F54包含的內容: 集成光譜儀/光源裝置 MA-Cmount 安裝轉接器 顯微鏡轉接器光纖連接線BK7 參考材料TS-Focus-SiO2-4-10000 厚度標準 聚焦/厚度標準4", 6" and 200mm 參考晶圓真空泵備用燈 型號厚度范圍*波長范圍 F54:20nm-40μm 380-850nm F54-UV:4nm-30μm 190-1100nm F54-NIR:40nm-100μm 950-1700nm F54-EXR:20nm-100μm 380-1700nm F54-UVX:4nm-100μm...
測量有機發光顯示器有機發光顯示器 (OLEDs)有機發光顯示器正迅速從實驗室轉向大規模生產。明亮,超薄,動態的特性使它們成為從手機到電視顯示屏的優先。組成顯示屏的多層薄膜的精密測量非常重要,但不能用傳統接觸型的輪廓儀,因為它會破壞顯示屏表面。我們的F20-UV,F40-UV,和F10-RT-UV將提供廉價,可靠,非侵入測量原型裝置和全像素化顯示屏。我們的光譜儀還可以測量大氣敏感材料的化學變化。 測量透明導電氧化膜不論是銦錫氧化物,氧化鋅,還是聚合物(3,4-乙烯基),我們獨有的ITO光學模型,加上可見/近紅外儀器,可以測得厚度和光學常數,費用和操作難度*是光譜橢偏儀的一小部分。 所...
樣品視頻包括硬件和照相機的F20系統視頻。視頻實時顯示精確測量點。 不包括SS-3平臺。SampleCam-sXsX探頭攝像機包含改裝的sX探頭光學配件,但不包含平臺。StageBase-XY8-Manual-40mm8“×8” 樣品平臺,具有SS-3鏡頭與38mm的精密XY平移聚焦平臺。能夠升級成電動測繪與自動對焦。StageBase-XY10-Auto-100mm10“×10” 全電動樣品平臺。可以進行100mm高精度XY平移,包括自動焦距調節。SS-Microscope- UVX-1顯微鏡(15倍反射式物鏡)及X-Y平臺。 包含UV光源與照明光纖。SS-Microscope- EXR-1...
測量眼科設備涂層厚度光譜反射率可用于測量眼鏡片減反射 (AR) 光譜和殘余顏色,以及硬涂層和疏水層的厚度。 減反涂層減反涂層用來減少眩光以及無涂層鏡片導致的眼睛疲勞。 減反鏡片的藍綠色彩也吸引了眾多消費者。 因此,測量和控制減反涂層及其色彩就變得越來越重要了。 FilmetricsF10-AR是專門為各類眼鏡片設計的,配備多種獨特功能用于減反涂層檢測。硬涂層硬涂層用來增加抗劃痕和抗紫外線的能力。 在鏡片上涂抹硬涂層,就提供了這種保護,而減反涂層則是不太柔軟的較硬鍍層。 FilmetricsF10-AR配備了硬涂層測量升級軟件。 可以測量厚達15微米的一層或兩層硬涂...
其可測量薄膜厚度在1nm到1mm之間,測量精度高達1埃,測量穩定性高達,測量時間只需一到二秒,并有手動及自動機型可選。可應用領域包括:生物醫學(Biomedical),液晶顯示(Displays),硬涂層(Hardcoats),金屬膜(Metal),眼鏡涂層(Ophthalmic),聚對二甲笨(Parylene),電路板(PCBs&PWBs),多孔硅(PorousSilicon),光阻材料(ThickResist),半導體材料(Semiconductors),太陽光伏(Solarphotovoltaics),真空鍍層(VacuumCoatings),圈筒檢查(Webinspection...
參考材料 備用 BK7 和二氧化硅參考材料。 BG-Microscope顯微鏡系統內取背景反射的小型抗反光鏡 BG-F10-RT平臺系統內獲取背景反射的抗反光鏡 REF-Al-1mmSubstrate基底 - 高反射率鋁基準 REF-Al-3mmSubstrate基底 - 高反射率鋁基準 REF-BK71?" x 1?" BK7 反射基準。 REF-F10RT-FusedSilica-2Side背面未經處理的石英,用于雙界面基準。 REF-Si-22" 單晶硅晶圓 REF-Si-44" 單晶硅晶圓 REF-Si-66" 單晶硅晶圓...
