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EVG公司技術開發和IP總監Markus Wimplinger補充說：“我們開發新技術和工藝以應對*復雜的挑戰，幫助我們的客戶成功地將其新產品創意商業化。技術，我們創建了我們的NILPhotonics能力中心。“在具有保護客戶IP的強大政策的框架內，我們為客戶提供了從可行性到生產階段的產品開發和商業化支持。這正是我們***與AR領域的**者WaveOptics合作所要做的，以為*終客戶提供真正可擴展的解決方案。” EVG的NILPhotonics?能力中心框架內的協作開發工作旨在支持WaveOptics的承諾，即在工業，企業和消費者等所有主要市場領...

SmartNIL是行業**的NIL技術，可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化，并可以對各種結構尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術相結合，可實現****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的SmartNIL兌現了納米壓印的長期前景，即納米壓印是一種用于大規模制造微米級和納米級結構的低成本，大批量替代光刻技術。 注：*分辨率取決于過程和模板 如果需要詳細的信息，請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。 EVG開拓了這種非常規光刻技術，擁有多年技術，掌握了NIL，并已在不斷增長的基板尺寸上實現了批量生產。鏡片成型...

EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統。 用UV納米壓印能力為特色的EVG's專有SmartNIL通用掩模對準系統?技術，在100毫米范圍內。 EVG620 NT以其靈活性和可靠性而聞名，它以**小的占位面積提供了***的掩模對準技術。操作員友好型軟件，**短的掩模和模具更換時間以及有效的全球服務支持使它們成為任何研發環境（半自動批量生產）的理想解決方案。該工具支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，以及背面對準選項。此外，該系統還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻。此外，半自動和全自動系統配置均支持EVG專有的SmartNI...

納米壓印光刻（NIL）技術 EVG是納米壓印光刻（NIL）設備和集成工藝的市場**供應商。EVG從19年前的研究方法中率先并掌握了NIL，并實現了從2英寸化合物半導體晶圓到300 mm晶圓甚至大面積面板的各種尺寸基板的批量生產。NIL是產生納米尺度分辨率圖案的**有前途且相當有成本效益的工藝，可用于生物MEMS，微流體，電子學以及**近各種衍射光學元件的各種商業應用。 其中EVG紫外光納米壓印系統型號包含： EVG?610 EVG?620NT EVG?6200NT EVG?720 EVG?7200 EVG?7200LA HERCUL...

**的衍射波導設計商和制造商WaveOptics***宣布與EV Group（EVG）進行合作，EV Group是晶圓鍵合和納米壓印光刻設備的**供應商，以帶來高性能增強現實（ AR）波導以當今業界*低的成本進入大眾市場。波導是可穿戴AR的關鍵光學組件。 WaveOptics首席執行官David Hayes評論：“這一合作伙伴關系標志著增強現實行業的轉折點，是大規模生產高質量增強現實解決方案的關鍵步驟，這是迄今為止尚無法實現的能力。” EVG的專業知識與我們可擴展的通用技術的結合將使到明年年底，AR終端用戶產品的市場價格將低于600美元。“這項合作...

IQ Aligner?：用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統 ■用于光學元件的微成型應用 ■用于全場納米壓印應用 ■三個**控制的Z軸，用于控制壓印光刻膠的總厚度變化（TTV），并在壓模和基材之間實現出色的楔形補償 ■粘合對準和紫外線粘合功能 紫外線壓印_紫外線固化 印章 防紫外線基材 附加印記壓印納米結構分離印記 用紫外線可固化的光刻膠旋涂或滴涂基材。隨后，將壓模壓入光刻膠并在仍然接觸的情況下通過UV光交聯。 μ-接觸印刷 軟印章 基板上的材料 領取物料，物料轉移，刪除印章 IQ...

SmartNIL是行業**的NIL技術，可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化，并可以對各種結構尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術相結合，可實現****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的SmartNIL兌現了納米壓印的長期前景，即納米壓印是一種用于大規模制造微米級和納米級結構的低成本，大批量替代光刻技術。 注：*分辨率取決于過程和模板 如果需要詳細的信息，請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。 EVG?770可用于連續重復的納米壓印光刻技術，可進行有效的母版制作。江蘇實驗室納米壓印 EVG ? 51...

EVG ? 510 HE是EVG500系列的熱壓印系統 EV Group的一系列高精度熱壓印系統基于該公司市場**的晶圓鍵合技術。出色的壓力和溫度控制以及大面積的均勻性可實現高精度的壓印。熱壓印是一種經濟高 效且靈活的制造技術，對于尺寸低至50 nm的特征，其復制精度非常高。該系統非常適合將復雜的微結構和納米結構以及高縱橫比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中。壓模與基板對準的組合可將熱壓紋與預處理的基板結構對準。這個系列包含的型號有：EVG?510HE，EVG?520HE。 分步重復刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的Smart NIL工藝所需的母...

