實現(xiàn)出色的楔形補償 三個**控制的Z軸，用于壓印抗蝕劑的總厚度變化（TTV）控制 利用柔軟的印章進行柔軟的UV-NIL工藝 EVG專有的全自動浮雕功能 抵抗分配站集成 粘合對準和紫外線粘合功能 IQ Aligner UV-NIL技術數(shù)據(jù)： 晶圓直徑（基板尺寸）：150至300毫米 解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝） 支持流程：柔軟的UV-NIL，鏡片成型 曝光...

HERCULES NIL 300 mm提供了市場上**的納米壓印功能，具有較低的力和保形壓印，快速的高功率曝光和平滑的壓模分離。該系統(tǒng)支持各種設備和應用程序的生產(chǎn)，包括用于增強/虛擬現(xiàn)實（AR / VR）頭戴式耳機的光學設備，3D傳感器，生物醫(yī)學設備，納米光子學和等離激元學。 HERCULES ? NIL特征： 全自動UV-NIL壓印和低力剝離 **多300毫米的基材 完全模塊化的平臺，具有多達八個可交換過程模塊（壓印和預處理） 200毫米/ 300毫米橋接工具能力 全區(qū)域烙印覆蓋 批量生產(chǎn)**小40 nm或更小的結(jié)構 支持各種結(jié)構...

SmartNIL是行業(yè)**的NIL技術，可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化，并可以對各種結(jié)構尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術相結(jié)合，可實現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期前景，即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結(jié)構的低成本，大批量替代光刻技術。 注：*分辨率取決于過程和模板 如果需要詳細的信息，請聯(lián)系我們岱美儀器技術服務有限公司。 EVG高達300 mm的高精度聚合物透鏡成型和堆疊設備支持晶圓級光學（WLO）的制造。圖像傳感器納米壓印免稅價...

EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng)。 用UV納米壓印能力為特色的EVG's專有SmartNIL通用掩模對準系統(tǒng)?技術，在100毫米范圍內(nèi)。 EVG620 NT以其靈活性和可靠性而聞名，它以**小的占位面積提供了***的掩模對準技術。操作員友好型軟件，**短的掩模和模具更換時間以及有效的全球服務支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境（半自動批量生產(chǎn)）的理想解決方案。該工具支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，以及背面對準選項。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻。此外，半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNI...

納米壓印微影技術可望優(yōu)先導入LCD面板領域原本計劃應用在半導體生產(chǎn)制程的納米壓印微影技術(Nano-ImpLithography；NIL)，現(xiàn)將率先應用在液晶顯示器(LCD)制程中。NIL為次世代圖樣形成技術。據(jù)ETNews報導，南韓顯示器面板企業(yè)LCD制程研發(fā)小組，未確認NIL設備實際圖樣形成能力，直接參訪海外NIL設備廠。該制程研發(fā)小組透露，若引進相關設備，將可提升面板性能。并已展開具體供貨協(xié)商。NIL是以刻印圖樣的壓印機，像蓋章般在玻璃基板上形成圖樣的制程。在基板上涂布UV感光液后，再以壓印機接觸施加壓力，印出面板圖樣。之后再經(jīng)過蝕刻制程形成圖樣。NIL可在LCD玻璃基板上刻印出...

關于WaveOptics WaveOptics是衍射波導的全球**設計商和制造商，衍射波導是可穿戴AR設備中的關鍵光學組件。 諸如智能眼鏡之類的AR可穿戴設備使用戶能夠觀看覆蓋在現(xiàn)實世界之上的數(shù)字圖像。有兩個關鍵元素可讓您看到這些圖像-微型投影儀之類的光源，以及將圖像從投影儀傳遞到用戶眼睛中的一種方式。 WaveOptics的波導技術可傳輸來自光源的光波并將其投射到用戶的眼睛中。該技術可產(chǎn)生大的眼框，雙目觀察和高視野。眼圖框（查看窗口）是從中可以看到完整圖像的AR顯示器的尺寸-請參見下圖。WaveOptics的波導提供清晰，無失真的...