銦錫氧化物與透明導電氧化物液晶顯示器,有機發光二極管變異體,以及絕大多數平面顯示器技術都依靠透明導電氧化物 (TCO) 來傳輸電流,并作每個發光元素的陽極。 和任何薄膜工藝一樣,了解組成顯示器各層物質的厚度至關重要。 對于液晶顯示器而言,就需要有測量聚酰亞胺和液晶層厚度的方法,對有機發光二極管而言,則需要測量發光、電注入和封裝層的厚度。 在測量任何多個層次的時候,諸如光譜反射率和橢偏儀之類的光學技術需要測量或建模估算每一個層次的厚度和光學常數 (反射率和 k 值)。 不幸的是,使得氧化銦錫和其他透明導電氧化物在顯示器有用的特性,同樣使這些薄膜層難以測量和建模,從而使測量在...
光刻膠)polyerlayers(高分子聚合物層)polymide(聚酰亞胺)polysilicon(多晶硅)amorphoussilicon(非晶硅)基底實例:對于厚度測量,大多數情況下所要求的只是一塊光滑、反射的基底。對于光學常數測量,需要一塊平整的鏡面反射基底;如果基底是透明的,基底背面需要進行處理使之不能反射。包括:silicon(硅)glass(玻璃)aluminum(鋁)gaas(砷化鎵)steel(鋼)polycarbonate(聚碳酸脂)polymerfilms(高分子聚合物膜)應用半導體制造液晶顯示器光學鍍膜photoresist光刻膠oxides氧化物nitride...
厚度測量產品:我們的膜厚測量產品可適用于各種應用。我們大部分的產品皆備有庫存以便快速交貨。請瀏覽本公司網頁產品資訊或聯系我們的應用工程師針對您的厚度測量需求提供立即協助。 單點厚度測量: 一鍵搞定的薄膜厚度和折射率臺式測量系統。 測量 1nm 到 13mm 的單層薄膜或多層薄膜堆。 大多數產品都有庫存而且可立即出貨。 F20全世界銷量**hao的薄膜測量系統。有各種不同附件和波長覆蓋范圍。 微米(顯微)級別光斑尺寸厚度測量當測量斑點只有1微米(μm)時,需要用您自己的顯微鏡或者用我們提供的整個系統。 F50測厚范圍:20nm-70μm;波長:380-1...
參考材料 備用 BK7 和二氧化硅參考材料。 BG-Microscope顯微鏡系統內取背景反射的小型抗反光鏡 BG-F10-RT平臺系統內獲取背景反射的抗反光鏡 REF-Al-1mmSubstrate基底 - 高反射率鋁基準 REF-Al-3mmSubstrate基底 - 高反射率鋁基準 REF-BK71?" x 1?" BK7 反射基準。 REF-F10RT-FusedSilica-2Side背面未經處理的石英,用于雙界面基準。 REF-Si-22" 單晶硅晶圓 REF-Si-44" 單晶硅晶圓 REF-Si-66" 單晶硅晶圓...
1、激光測厚儀是利用激光的反射原理,根據光切法測量和觀察機械制造中零件加工表面的微觀幾何形狀來測量產品的厚度,是一種非接觸式的動態測量儀器。它可直接輸出數字信號與工業計算機相連接,并迅速處理數據并輸出偏差值到各種工業設備。2、X射線測厚儀利用X射線穿透被測材料時,X射線的強度的變化與材料的厚度相關的特性,滄州歐譜從而測定材料的厚度,是一種非接觸式的動態計量儀器。它以PLC和工業計算機為**,采集計算數據并輸出目標偏差值給軋機厚度控制系統,達到要求的軋制厚度。主要應用行業:有色金屬的板帶箔加工、冶金行業的板帶加工。3、紙張測厚儀:適用于4mm以下的各種薄膜、紙張、紙板以及其他片狀材料厚...
