EVG ® 6200 NT特征：
頂部和底部對(duì)準(zhǔn)能力
高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái)
自動(dòng)楔形補(bǔ)償序列
電動(dòng)和程序控制的曝光間隙
支持***的UV-LED技術(shù)
**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求
分步流程指導(dǎo)
遠(yuǎn)程技術(shù)支持
多用戶概念（無(wú)限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問(wèn)權(quán)限，不同的用戶界面語(yǔ)言）
敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具
臺(tái)式或帶防震花崗巖臺(tái)的單機(jī)版
EVG ® 6200 NT附加功能：
鍵對(duì)準(zhǔn)
紅外對(duì)準(zhǔn)
智能NIL ®
μ接觸印刷技術(shù)數(shù)據(jù)
晶圓直徑（基板尺寸）
標(biāo)準(zhǔn)光刻：75至200 mm
柔軟的UV-NIL：75至200毫米
SmartNIL ®：**多至150mm
解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：軟UV-NIL＆SmartNIL
®
曝光源：汞光源或紫外線LED光源
對(duì)準(zhǔn)：軟NIL：≤±0.5 μm；SmartNIL ®：≤±3微米
自動(dòng)分離：柔紫外線NIL：不支持；SmartNIL
®：支持
工作印章制作：柔軟的UV-NIL：外部；SmartNIL ®：支持
EVG提供不同的***積壓印系統(tǒng)，大面積壓印機(jī)，微透鏡成型設(shè)備以及用于高 效母版制作的分步重復(fù)系統(tǒng)。原裝進(jìn)口納米壓印國(guó)內(nèi)代理
EVG ® 620 NT特征：
頂部和底部對(duì)準(zhǔn)能力
高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái)
自動(dòng)楔形補(bǔ)償序列
電動(dòng)和程序控制的曝光間隙
支持***的UV-LED技術(shù)
**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求
分步流程指導(dǎo)
遠(yuǎn)程技術(shù)支持
多用戶概念（無(wú)限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問(wèn)權(quán)限，不同的用戶界面語(yǔ)言）
敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具
臺(tái)式或帶防震花崗巖臺(tái)的單機(jī)版
EVG ® 620 NT附加功能：
鍵對(duì)準(zhǔn)
紅外對(duì)準(zhǔn)
SmartNIL
μ接觸印刷技術(shù)數(shù)據(jù)
晶圓直徑（基板尺寸）
標(biāo)準(zhǔn)光刻：比較大150毫米的碎片
柔軟的UV-NIL：比較大150毫米的碎片
SmartNIL ®：在100毫米范圍
解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：軟UV-NIL＆SmartNIL
®
曝光源：汞光源或紫外線LED光源
對(duì)準(zhǔn)：
軟NIL：≤±0.5 μm
SmartNIL ®：≤±3微米
自動(dòng)分離：柔紫外線NIL：不支持；SmartNIL
®：支持
工作印章制作：柔軟的UV-NIL：外部：SmartNIL ®：支持
低溫納米壓印高性價(jià)比選擇岱美作為EVG在中國(guó)區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí)。
NIL系統(tǒng)肖特增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)負(fù)責(zé)人RuedigerSprengard博士表示：“將高折射率玻璃晶圓的制造擴(kuò)展到300-mm，對(duì)于實(shí)現(xiàn)我們客戶滿足當(dāng)今和未來(lái)**AR/MR設(shè)備不斷增長(zhǎng)的市場(chǎng)需求所需的規(guī)模經(jīng)濟(jì)產(chǎn)量來(lái)說(shuō)至關(guān)重要。通過(guò)攜手合作，EVG和肖特彰顯了當(dāng)今300-mm高折射率玻璃制造的設(shè)備和供應(yīng)鏈的就緒性。”在此之前，使用光刻/納米壓印技術(shù)對(duì)具有光子學(xué)應(yīng)用結(jié)構(gòu)的玻璃基板進(jìn)行圖案成形***于200-mm基板。向300-mm晶圓加工的遷移是將AR/MR頭戴顯示設(shè)備推向大眾消費(fèi)和工業(yè)市場(chǎng)邁出的重要一步。不過(guò)，在這些較大的基板上保持高基板質(zhì)量和工藝均勻性是很難控制的，需要先進(jìn)的自動(dòng)化和工藝控制能力。EVG的SmartNIL技術(shù)得益于多年的研究、開(kāi)發(fā)和實(shí)驗(yàn)，旨在滿足納米圖案成形的需求，經(jīng)過(guò)了現(xiàn)場(chǎng)驗(yàn)證，能夠輕松從晶圓級(jí)樣品尺寸擴(kuò)展到大面積基板。去年六月，EVG推出了HERCULES?NIL300mm，將SmartNIL引入300-mm制造，滿足各種設(shè)備和應(yīng)用的生產(chǎn)需求，其中包括AR、MR和虛擬現(xiàn)實(shí)（VR）頭戴顯示設(shè)備的光學(xué)器件以及3D傳感器、生物醫(yī)療設(shè)備、納米光子學(xué)和等離子電子學(xué)。集成到SmartNIL?UV-NIL系統(tǒng)的全模塊化EVG?HERCULES?。