NIL300mmEV集團企業(yè)技術開發(fā)和知識產(chǎn)權總監(jiān)MarkusWimplinger表示：“EVG的NILPhotonics能力中心成立于2014年，為光刻/納米壓印技術供應鏈中的各個合作伙伴和公司與EVG合作提供了一個開放式的創(chuàng)新孵化器，從而縮短創(chuàng)新光子器件和應用的開發(fā)周期和上市時間。我們很高興與肖特公司合作，證明EVG光刻/納米壓印技術解決方案的價值，不僅有助于新技術和新工藝的開發(fā)，還能夠加速新技術和新工藝在大眾市場中的采用。我們正在攜手肖特開展的工作，彰顯了光刻/納米壓印技術設備和工藝的成熟性，為各種令人興奮的基于光子學的新產(chǎn)品和新應用的300-mm制造奠定了基礎。”SCHOTTR...

EVG公司技術開發(fā)和IP總監(jiān)Markus Wimplinger補充說：“我們開發(fā)新技術和工藝以應對*復雜的挑戰(zhàn)，幫助我們的客戶成功地將其新產(chǎn)品創(chuàng)意商業(yè)化。技術，我們創(chuàng)建了我們的NILPhotonics能力中心。“在具有保護客戶IP的強大政策的框架內(nèi)，我們?yōu)榭蛻籼峁┝藦目尚行缘缴a(chǎn)階段的產(chǎn)品開發(fā)和商業(yè)化支持。這正是我們***與AR領域的**者WaveOptics合作所要做的，以為*終客戶提供真正可擴展的解決方案。” EVG的NILPhotonics?能力中心框架內(nèi)的協(xié)作開發(fā)工作旨在支持WaveOptics的承諾，即在工業(yè)，企業(yè)和消費者等所有主要市場領...

SmartNIL技術簡介 SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術，可提供功能強大的下一代光刻技術，幾乎具有無限的結(jié)構尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能，因此還可以實現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作功能。另外，主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當?shù)臅r間。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。 分步重復刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的Smart NIL工藝所需的母版。紫外光納米壓印聯(lián)系電話 EVG ?...

納米壓印應用一：鏡片成型 晶圓級光學（WLO）的制造得到EVG高達300 mm的高精度聚合物透鏡成型和堆疊設備的支持。使用從晶片尺寸的主印模復制來的工作印模，通過軟UV壓印光刻將透鏡圖案轉(zhuǎn)移到光學聚合物材料中。EV Group提供混合和單片微透鏡成型工藝，可以輕松地適應各種材料組合，以用于工作印模和微透鏡材料。EVG系統(tǒng)是客戶進行大批量晶圓級鏡頭復制的優(yōu)先。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。 EVG是納米壓印光刻（NIL）的市場**設備供應商。步進重復納米壓印研發(fā)生產(chǎn) ”EV集團的技術研發(fā)與IP主管Ma...

在EVG的NILPhotonics?解決方案支援中心，雙方合作研發(fā)用于制造光學傳感器的新材料，以及適用于大眾化市場的晶圓級光學元件。（奧地利）與WINDACH（德國），2019年11月27日――EV集團(EVG)這一全球**的為微機電系統(tǒng)、納米技術與半導體市場提供晶圓鍵合與光刻設備的供應商，***宣布與高科技工業(yè)粘合劑制造商DELO在晶圓級光學元件(WLO)領域開展合作。這兩家公司均在光學傳感器制造領域處于**地位。它們的合作將充分利用EVG的透鏡注塑成型與納米壓印光刻(NIL)加工設備與DELO先進的粘合劑與抗蝕材料，在工業(yè)，汽車，消費類電子產(chǎn)品市場開發(fā)與應用新型光學設備，例如生物特...