平臺和平臺附件標準和**平臺。 CS-1可升級接觸式SS-3樣品臺,可測波長范圍190-1700nm SS-36“×6” 樣品平臺,F20 系統的標準配置。 可調節鏡頭高度,103 mm 進深。 適用所有波長范圍。 SS-3-88“×8” 樣品平臺。可調節鏡頭高度,139mm 進深。 適用所有波長范圍。 SS-3-24F20 的 24“×24” 樣品平臺。 可調節鏡頭高度,550mm 進深。 適用所有波長范圍。 SS-56" x 6" 吋樣品臺,具有可調整焦距的反射光學配件,需搭配具有APC接頭的光纖,全波長范圍使用 樣品壓重-SS-3-50 樣品...
硬涂層厚度測量Filmetrics 系統在汽車和航空工業得到廣泛應用,用于測量硬涂層和其他保護性薄膜的厚度。F10-HC 是為彎曲表面和多層薄膜 (例如, 底涂/硬涂層) 而專門設計的。 汽車前燈在汽車前燈組件的制造中需要進行多點測量,因為涂層厚度對于品質至關重要。 外側硬涂層和聚碳酸酯鏡頭內側的防霧層以及反射器上的涂層的厚度都是很重要的。 這些用途中的每一項是特殊的挑戰,而 Filmetrics 已經開發出軟件、硬件和應用知識以便為用戶提供正確的解決方案。 測量范例帶HC選項的F10-AR收集測量厚度的反射率信息。這款儀器采用光學接觸探頭,它的設計降低了背面反射。接觸探頭安置...
濾光片整平光譜響應。 ND#0.5 衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見光光譜均勻度 + ND#0.5 衰減整平濾波器. ND#1 衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見光光譜均勻度 + ND#1 衰減整平濾波器. ND#2 衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見光光譜均勻度 + ND#2 衰減整平濾波器. 420nm 高通濾波器.420nm 高通濾波器於濾波器架. 515nm 高通濾波器.515nm 高通濾波器於濾波器架. 520nm 高通濾波器 +ND1.520nm 高通濾波器 + ND#1 十倍衰減整平濾波器. 520nm 高通...
電介質成千上萬的電解質薄膜被用于光學,半導體,以及其它數十個行業, 而Filmetrics的儀器幾乎可以測量所有的薄膜。常見的電介質有:二氧化硅 – **簡單的材料之一, 主要是因為它在大部分光譜上的無吸收性 (k=0), 而且非常接近化學計量 (就是說,硅:氧非常接近 1:2)。 受熱生長的二氧化硅對光譜反應規范,通常被用來做厚度和折射率標準。 Filmetrics能測量3nm到1mm的二氧化硅厚度。氮化硅 – 對此薄膜的測量比很多電介質困難,因為硅:氮比率通常不是3:4, 而且折射率一般要與薄膜厚度同時測量。 更麻煩的是,氧常常滲入薄膜,生成一定程度的氮氧化硅,增大測量難度。 但是幸運的是,...
F3-sX 系列: F3-sX 系列能測量半導體與介電層薄膜厚度到3毫米,而這種較厚的薄膜與較薄的薄膜相比往往粗糙且均勻度較為不佳 波長選配F3-sX系列使用近紅外光來測量薄膜厚度,即使有許多肉眼看來不透光(例如半導體)。 F3-s980 是波長為980奈米的版本,是為了針對成本敏銳的應用而設計,F3-s1310是針對重摻雜硅片的**jia化設計,F3-s1550則是為了**厚的薄膜設計。附件附件包含自動化測繪平臺,一個影像鏡頭可看到量測點的位置以及可選配可見光波長的功能使厚度測量能力**薄至15奈米。 一般較短波長 (例如, F50-UV) 可用于測量較薄的薄膜,而較長波長可以測量...
F20系列是世界上****的臺式薄膜厚度測量系統,只需按下一個按鈕,不到一秒鐘即可同時測量厚度和折射率。設置也非常簡單,只需把設備連接到您運行Windows?系統的計算機USB端口,并連接樣品平臺就可以了。F20系列不同型號的選擇,主要取決于您需要測量的薄膜厚度(確定所需的波長范圍)。型號厚度范圍*波長范圍F2015nm-70μm380-1050nmF20-EXR15nm-250μm380-1700nmF20-NIR100nm-250μm950-1700nmF20-UV1nm-40μm190-1100nmF20-UVX1nm-250μm190-1700nmF20-XTμm-450μm14...
