納米壓印光刻（NIL） -SmartNIL ®
用于大批量生產的大面積軟UV納米壓印光刻工藝
介紹：
EVG是納米壓印光刻（NIL）的市場**設備供應商。EVG開拓了這種非常規光刻技術多年，掌握了NIL并已在不斷增長的基板尺寸上實現了批量生產。EVG的專有SmartNIL技術通過多年的研究，開發和現場經驗進行了優化，以解決常規光刻無法滿足的納米圖案要求。SmartNIL可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印結果。
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EVG紫外光納米壓印系統有： EVG?610，EVG?620NT，EVG?6200NT，EVG?720，EVG?7200等。量產納米壓印當地價格
通過中心提供的試驗生產線基礎設施，WaveOptics將超越其客戶對下個季度的預期需求，并有一條可靠的途徑將大批量生產工藝和設備轉移至能夠大規模生產波導的指定設施適用于全球前列OEM品牌。
WaveOptics與EVG的合作突顯了其致力于以可實現的價格提供高性能，商用波導來幫助客戶將AR顯示器推向市場的承諾。利用EVG在批量生產設備和工藝技術方面的專業知識，到2019年，AR終端用戶產品將以不到600美元的價格進入市場，這是當今行業中的*低價位。 江蘇納米壓印可以免稅嗎EVG提供不同的***積壓印系統，大面積壓印機，微透鏡成型設備以及用于高 效母版制作的分步重復系統。
HERCULES ® NIL完全模塊化和集成SmartNIL ® UV-NIL系統達300毫米
結合EVG的SmartNIL一個完全模塊化平臺®技術支持AR / VR，3D傳感器，光子和生物技術生產應用
EVG的HERCULES NIL 300 mm是一個完全集成的跟 蹤系統，將清潔，抗蝕劑涂層和烘烤預處理步驟與EVG專有的SmartNIL大面積納米壓印光刻（NIL）工藝結合在一個平臺上，用于直徑比較大為300 mm的晶圓。它是***個基于EVG的全模塊化設備平臺和可交換模塊的NIL系統，可為客戶提供比較大的自由度來配置他們的系統，以比較好地滿足其生產需求，包括200 mm和300 mm晶圓的橋接功能。
SmartNIL是行業**的NIL技術，可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化，并可以對各種結構尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術相結合，可實現****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的SmartNIL兌現了納米壓印的長期前景，即納米壓印是一種用于大規模制造微米級和納米級結構的低成本，大批量替代光刻技術。
注：*分辨率取決于過程和模板
如果需要詳細的信息，請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。 分步重復刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的Smart NIL工藝所需的母版。
納米壓印微影技術可望優先導入LCD面板領域原本計劃應用在半導體生產制程的納米壓印微影技術(Nano-ImpLithography；NIL)，現將率先應用在液晶顯示器(LCD)制程中。NIL為次世代圖樣形成技術。據ETNews報導，南韓顯示器面板企業LCD制程研發小組，未確認NIL設備實際圖樣形成能力，直接參訪海外NIL設備廠。該制程研發小組透露，若引進相關設備，將可提升面板性能。并已展開具體供貨協商。NIL是以刻印圖樣的壓印機，像蓋章般在玻璃基板上形成圖樣的制程。在基板上涂布UV感光液后，再以壓印機接觸施加壓力，印出面板圖樣。之后再經過蝕刻制程形成圖樣。NIL可在LCD玻璃基板上刻印出偏光圖樣，不需再另外貼附偏光薄膜。雖然在面板制程中需增加NIL、蝕刻制程，但省落偏光膜貼附制程，可維持同樣的生產成本。偏光膜會吸收部分光線降低亮度。若在玻璃基板上直接形成偏光圖樣，將不會發生降低亮度的情況。通常面板分辨率越高，因配線較多，較難確保開口率(ApertureRatio)。EVG高達300 mm的高精度聚合物透鏡成型和堆疊設備支持晶圓級光學（WLO）的制造。IQAligner納米壓印服務為先
EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT是具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統。量產納米壓印當地價格
SmartNIL是行業**的NIL技術，可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化，并可以對各種結構尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術相結合，可實現****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的SmartNIL兌現了納米壓印的長期前景，即納米壓印是一種用于大規模制造微米級和納米級結構的低成本，大批量替代光刻技術。
*分辨率取決于過程和模板
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