HERCULES ? NIL完全集成SmartNIL ?的 UV-NIL紫外光納米壓印系統。 EVG的HERCULES ? NIL產品系列 HERCULES ? NIL完全集成SmartNIL ? UV-NIL系統達200毫米 對于大批量制造的完全集成的納米壓印光刻解決方案，具有EVG's專有SmartNIL ?印跡技術 HERCULES NIL是完全集成的UV納米壓印光刻跟 蹤解決方案，適用于比較大200 mm的晶圓，是EVG的NIL產品組合的***成員。HERCULES NIL基于模塊化平臺，將EVG專有的SmartNIL壓印技...

SmartNIL技術簡介 SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術，可提供功能強大的下一代光刻技術，幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能，因此還可以實現****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本的優勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作功能。另外，主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當的時間。岱美作為EVG在中國區的代理商，歡迎各位聯系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。 EVG的EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統。天津納米壓印可以免稅嗎 EVG ? 520 HE熱壓印系...

SmartNIL技術簡介 SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術，可提供功能強大的下一代光刻技術，幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能，因此還可以實現****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本的優勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作功能。另外，主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當的時間。岱美作為EVG在中國區的代理商，歡迎各位聯系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。 EVG是納米壓印光刻（NIL）的市場**設備供應商。CMOS納米壓印推薦廠家 IQ Aligner UV-NIL特征： 用...

納米壓印光刻設備-處理結果： 新應用程序的開發通常與設備功能的提高緊密相關。 EVG的NIL解決方案能夠產生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案，并在顯示器，生物技術和光子應用中實現了許多新的創新。HRI SmartNIL?壓印上的單個像素的1.AFM圖像壓印全息結構的AFM圖像 資料來源：EVG與SwissLitho AG合作（歐盟項目SNM） 2.通過熱壓花在PMMA中復制微流控芯片 資料來源：EVG 3.高縱橫比（7：1）的10 μm柱陣列 由加拿大國家研究委 員會提供 4.L / S光柵具有優化的殘留層，厚度約為10 nm ...

EV Group的一系列高精度熱壓花系統基于該公司市場**的晶圓鍵合技術。出色的壓力和溫度控制以及大面積上的均勻性可實現高精度的壓印。熱壓印是一種經濟高 效且靈活的制造技術，具有非常高的復制精度，可用于**小50 nm的特征尺寸。該系統非常適合將復雜的微結構和納米結構以及高長寬比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中。 NILPhotonics?能力中心-支持和開發 NILPhotonics能力中心是經過驗證的創新孵化器。 歡迎各位客戶來樣制作，驗證EVG的納米壓印設備的性能。 EVG的納米壓印設備括不同的單步壓印系統，大面積壓印機以及用于高 效母版制作的...

通過中心提供的試驗生產線基礎設施，WaveOptics將超越其客戶對下個季度的預期需求，并有一條可靠的途徑將大批量生產工藝和設備轉移至能夠大規模生產波導的指定設施適用于全球前列OEM品牌。 WaveOptics與EVG的合作突顯了其致力于以可實現的價格提供高性能，商用波導來幫助客戶將AR顯示器推向市場的承諾。利用EVG在批量生產設備和工藝技術方面的專業知識，到2019年，AR終端用戶產品將以不到600美元的價格進入市場，這是當今行業中的*低價位。 EVG ? 720是自動SmartNIL ? UV紫外光納米壓印光刻系統。量產納米壓印保修期多久 納米壓...

納米壓印應用二：面板尺寸的大面積納米壓印 EVG專有的且經過大量證明的SmartNIL技術的***進展，已使納米圖案能夠在面板尺寸比較大為Gen 3（550 mm x 650 mm）的基板上實現。對于不能減小尺寸的顯示器，線柵偏振器，生物技術和光子元件等應用，至關重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率。 NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經濟、高 效的方法，因為它不受光學系統的限制，并且可以為**小的結構提供比較好的圖案保真度。岱美作為EVG在中國區的代理商，歡迎各位聯系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。 EVG620 NT是以其靈活性和可靠性而聞名的，因為它以...

納米壓印光刻設備-處理結果： 新應用程序的開發通常與設備功能的提高緊密相關。 EVG的NIL解決方案能夠產生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案，并在顯示器，生物技術和光子應用中實現了許多新的創新。HRI SmartNIL?壓印上的單個像素的1.AFM圖像壓印全息結構的AFM圖像 資料來源：EVG與SwissLitho AG合作（歐盟項目SNM） 2.通過熱壓花在PMMA中復制微流控芯片 資料來源：EVG 3.高縱橫比（7：1）的10 μm柱陣列 由加拿大國家研究委 員會提供 4.L / S光柵具有優化的殘留層，厚度約為10 nm ...