濾光片整平光譜響應。 ND#0.5 衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見光光譜均勻度 + ND#0.5 衰減整平濾波器. ND#1 衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見光光譜均勻度 + ND#1 衰減整平濾波器. ND#2 衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見光光譜均勻度 + ND#2 衰減整平濾波器. 420nm 高通濾波器.420nm 高通濾波器於濾波器架. 515nm 高通濾波器.515nm 高通濾波器於濾波器架. 520nm 高通濾波器 +ND1.520nm 高通濾波器 + ND#1 十倍衰減整平濾波器. 520nm 高通...
FSM 413 紅外干涉測量設備 關鍵詞:厚度測量,光學測厚,非接觸式厚度測量,硅片厚度,氮化硅厚度,激光測厚,近紅外光測厚,TSV, CD, Trench,砷化鎵厚度,磷化銦厚度,玻璃厚度測量,石英厚度,聚合物厚度, 背磨厚度,上下兩個測試頭。Michaelson干涉法,翹曲變形。 如果您對該產品感興趣的話,可以給我留言! 產品名稱:紅外干涉厚度測量設備 · 產品型號:FSM 413EC, FSM 413MOT,FSM 413SA DP,FSM413C2C, FSM 8108 VITE C2C 如果您需要更多的信息,請聯系我們岱美儀器。 ...
F50 系列 包含的內容:集成光譜儀/光源裝置光纖電纜4", 6" and 200mm 參考晶圓TS-SiO2-4-7200 厚度標準BK7 參考材料整平濾波器 (用于高反射基板)真空泵備用燈 型號 厚度范圍*波長范圍 F50:20nm-70μm 380-1050nm F50-UV:5nm-40μm 190-1100nm F50-NIR:100nm-250μm 950-1700nm F50-EXR:20nm-250μm 380-1700nm F50-UVX:5nm-250μm 190-1700nm F50-XT:0.2μm-450μm 144...
F30包含的內容:集成光譜儀/光源裝置光斑尺寸10微米的單點測量平臺FILMeasure 8反射率測量軟件Si 參考材料FILMeasure **軟件 (用于遠程數據分析) 額外的好處:每臺系統內建超過130種材料庫, 隨著不同應用更超過數百種應用工程師可立刻提供幫助(周一 - 周五)網上的 “手把手” 支持 (需要連接互聯網)硬件升級計劃 型號厚度范圍*波長范圍 F3-s 980:10μm - 1mm 960-1000nm F3-s1310:15μm - 2mm 1280-1340nm F3-s1550:25μm - 3mm 1520-1580nm ...
Filmetrics 的技術Filmetrics 提供了范圍***的測量生物醫療涂層的方案:支架: 支架上很小的涂層區域通常需要顯微鏡類的儀器。 我們的 F40 在幾十個實驗室內得到使用,測量鈍化和/或藥 物輸送涂層。我們有獨特的測量系統對整個支架表面的自動厚度測繪,只需在測量時旋轉支架。植入件: 在測量植入器件的涂層時,不規則的表面形狀通常是***挑戰。 Filmetrics 提供這一用途的全系列探頭。導絲和導引針: 和支架一樣,這些器械常常可以用象 F40 這樣的顯微鏡儀器。導液管和血管成型球囊的厚度:大于 100 微米的厚度和可見光譜不透明性決定了 F20-NIR 是這一用途方面全世界眾...
氚燈電腦要求60mb硬盤空間50mb空閑內存usb接口電源要求100-240vac,50-60hz,a選配以下鏡頭,就可在F20的基礎上升級為新一代的F70膜厚測量儀。鏡頭配件厚度范圍(Index=)精度光斑大小UPG-F70-SR-KIT15nm-50μmnm標配mm(可選配下至20μm)LA-CTM-VIS-1mm50μmmμm5μm150μmmμm10μm產品應用,在可測樣品基底上有了極大的飛躍:●幾乎所有材料表面上的鍍膜都可以測量,即使是藥片,木材或紙張等粗糙的非透明基底。●玻璃或塑料的板材、管道和容器。●光學鏡頭和眼科鏡片。Filmetrics光學膜厚測量儀經驗**無出其右F...