具體說(shuō)來(lái)就是，MOSFET能夠有效地產(chǎn)生電流流動(dòng)，因?yàn)闃?biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體制造技術(shù)旺旺不能精確控制住摻雜的水平（硅中摻雜以帶來(lái)或正或負(fù)的電荷），以確保跨各組件的通道性能的一致性。通常MOSFET是在一層二氧化硅（SiO2）襯底上，然后沉積一層金屬或多晶硅制成的。然而這種方法可以不精確且難以完全掌控，摻雜有時(shí)會(huì)泄到別的不需要的地方，那樣就創(chuàng)造出了所謂的“短溝道效應(yīng)”區(qū)域，并導(dǎo)致性能下降。一個(gè)典型MOSFET不同層級(jí)的剖面圖。不過(guò)威斯康星大學(xué)麥迪遜分校已經(jīng)同全美多個(gè)合作伙伴攜手（包括密歇根大學(xué)、德克薩斯大學(xué)、以及加州大學(xué)伯克利分校等），開(kāi)發(fā)出了能夠降低摻雜劑泄露以提升半導(dǎo)體品質(zhì)的新技術(shù)。研究人員通過(guò)電子束光刻工藝在表面上形成定制形狀和塑形，從而帶來(lái)更加“物理可控”的生產(chǎn)過(guò)程。（來(lái)自網(wǎng)絡(luò)。EVG ? 520 HE是熱壓印系統(tǒng)。
EVG ® 6200 NT是SmartNIL
UV納米壓印光刻系統(tǒng)。
用UV納米壓印能力設(shè)有EVG's專有SmartNIL通用掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)®技術(shù)范圍達(dá)150m。這些系統(tǒng)以其自動(dòng)化的靈活性和可靠性而著稱，以**小的占地面積提供了**
新的掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)。操作員友好型軟件，**短的掩模和工具更換時(shí)間以及高 效的全球服務(wù)和支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境（半自動(dòng)批量生產(chǎn)）的理想解決方案。該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并且可以選擇背面對(duì)準(zhǔn)。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻。此外，半自動(dòng)和全自動(dòng)系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術(shù)。
HERCULES NIL 300 mm提供市場(chǎng)上**納米壓印功能，具有較低的力和保形壓印，快速高功率曝光和平滑壓模分離。重慶納米壓印可以試用嗎
EVG的納米壓印設(shè)備括不同的單步壓印系統(tǒng)，大面積壓印機(jī)以及用于高 效母版制作的分步重復(fù)系統(tǒng)。原裝進(jìn)口納米壓印國(guó)內(nèi)代理
面板廠為補(bǔ)償較低的開(kāi)口率，多運(yùn)用在背光模塊搭載較多LED的技術(shù)，但此作法的缺點(diǎn)是用電量較高。若運(yùn)用NIL制程，可確保適當(dāng)?shù)拈_(kāi)口率，降低用電量。利用一般曝光設(shè)備也可在玻璃基板上形成偏光膜。然8代曝光設(shè)備一次可形成的圖樣面積較小。若要制造55吋面板，需要經(jīng)過(guò)數(shù)十次的曝光制程。不僅制程時(shí)間長(zhǎng)，經(jīng)過(guò)多次曝光后，在圖樣間會(huì)形成細(xì)微的縫隙，無(wú)法完整顯示影像。若將NIL技術(shù)應(yīng)用在5代設(shè)備，可一次形成55吋、60吋面板的偏光膜圖樣。在8代基板可制造6片55吋面板，6次的壓印接觸可處理完1片8代基板。南韓業(yè)者表示，在玻璃基板上形成偏光圖樣以提升質(zhì)量的生產(chǎn)制程，是LCD領(lǐng)域中***一個(gè)創(chuàng)新任務(wù)。若加速NIL制程導(dǎo)入LCD生產(chǎn)的時(shí)程，偏光膜企業(yè)的營(yíng)收可能減少。（來(lái)自網(wǎng)絡(luò)。原裝進(jìn)口納米壓印國(guó)內(nèi)代理
岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司位于中國(guó)(上海)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)加太路39號(hào)第五層六十五部位，擁有一支專業(yè)的技術(shù)團(tuán)隊(duì)。在岱美儀器技術(shù)服務(wù)近多年發(fā)展歷史，公司旗下現(xiàn)有品牌岱美儀器技術(shù)服務(wù)等。公司堅(jiān)持以客戶為中心、磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測(cè)試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國(guó)際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開(kāi)展經(jīng)營(yíng)活動(dòng)】磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測(cè)試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國(guó)際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開(kāi)展經(jīng)營(yíng)活動(dòng)】市場(chǎng)為導(dǎo)向，重信譽(yù)，保質(zhì)量，想客戶之所想，急用戶之所急，全力以赴滿足客戶的一切需要。誠(chéng)實(shí)、守信是對(duì)企業(yè)的經(jīng)營(yíng)要求，也是我們做人的基本準(zhǔn)則。公司致力于打造***的磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測(cè)試儀器的批發(fā)。