EVG ? 520 HE熱壓印系統(tǒng) 特色：經(jīng)通用生產(chǎn)驗證的熱壓印系統(tǒng)，可滿足比較高要求 EVG520 HE半自動熱壓印系統(tǒng)設計用于對熱塑性基材進行高精度壓印。EVG的這種經(jīng)過生產(chǎn)驗證的系統(tǒng)可以接受直徑比較大為200 mm的基板，并且與標準的半導體制造技術兼容。熱壓印系統(tǒng)配置有通用壓花腔室以及高真空和高接觸力功能，并管理適用于熱壓印的整個聚合物范圍。結(jié)合高縱橫比壓印和多種脫壓選項，提供了許多用于高質(zhì)量圖案轉(zhuǎn)印和納米分辨率的工藝。 如果需要詳細的信息，請聯(lián)系我們岱美儀器技術服務有限公司。 EVG620 NT是以其靈活性和可靠性而聞名的，因為它以**小的占位面積提供了**...

HERCULES ? NIL完全模塊化和集成SmartNIL ? UV-NIL系統(tǒng)達300毫米 結(jié)合EVG的SmartNIL一個完全模塊化平臺?技術支持AR / VR，3D傳感器，光子和生物技術生產(chǎn)應用 EVG的HERCULES NIL 300 mm是一個完全集成的跟 蹤系統(tǒng)，將清潔，抗蝕劑涂層和烘烤預處理步驟與EVG專有的SmartNIL大面積納米壓印光刻（NIL）工藝結(jié)合在一個平臺上，用于直徑比較大為300 mm的晶圓。它是***個基于EVG的全模塊化設備平臺和可交換模塊的NIL系統(tǒng)，可為客戶提供比較大的自由度來配置他們的系統(tǒng)，以比較好地滿足其生產(chǎn)需求，包括200 ...

EVG ? 770特征： 微透鏡用于晶片級光學器件的高 效率制造主下降到納米結(jié)構為SmartNIL ? 簡單實施不同種類的大師 可變抗蝕劑分配模式 分配，壓印和脫模過程中的實時圖像 用于壓印和脫模的原位力控制 可選的光學楔形誤差補償 可選的自動盒帶間處理 EVG ? 770技術數(shù)據(jù)： 晶圓直徑（基板尺寸）：100至300毫米 解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝） 支持流程：柔軟的UV-NIL 曝光源：大功率LED（i線）> 100 mW /cm2 對準：頂側(cè)顯微鏡，用于實時重疊校準≤±500 n...

SmartNIL技術簡介 SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術，可提供功能強大的下一代光刻技術，幾乎具有無限的結(jié)構尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能，因此還可以實現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作功能。另外，主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當?shù)臅r間。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。 EV Group的一系列高精度熱壓花系統(tǒng)是基于該公司市場**的晶圓鍵合技術。EVG610納米壓印優(yōu)惠價格 UV納米壓印光刻 ...

HERCULES ? NIL特征： 全自動UV-NIL壓印和低力剝離 **多300毫米的基材 完全模塊化的平臺，具有多達八個可交換過程模塊（壓印和預處理） 200毫米/ 300毫米橋接工具能力 全區(qū)域烙印覆蓋 批量生產(chǎn)**小40 nm或更小的結(jié)構 支持各種結(jié)構尺寸和形狀，包括3D 適用于高地形（粗糙）表面 *分辨率取決于過程和模板 HERCULES ? NIL技術數(shù)據(jù)： 晶圓直徑（基板尺寸）：100至200毫米/ 200和300毫米 解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝） 支持流程：SmartNIL ...