測量有機發光顯示器有機發光顯示器 (OLEDs)有機發光顯示器正迅速從實驗室轉向大規模生產。明亮,超薄,動態的特性使它們成為從手機到電視顯示屏的優先。組成顯示屏的多層薄膜的精密測量非常重要,但不能用傳統接觸型的輪廓儀,因為它會破壞顯示屏表面。我們的F20-UV,F40-UV,和F10-RT-UV將提供廉價,可靠,非侵入測量原型裝置和全像素化顯示屏。我們的光譜儀還可以測量大氣敏感材料的化學變化。 測量透明導電氧化膜不論是銦錫氧化物,氧化鋅,還是聚合物(3,4-乙烯基),我們獨有的ITO光學模型,加上可見/近紅外儀器,可以測得厚度和光學常數,費用和操作難度*是光譜橢偏儀的一小部分。 F...
F40 系列將您的顯微鏡變成薄膜測量工具F40 產品系列用于測量小到 1 微米的光斑。 對大多數顯微鏡而言,F40 能簡單地固定在 c 型轉接器上,這樣的轉接器是顯微鏡行業標準配件。 F40 配備的集成彩色攝像機,能夠對測量點進行準確監控。 在 1 秒鐘之內就能測定厚度和折射率。 像我們所有的臺式儀器一樣,F40 需要連接到您裝有 Windows 計算機的 USB 端口上并在數分鐘內完成設定。 F40:20nm-40μm 400-850nm F40-EXR:20nm-120μm 400-1700nm F40-NIR:40nm-120μm 950-1700nm ...
FSM膜厚儀簡單介紹: FSM 128 厚度以及TSV和翹曲變形測試設備: 美國Frontier Semiconductor(FSM)成立于1988年,總部位于圣何塞,多年來為半導體行業等高新行業提供各式精密的測量設備,客戶遍布全世界, 主要產品包括:光學測量設備: 三維輪廓儀、拉曼光譜、 薄膜應力測量設備、 紅外干涉厚度測量設備、電學測量設備:高溫四探針測量設備、非接觸式片電阻及 漏電流測量設備、金屬污染分析、等效氧化層厚度分析 (EOT)。 請訪問我們的中文官網了解更多的信息。 一般較短波長 (例如, F50-UV) 可用于測量較薄的薄膜,而較長波長可以測量更厚...
F20系列是世界上****的臺式薄膜厚度測量系統,只需按下一個按鈕,不到一秒鐘即可同時測量厚度和折射率。設置也非常簡單,只需把設備連接到您運行Windows?系統的計算機USB端口,并連接樣品平臺就可以了。F20系列不同型號的選擇,主要取決于您需要測量的薄膜厚度(確定所需的波長范圍)。型號厚度范圍*波長范圍F2015nm-70μm380-1050nmF20-EXR15nm-250μm380-1700nmF20-NIR100nm-250μm950-1700nmF20-UV1nm-40μm190-1100nmF20-UVX1nm-250μm190-1700nmF20-XTμm-450μm14...
鏡頭組件Filmetrics 提供幾十種不同鏡頭配置。訂制專門用途 的鏡片一般在幾天之內可以完成。 LA-GL25-25-30-EXR用于 60-1000mm 工作距離的直徑 1" 鏡頭組件,30mm 焦距鏡頭。KM-GL25用于直徑 1" 鏡頭的簡化動力支架。 可以在兩個軸上斜向調節。 8-32 安裝螺紋。KM-F50用于直徑 0.5" 鏡頭的簡化動力支架。 還可以用于 F50。可提供不同的鏡頭組合。LA-F50/SS-13-20-UVX小光斑 (200um) 選項,可見光, 近紅外或紫外線。 如果您想要了解更多的信息,請聯系我們岱美儀器。 F40-UV范圍:4nm-40μm...