EVG ® 7200 LA特征:
專有SmartNIL ®技術,提供了****的印跡形大面積
經過驗證的技術,具有出色的復制保真度和均勻性
多次使用的聚合物工作印模技術可延長母版使用壽命并節省大量成本
強大且精確可控的處理
與所有市售的壓印材料兼容
EVG ® 7200 LA技術數據:
晶圓直徑(基板尺寸):直徑200毫米(比較大Gen3)(550 x 650毫米)
解析度:40 nm-10 μm(分辨率取決于模板和工藝)
支持流程:SmartNIL ®
曝光源:大功率窄帶(> 400 mW /cm2)
對準:可選的光學對準:≤±15 μm
自動分離:支持的
迷你環境和氣候控制:可選的
工作印章制作:支持的
SmartNIL技術可提供功能強大的下一代光刻技術,幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。安徽中科院納米壓印
UV納米壓印光刻系統
EVG®610/EVG®620NT /EVG®6200NT:具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統
■高精度對準臺
■自動楔形誤差補償機制
■電動和程序控制的曝光間隙
■支持***的UV-LED技術
■**小化系統占地面積和設施要求
EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA:自動化的全場納米壓印解決方案,適用于第3代基材
■體積驗證的壓印技術,具有出色的復制保真度
■專有的SmartNIL®技術和多用途聚合物印章技術
■集成式壓印,UV固化,脫模和工作印模制作
■盒帶間自動處理以及半自動研發模式
■適用于所有市售壓印材料的開放平臺
實驗室納米壓印有誰在用岱美作為EVG在中國區的代理商,歡迎各位聯系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。
EV Group的一系列高精度熱壓花系統基于該公司市場**的晶圓鍵合技術。出色的壓力和溫度控制以及大面積上的均勻性可實現高精度的壓印。熱壓印是一種經濟高 效且靈活的制造技術,具有非常高的復制精度,可用于**小50 nm的特征尺寸。該系統非常適合將復雜的微結構和納米結構以及高長寬比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中。
NILPhotonics®能力中心-支持和開發
NILPhotonics能力中心是經過驗證的創新孵化器。
歡迎各位客戶來樣制作,驗證EVG的納米壓印設備的性能。
納米壓印光刻(NIL) -SmartNIL ®
用于大批量生產的大面積軟UV納米壓印光刻工藝
介紹:
EVG是納米壓印光刻(NIL)的市場**設備供應商。EVG開拓了這種非常規光刻技術多年,掌握了NIL并已在不斷增長的基板尺寸上實現了批量生產。EVG的專有SmartNIL技術通過多年的研究,開發和現場經驗進行了優化,以解決常規光刻無法滿足的納米圖案要求。SmartNIL可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印結果。
如果要獲得詳細信息,請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司或者訪問官網。
納米壓印設備哪個好?預墨印章可用于將材料以明顯的圖案轉移到基材上。
EVG ® 770特征:
微透鏡用于晶片級光學器件的高 效率制造主下降到納米結構為SmartNIL ®
簡單實施不同種類的大師
可變抗蝕劑分配模式
分配,壓印和脫模過程中的實時圖像
用于壓印和脫模的原位力控制
可選的光學楔形誤差補償
可選的自動盒帶間處理
EVG ® 770技術數據:
晶圓直徑(基板尺寸):100至300毫米
解析度:≤50 nm(分辨率取決于模板和工藝)
支持流程:柔軟的UV-NIL
曝光源:大功率LED(i線)> 100 mW /cm2
對準:頂側顯微鏡,用于實時重疊校準≤±500 nm和精細校準≤±300 nm
較早印刷模具到模具的放置精度:≤1微米
有效印記區域:長達50 x 50毫米
自動分離:支持的
前處理:涂層:液滴分配(可選)
EVG先進的多用戶概念可以適應從初學者到**級別的所有需求,因此使其成為大學和研發應用程序的理想選擇。EVG7200LA納米壓印美元報價
SmartNIL的主要技術是可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印結果。安徽中科院納米壓印
EVG ® 510 HE是EVG500系列的熱壓印系統
EV Group的一系列高精度熱壓印系統基于該公司市場**的晶圓鍵合技術。出色的壓力和溫度控制以及大面積的均勻性可實現高精度的壓印。熱壓印是一種經濟高
效且靈活的制造技術,對于尺寸低至50 nm的特征,其復制精度非常高。該系統非常適合將復雜的微結構和納米結構以及高縱橫比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中。壓模與基板對準的組合可將熱壓紋與預處理的基板結構對準。這個系列包含的型號有:EVG®510HE,EVG®520HE。 安徽中科院納米壓印
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