關于WaveOptics WaveOptics是衍射波導的全球**設計商和制造商，衍射波導是可穿戴AR設備中的關鍵光學組件。 諸如智能眼鏡之類的AR可穿戴設備使用戶能夠觀看覆蓋在現(xiàn)實世界之上的數(shù)字圖像。有兩個關鍵元素可讓您看到這些圖像-微型投影儀之類的光源，以及將圖像從投影儀傳遞到用戶眼睛中的一種方式。 WaveOptics的波導技術可傳輸來自光源的光波并將其投射到用戶的眼睛中。該技術可產(chǎn)生大的眼框，雙目觀察和高視野。眼圖框（查看窗口）是從中可以看到完整圖像的AR顯示器的尺寸-請參見下圖。WaveOptics的波導提供清晰，無失真的...

SmartNIL技術簡介 SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術，可提供功能強大的下一代光刻技術，幾乎具有無限的結(jié)構尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能，因此還可以實現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作功能。另外，主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當?shù)臅r間。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。 EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)還有：EVG?7200LA，HERCULES?NIL，EVG?770，IQAligner?等。納米壓印優(yōu)惠...

EVG ? 6200 NT特征： 頂部和底部對準能力 高精度對準臺 自動楔形補償序列 電動和程序控制的曝光間隙 支持***的UV-LED技術 **小化系統(tǒng)占地面積和設施要求 分步流程指導 遠程技術支持 多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言） 敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具 臺式或帶防震花崗巖臺的單機版 EVG ? 6200 NT附加功能： 鍵對準 紅外對準 智能NIL ? μ接觸印刷技術數(shù)據(jù) 晶圓直徑（基板尺寸） 標準光刻：75至200 mm 柔...

納米壓印光刻設備-處理結(jié)果： 新應用程序的開發(fā)通常與設備功能的提高緊密相關。 EVG的NIL解決方案能夠產(chǎn)生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案，并在顯示器，生物技術和光子應用中實現(xiàn)了許多新的創(chuàng)新。HRI SmartNIL?壓印上的單個像素的1.AFM圖像壓印全息結(jié)構的AFM圖像 資料來源：EVG與SwissLitho AG合作（歐盟項目SNM） 2.通過熱壓花在PMMA中復制微流控芯片 資料來源：EVG 3.高縱橫比（7：1）的10 μm柱陣列 由加拿大國家研究委 員會提供 4.L / S光柵具有優(yōu)化的殘留層，厚度約為10 nm ...

EVG ? 7200 LA特征： 專有SmartNIL ?技術，提供了****的印跡形大面積 經(jīng)過驗證的技術，具有出色的復制保真度和均勻性 多次使用的聚合物工作印模技術可延長母版使用壽命并節(jié)省大量成本 強大且精確可控的處理 與所有市售的壓印材料兼容 EVG ? 7200 LA技術數(shù)據(jù)： 晶圓直徑（基板尺寸）：直徑200毫米（比較大Gen3）（550 x 650毫米） 解析度：40 nm-10 μm（分辨率取決于模板和工藝） 支持流程：SmartNIL ? 曝光源：大功率窄帶（> 400 mW /cm2） 對準：可選的...

為了優(yōu)化工藝鏈，HERCULES NIL中包括多次使用的軟印章的制造，這是大批量生產(chǎn)的基石，不需要額外的壓印印章制造設備。作為一項特殊功能，該工具可以升級為具有ISO 3 *功能的微型環(huán)境，以確保比較低的缺 陷率和比較高質(zhì)量的原版復制。 通過為大批量生產(chǎn)提供完整的NIL解決方案，HERCULES NIL增強了EVG在***積NIL設備解決方案中的領導地位。 *根據(jù)ISO 14644 HERCULES ? NIL特征： 批量生產(chǎn)**小40 nm *或更小的結(jié)構 聯(lián)合預處理（清潔/涂層/烘烤/寒意）和SmartNIL ? 體積驗證的壓印技術，具有出色的...

