HERCULES ® NIL特征:
全自動UV-NIL壓印和低力剝離
**多300毫米的基材
完全模塊化的平臺,具有多達八個可交換過程模塊(壓印和預處理)
200毫米/ 300毫米橋接工具能力
全區域烙印覆蓋
批量生產**小40 nm或更小的結構
支持各種結構尺寸和形狀,包括3D
適用于高地形(粗糙)表面
*分辨率取決于過程和模板
HERCULES ® NIL技術數據:
晶圓直徑(基板尺寸):100至200毫米/ 200和300毫米
解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)
支持流程:SmartNIL ®
曝光源:大功率LED(i線)> 400 mW /cm2
對準:≤±3微米
自動分離:支持的
前處理:提供所有預處理模塊
迷你環境和氣候控制:可選的
工作印章制作:支持的
SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術。晶圓納米壓印特點
首先準備一塊柔性薄膜作為彈性基底層,然后將巰基-烯預聚物旋涂在具有表面結構的母板上,彈性薄膜壓印在巰基-烯層上,與材料均勻接觸。巰基-烯材料可以在自然環境中固化通過“點擊反應”形成交聯聚合物,不受氧氣和水的阻聚作用。順利分離開母板后,彈性薄膜與固化后的巰基-烯層緊密連接在一起,獲得雙層結構的復合柔性模板。由于良好的材料特性,剛性巰基-烯結構層可以實現較高的分辨率。因此,利用該方法可以制備高 分辨的復合柔性模板,經過表面防粘處理后可以作為軟壓印模板使用。該研究利用新方法制備了以PDMS和PET為彈性基底的亞100nm線寬的光柵結構復合軟壓印模板。相關研究成果發表于《納米科技與納米技術雜志》(JournalofNanoscienceandNanotechnology)。(來自網絡。大面積納米壓印美元價EVG ? 520 HE是熱壓印系統。
該公司的高科技粘合劑以功能與可靠性聞名于世。根據客戶的專門需求,公司對這些聚合物作出調整,使其具備其它特征。它們極其適合工業環境,在較短的生產周期時間內粘合各種微小的元件。此外,DELO紫外線LED固化設備與點膠閥的可靠度十分杰出。關于德路德路(DELO)是世界前列的工業粘合劑制造商,總部位于德國慕尼黑附近的Windach。在美國、中國、新加坡及日本均設有子公司。2019財政年,公司的780名員工創造了。該公司產品在全球范圍內廣泛應用于汽車、消費類電子產品與工業電子產品。幾乎每一部智能手機與超過一半的汽車上都使用該公司產品。DELO的客戶包括博世、戴姆勒、華為、歐司朗、西門子以及索尼等。關于EVGroup(EVG)EV集團(EVG)是為生產半導體、微機電系統(MEMS)、化合物半導體、功率器件以及納米技術器件制造提供設備與工藝解決方案的**供應商。該公司主要產品包括晶圓鍵合、薄晶圓處理、光刻/納米壓印光刻技術(NIL)與計量設備,,以及涂膠機、清洗機與檢測系統。EV集團創辦于1980年,可為遍及全球的眾多客戶與合作伙伴提供各類服務與支持。
SmartNIL是一項關鍵的啟用技術,可用于顯示器,生物技術和光子應用中的許多新創新。例如,SmartNIL提供了****的全區域共形壓印,以便滿足面板基板上線柵偏振器的**重要標準。SmartNIL還非常適合對具有復雜納米結構的微流控芯片進行高精度圖案化,以支持下一代藥 物研究和醫學診斷設備的生產。此外,SmartNIL的***發展為制造具有比較高功能,**小外形尺寸和大體積創新型光子結構提供了更多的自由度,這對于實現衍射光學元件(DOE)至關重要。
特征:
體積驗證的壓印技術,具有出色的復制保真度
專有SmartNIL ®技術,多使用聚合物印模技術
經過生產驗證的分辨率低至40 nm或更小
大面積全場壓印
總擁有成本比較低
在地形上留下印記
對準能力
室溫過程
開放式材料平臺 EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT是具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統。
EVG ® 620 NT是智能NIL ® UV納米壓印光刻系統。
用UV納米壓印能力為特色的EVG's專有SmartNIL通用掩模對準系統®技術,在100毫米范圍內。
EVG620 NT以其靈活性和可靠性而聞名,它以**小的占位面積提供了***的掩模對準技術。操作員友好型軟件,**短的掩模和模具更換時間以及有效的全球服務支持使它們成為任何研發環境(半自動批量生產)的理想解決方案。該工具支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,以及背面對準選項。此外,該系統還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對準和納米壓印光刻。此外,半自動和全自動系統配置均支持EVG專有的SmartNIL技術。
EV Group的一系列高精度熱壓花系統是基于該公司市場**的晶圓鍵合技術。重慶半導體設備納米壓印
EVG620 NT是以其靈活性和可靠性而聞名的,因為它以**小的占位面積提供了***的掩模對準技術。晶圓納米壓印特點
納米壓印光刻(NIL) -SmartNIL ®
用于大批量生產的大面積軟UV納米壓印光刻工藝
介紹:
EVG是納米壓印光刻(NIL)的市場**設備供應商。EVG開拓了這種非常規光刻技術多年,掌握了NIL并已在不斷增長的基板尺寸上實現了批量生產。EVG的專有SmartNIL技術通過多年的研究,開發和現場經驗進行了優化,以解決常規光刻無法滿足的納米圖案要求。SmartNIL可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印結果。
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晶圓納米壓印特點
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