**的衍射波導設計商和制造商WaveOptics***宣布與EV Group（EVG）進行合作，EV Group是晶圓鍵合和納米壓印光刻設備的**供應商，以帶來高性能增強現實（ AR）波導以當今業界*低的成本進入大眾市場。波導是可穿戴AR的關鍵光學組件。 WaveOptics首席執行官David Hayes評論：“這一合作伙伴關系標志著增強現實行業的轉折點，是大規模生產高質量增強現實解決方案的關鍵步驟，這是迄今為止尚無法實現的能力。” EVG的專業知識與我們可擴展的通用技術的結合將使到明年年底，AR終端用戶產品的市場價格將低于600美元。“這項合作...

EVG ? 520 HE熱壓印系統 特色：經通用生產驗證的熱壓印系統，可滿足比較高要求 EVG520 HE半自動熱壓印系統設計用于對熱塑性基材進行高精度壓印。EVG的這種經過生產驗證的系統可以接受直徑比較大為200 mm的基板，并且與標準的半導體制造技術兼容。熱壓印系統配置有通用壓花腔室以及高真空和高接觸力功能，并管理適用于熱壓印的整個聚合物范圍。結合高縱橫比壓印和多種脫壓選項，提供了許多用于高質量圖案轉印和納米分辨率的工藝。 如果需要詳細的信息，請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。 SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能，因此還可以實現****的吞吐量。...

EVG ? 510 HE特征： 用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應用 自動化壓花工藝 EVG專有的**對準工藝，用于光學對準的壓印和壓印 完全由軟件控制的流程執行 閉環冷卻水供應選項 外部浮雕和冷卻站 EVG ? 510 HE技術數據： 加熱器尺寸：150毫米 ，200毫米 比較大基板尺寸：150毫米，200毫米 **小基板尺寸：單芯片，100毫米 比較大接觸力：10、20、60 kN 比較高溫度：標準：350°C；可選：550°C 夾盤系統/對準系統 150毫米加熱器：EVG ? 610，EVG ...

EVG ? 6200 NT是SmartNIL UV納米壓印光刻系統。 用UV納米壓印能力設有EVG's專有SmartNIL通用掩模對準系統?技術范圍達150m。這些系統以其自動化的靈活性和可靠性而著稱，以**小的占地面積提供了** 新的掩模對準技術。操作員友好型軟件，**短的掩模和工具更換時間以及高 效的全球服務和支持使它們成為任何研發環境（半自動批量生產）的理想解決方案。該工具支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并且可以選擇背面對準。此外，該系統還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻。此外，半自動和全自動系統配置均支持EVG專有的Sm...

EVG610特征： 頂部和底部對準能力 高精度對準臺 自動楔形誤差補償機制 電動和程序控制的曝光間隙 支持***的UV-LED技術 **小化系統占地面積和設施要求 分步流程指導 遠程技術支持 多用戶概念（無限數量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言） 敏捷處理和光刻工藝之間的轉換 臺式或帶防震花崗巖臺的單機版 EVG610附加功能： 鍵對準 紅外對準 納米壓印光刻 μ接觸印刷 EVG610技術數據： 晶圓直徑（基板尺寸） 標準光刻：比較大150...

EVG ? 520 HE熱壓印系統 特色：經通用生產驗證的熱壓印系統，可滿足比較高要求 EVG520 HE半自動熱壓印系統設計用于對熱塑性基材進行高精度壓印。EVG的這種經過生產驗證的系統可以接受直徑比較大為200 mm的基板，并且與標準的半導體制造技術兼容。熱壓印系統配置有通用壓花腔室以及高真空和高接觸力功能，并管理適用于熱壓印的整個聚合物范圍。結合高縱橫比壓印和多種脫壓選項，提供了許多用于高質量圖案轉印和納米分辨率的工藝。 如果需要詳細的信息，請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。 EVG的EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統。奧地利納...

EVG ? 720自動SmartNIL ? UV納米壓印光刻系統 自動全視野的UV納米壓印溶液達150毫米，設有EVG's專有SmartNIL ?技術 EVG720系統利用EVG的創新SmartNIL技術和材料專業知識，能夠大規模制造微米和納米級結構。具有SmartNIL技術的EVG720系統能夠在大面積上印刷小至40 nm *的納米結構，具有****的吞吐量，非常適合批量生產下一代微流控和光子器件，例如衍射光學元件（ DOEs）。 *分辨率取決于過程和模板 如果需要詳細的信息，請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。也可以訪問官網，獲得更多信息。...