它為晶圓級光學元件開發(fā)、原型設計和制造提供了一種獨特的方法，可以方便地接觸***研發(fā)技術與材料。晶圓級納米壓印光刻和透鏡注塑成型技術確保在如3D感應的應用中使用小尺寸的高 分辨率光學傳感器供應鏈合作推動晶圓級光學元件應用要在下一代光學傳感器的大眾化市場中推廣晶圓級生產(chǎn)，先進的粘合劑與抗蝕材料發(fā)揮著不可取代的作用。開發(fā)先進的光學材料，需要充分地研究化學、機械與光學特性，以及已被證實的大規(guī)模生產(chǎn)（HVM）的可擴展性。擁有在NIL圖形壓印和抗蝕工藝方面的材料兼容性，以及自動化模制和脫模的專業(yè)知識，才能在已驗證的大規(guī)模生產(chǎn)中，以**小的形狀因子達到晶圓級光學元件的比較好性能。材料供應商與加工設備...

HERCULES ? NIL特征： 全自動UV-NIL壓印和低力剝離 **多300毫米的基材 完全模塊化的平臺，具有多達八個可交換過程模塊（壓印和預處理） 200毫米/ 300毫米橋接工具能力 全區(qū)域烙印覆蓋 批量生產(chǎn)**小40 nm或更小的結(jié)構 支持各種結(jié)構尺寸和形狀，包括3D 適用于高地形（粗糙）表面 *分辨率取決于過程和模板 HERCULES ? NIL技術數(shù)據(jù)： 晶圓直徑（基板尺寸）：100至200毫米/ 200和300毫米 解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝） 支持流程：SmartNIL ...

SmartNIL技術簡介 SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術，可提供功能強大的下一代光刻技術，幾乎具有無限的結(jié)構尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能，因此還可以實現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作功能。另外，主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當?shù)臅r間。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。 EVG的熱壓印是一種經(jīng)濟高 效且靈活的制造技術，具有非常高的復制精度，可用于**小50 nm的特征尺寸。掩模對準納米壓印參數(shù) ...

EVG ? 720特征： 體積驗證的壓印技術，具有出色的復制保真度 專有SmartNIL ?技術，多使用聚合物印模技術 集成式壓印，UV固化脫模和工作印模制造 盒帶到盒帶自動處理以及半自動研發(fā)模式 可選的頂部對準 可選的迷你環(huán)境 適用于所有市售壓印材料的開放平臺 從研發(fā)到生產(chǎn)的可擴展性 系統(tǒng)外殼，可實現(xiàn)比較好過程穩(wěn)定性和可靠性技術數(shù)據(jù) 晶圓直徑（基板尺寸） 75至150毫米 解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝） 支持流程：SmartNIL ? 曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2...

IQ Aligner UV-NIL特征： 用于光學元件的微成型應用 用于全場納米壓印應用 三個**控制的Z軸，可在印模和基材之間實現(xiàn)出色的楔形補償 三個**控制的Z軸，用于壓印抗蝕劑的總厚度變化（TTV）控制 利用柔軟的印章進行柔軟的UV-NIL工藝 EVG專有的全自動浮雕功能 抵抗分配站集成 粘合對準和紫外線粘合功能 IQ Aligner UV-NIL技術數(shù)據(jù)： 晶圓直徑（基板尺寸）：150至300毫米 解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝） 支持流程：柔軟的UV-NIL，鏡片成型 曝光...

HERCULES NIL 300 mm提供了市場上**的納米壓印功能，具有較低的力和保形壓印，快速的高功率曝光和平滑的壓模分離。該系統(tǒng)支持各種設備和應用程序的生產(chǎn)，包括用于增強/虛擬現(xiàn)實（AR / VR）頭戴式耳機的光學設備，3D傳感器，生物醫(yī)學設備，納米光子學和等離激元學。 HERCULES ? NIL特征： 全自動UV-NIL壓印和低力剝離 **多300毫米的基材 完全模塊化的平臺，具有多達八個可交換過程模塊（壓印和預處理） 200毫米/ 300毫米橋接工具能力 全區(qū)域烙印覆蓋 批量生產(chǎn)**小40 nm或更小的結(jié)構 支持各種結(jié)構...