**的衍射波導設計商和制造商WaveOptics***宣布與EV Group(EVG)進行合作,EV Group是晶圓鍵合和納米壓印光刻設備的**供應商,以帶來高性能增強現實( AR)波導以當今業界*低的成本進入大眾市場。波導是可穿戴AR的關鍵光學組件。
WaveOptics首席執行官David Hayes評論:“這一合作伙伴關系標志著增強現實行業的轉折點,是大規模生產高質量增強現實解決方案的關鍵步驟,這是迄今為止尚無法實現的能力。” EVG的專業知識與我們可擴展的通用技術的結合將使到明年年底,AR終端用戶產品的市場價格將低于600美元。“這項合作是釋放AR可穿戴設備發展的關鍵;我們共同處于有利位置,可以在AR中引入大眾市場創新,以比以往更低的成本開辟了可擴展性的新途徑。” HERCULES ? NIL是完全集成SmartNIL ?的 UV-NIL紫外光納米壓印系統。EVG720納米壓印推薦產品
EVG ® 6200 NT特征:
頂部和底部對準能力
高精度對準臺
自動楔形補償序列
電動和程序控制的曝光間隙
支持***的UV-LED技術
**小化系統占地面積和設施要求
分步流程指導
遠程技術支持
多用戶概念(無限數量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)
敏捷處理和轉換工具
臺式或帶防震花崗巖臺的單機版
EVG ® 6200 NT附加功能:
鍵對準
紅外對準
智能NIL ®
μ接觸印刷技術數據
晶圓直徑(基板尺寸)
標準光刻:75至200 mm
柔軟的UV-NIL:75至200毫米
SmartNIL ®:**多至150mm
解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)
支持流程:軟UV-NIL&SmartNIL
®
曝光源:汞光源或紫外線LED光源
對準:軟NIL:≤±0.5 μm;SmartNIL ®:≤±3微米
自動分離:柔紫外線NIL:不支持;SmartNIL
®:支持
工作印章制作:柔軟的UV-NIL:外部;SmartNIL ®:支持
熱壓印納米壓印保修期多久EVG紫外光納米壓印系統還有:EVG?7200LA,HERCULES?NIL,EVG?770,IQAligner?等。
SmartNIL是行業**的NIL技術,可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化,并可以對各種結構尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術相結合,可實現****的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優勢,同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的SmartNIL兌現了納米壓印的長期前景,即納米壓印是一種用于大規模制造微米級和納米級結構的低成本,大批量替代光刻技術。
*分辨率取決于過程和模板
如果需要詳細的信息,請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。
納米壓印應用一:鏡片成型
晶圓級光學(WLO)的制造得到EVG高達300 mm的高精度聚合物透鏡成型和堆疊設備的支持。使用從晶片尺寸的主印模復制來的工作印模,通過軟UV壓印光刻將透鏡圖案轉移到光學聚合物材料中。EV Group提供混合和單片微透鏡成型工藝,可以輕松地適應各種材料組合,以用于工作印模和微透鏡材料。EVG系統是客戶進行大批量晶圓級鏡頭復制的優先。岱美作為EVG在中國區的代理商,歡迎各位聯系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。
EVG ? 6200 NT是SmartNIL UV紫外光納米壓印光刻系統。
納米壓印光刻設備-處理結果:
新應用程序的開發通常與設備功能的提高緊密相關。 EVG的NIL解決方案能夠產生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案,并在顯示器,生物技術和光子應用中實現了許多新的創新。HRI SmartNIL®壓印上的單個像素的1.AFM圖像壓印全息結構的AFM圖像
資料來源:EVG與SwissLitho
AG合作(歐盟項目SNM)
2.通過熱壓花在PMMA中復制微流控芯片
資料來源:EVG
3.高縱橫比(7:1)的10 μm柱陣列
由加拿大國家研究委 員會提供
4.L / S光柵具有優化的殘留層,厚度約為10 nm
資料來源:EVG
5.紫外線成型鏡片300 μm
資料來源:EVG
6.光子晶體用于LED的光提取
多晶硅的蜂窩織構化(mc-Si)
由Fraunhofer ISE提供
7.金字塔形結構50 μm
資料來源:EVG
8.**小尺寸的光模塊晶圓級封裝
資料來源:EVG
9.光子帶隙傳感器光柵
資料來源:EVG(歐盟Saphely項目)
10.在強光照射下對HRISmartNIL®烙印進行完整的晶圓照相
資料來源:EVG EVG770是用于步進重復納米壓印光刻的通用平臺,可用于進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。EVG610納米壓印高性價比選擇
SmartNIL技術可提供功能強大的下一代光刻技術,幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。EVG720納米壓印推薦產品
對于壓印工藝,EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到比較大直徑150 mm。納米技術應用的配置除了可編程的高和低接觸力外,還可以包括用于印章的釋放機構。EV Group專有的卡盤設計可提供均勻的接觸力,以實現高產量的壓印,該卡盤支持軟性和硬性印模。
EVG610特征:
頂部和底部對準能力
高精度對準臺
自動楔形誤差補償機制
電動和程序控制的曝光間隙
支持***的UV-LED技術
**小化系統占地面積和設施要求
分步流程指導
遠程技術支持
多用戶概念(無限數量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)
敏捷處理和光刻工藝之間的轉換
臺式或帶防震花崗巖臺的單機版
附加功能:
鍵對準
紅外對準
納米壓印光刻
μ接觸印刷
EVG720納米壓印推薦產品
岱美儀器技術服務(上海)有限公司位于中國(上海)自由貿易試驗區加太路39號第五層六十五部位,交通便利,環境優美,是一家其他型企業。是一家有限責任公司企業,隨著市場的發展和生產的需求,與多家企業合作研究,在原有產品的基礎上經過不斷改進,追求新型,在強化內部管理,完善結構調整的同時,良好的質量、合理的價格、完善的服務,在業界受到寬泛好評。公司業務涵蓋磁記錄,半導體,光通訊生產,測試儀器的批發,價格合理,品質有保證,深受廣大客戶的歡迎。岱美儀器技術服務自成立以來,一直堅持走正規化、專業化路線,得到了廣大客戶及社會各界的普遍認可與大力支持。