EVG ? 720自動SmartNIL ? UV納米壓印光刻系統 自動全視野的UV納米壓印溶液達150毫米，設有EVG's專有SmartNIL ?技術 EVG720系統利用EVG的創新SmartNIL技術和材料專業知識，能夠大規模制造微米和納米級結構。具有SmartNIL技術的EVG720系統能夠在大面積上印刷小至40 nm *的納米結構，具有****的吞吐量，非常適合批量生產下一代微流控和光子器件，例如衍射光學元件（ DOEs）。 *分辨率取決于過程和模板 如果需要詳細的信息，請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。也可以訪問官網，獲得更多信息。...

EVG ? 510 HE是EVG500系列的熱壓印系統 EV Group的一系列高精度熱壓印系統基于該公司市場**的晶圓鍵合技術。出色的壓力和溫度控制以及大面積的均勻性可實現高精度的壓印。熱壓印是一種經濟高 效且靈活的制造技術，對于尺寸低至50 nm的特征，其復制精度非常高。該系統非常適合將復雜的微結構和納米結構以及高縱橫比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中。壓模與基板對準的組合可將熱壓紋與預處理的基板結構對準。這個系列包含的型號有：EVG?510HE，EVG?520HE。 SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術。中科院納米壓印供應商 納米壓印應用二：...

EVG ? 6200 NT特征： 頂部和底部對準能力 高精度對準臺 自動楔形補償序列 電動和程序控制的曝光間隙 支持***的UV-LED技術 **小化系統占地面積和設施要求 分步流程指導 遠程技術支持 多用戶概念（無限數量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言） 敏捷處理和轉換工具 臺式或帶防震花崗巖臺的單機版 EVG ? 6200 NT附加功能： 鍵對準 紅外對準 智能NIL ? μ接觸印刷技術數據 晶圓直徑（基板尺寸） 標準光刻：75至200 mm 柔...

SmartNIL是行業**的NIL技術，可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化，并可以對各種結構尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術相結合，可實現****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的SmartNIL兌現了納米壓印的長期前景，即納米壓印是一種用于大規模制造微米級和納米級結構的低成本，大批量替代光刻技術。 *分辨率取決于過程和模板 如果需要詳細的信息，請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。 HERCULES?NIL是完全集成的納米壓印光刻解決方案，可實現300 mm的大批量生產。廣西納米壓印三維芯片應用...

曲面基底上的納米結構在許多領域都有著重要應用，例如仿生學、柔性電子學和光學器件等。傳統的納米壓印技術通常采用剛性模板，可以實現亞10nm的分辨率，但是模板不能彎折，無法在曲面基底上壓印制備納米結構。而采用彈性模板的軟壓印技術可以在無外界提供壓力下與曲面保形接觸，實現結構在非平面基底上的壓印復制，但是由于彈性模板的楊氏模量較低，所以壓印結構的分辨率和精度都受到限制。基于目前納米壓印的發展現狀，結合傳統的納米壓印技術和軟壓印技術，中國科學院光電技術研究所團隊發展了一種基于紫外光固化巰基-烯材料的亞100nm分辨率的復合軟壓印模板的制備方法，該模板包含剛性結構層和彈性基底層。（來自網絡，侵權請聯...

EVG ? 610 紫外線納米壓印光刻系統 具有紫外線納米壓印功能的通用研發掩膜對準系統，從碎片到比較大150毫米。 該工具支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并且可以選擇背面對準。此外，該系統還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻（NIL）。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具，以改變用戶需求，光刻和NIL之間的轉換時間*為幾分鐘。其先進的多用戶概念可以適應從初學者到**級別的所有需求，因此使其成為大學和研發應用程序的理想選擇。 HERCULES?NIL是完全集成的納米壓印光刻解決方案，可實現300 mm的大批量生產。內蒙古納米壓...

EVG ? 520 HE熱壓印系統 特色：經通用生產驗證的熱壓印系統，可滿足比較高要求 EVG520 HE半自動熱壓印系統設計用于對熱塑性基材進行高精度壓印。EVG的這種經過生產驗證的系統可以接受直徑比較大為200 mm的基板，并且與標準的半導體制造技術兼容。熱壓印系統配置有通用壓花腔室以及高真空和高接觸力功能，并管理適用于熱壓印的整個聚合物范圍。結合高縱橫比壓印和多種脫壓選項，提供了許多用于高質量圖案轉印和納米分辨率的工藝。 如果需要詳細的信息，請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。 EVG620 NT是以其靈活性和可靠性而聞名的，因為它以**小的占位面積提供了**...