首先準備一塊柔性薄膜作為彈性基底層，然后將巰基-烯預聚物旋涂在具有表面結構的母板上，彈性薄膜壓印在巰基-烯層上，與材料均勻接觸。巰基-烯材料可以在自然環境中固化通過“點擊反應”形成交聯聚合物，不受氧氣和水的阻聚作用。順利分離開母板后，彈性薄膜與固化后的巰基-烯層緊密連接在一起，獲得雙層結構的復合柔性模板。由于良好的材料特性，剛性巰基-烯結構層可以實現較高的分辨率。因此，利用該方法可以制備高 分辨的復合柔性模板，經過表面防粘處理后可以作為軟壓印模板使用。該研究利用新方法制備了以PDMS和PET為彈性基底的亞100nm線寬的光柵結構復合軟壓印模板。相關研究成果發表于《納米科技與納米技術雜志》（JournalofNanoscienceandNanotechnology）。（來自網絡。EVG提供不同的***積壓印系統，大面積壓印機，微透鏡成型設備以及用于高 效母版制作的分步重復系統。EVG6200NT納米壓印國內用戶

EVG610特征：

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形誤差補償機制

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術

**小化系統占地面積和設施要求

分步流程指導

遠程技術支持

多用戶概念（無限數量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）

敏捷處理和光刻工藝之間的轉換

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版

EVG610附加功能：

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻 

μ接觸印刷

EVG610技術數據：

晶圓直徑（基板尺寸）

標準光刻：比較大150毫米的碎片

柔軟的UV-NIL：比較大150毫米的碎片

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL

曝光源：汞光源或紫外線LED光源

自動分離：不支持

工作印章制作：外部

奧地利納米壓印試用EVG的EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統。

納米壓印光刻（NIL）技術

EVG是納米壓印光刻（NIL）設備和集成工藝的市場**供應商。EVG從19年前的研究方法中率先并掌握了NIL，并實現了從2英寸化合物半導體晶圓到300 mm晶圓甚至大面積面板的各種尺寸基板的批量生產。NIL是產生納米尺度分辨率圖案的**有前途且相當有成本效益的工藝，可用于生物MEMS，微流體，電子學以及**近各種衍射光學元件的各種商業應用。

其中EVG紫外光納米壓印系統型號包含：

EVG®610

EVG®620NT

EVG®6200NT

EVG®720

EVG®7200

EVG®7200LA

HERCULES®NIL

EVG®770

IQAligner®

熱壓納米壓抑系統型號包含：

EVG®510HE

EVG®520HE

詳細的參數，請聯系我們岱美有限公司。

HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

®的 UV-NIL紫外光納米壓印系統。

EVG的HERCULES ® NIL產品系列

HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

® UV-NIL系統達200毫米

對于大批量制造的完全集成的納米壓印光刻解決方案，具有EVG's專有SmartNIL ®印跡技術

HERCULES NIL是完全集成的UV納米壓印光刻跟 蹤解決方案，適用于比較大200 mm的晶圓，是EVG的NIL產品組合的***成員。HERCULES

NIL基于模塊化平臺，將EVG專有的SmartNIL壓印技術與清潔，抗蝕劑涂層和烘烤預處理步驟相結合。這將HERCULES NIL變成了“一站式服務”，將裸露的晶圓裝載到工具中，然后將經過完全處理的納米結構晶圓退回。 SmartNIL技術可提供功能強大的下一代光刻技術，幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。

曲面基底上的納米結構在許多領域都有著重要應用，例如仿生學、柔性電子學和光學器件等。傳統的納米壓印技術通常采用剛性模板，可以實現亞10nm的分辨率，但是模板不能彎折，無法在曲面基底上壓印制備納米結構。而采用彈性模板的軟壓印技術可以在無外界提供壓力下與曲面保形接觸，實現結構在非平面基底上的壓印復制，但是由于彈性模板的楊氏模量較低，所以壓印結構的分辨率和精度都受到限制。基于目前納米壓印的發展現狀，結合傳統的納米壓印技術和軟壓印技術，中國科學院光電技術研究所團隊發展了一種基于紫外光固化巰基-烯材料的亞100nm分辨率的復合軟壓印模板的制備方法，該模板包含剛性結構層和彈性基底層。（來自網絡，侵權請聯系我們進行刪除，謝謝！） SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能，因此還可以實現****的吞吐量。三維芯片納米壓印競爭力怎么樣

EVG的熱壓印是一種經濟高 效且靈活的制造技術，具有非常高的復制精度，可用于**小50 nm的特征尺寸。EVG6200NT納米壓印國內用戶

    EV集團和肖特攜手合作，證明300-MM光刻/納米壓印技術在大體積增強現實/混合現實玻璃制造中已就緒聯合工作將在EVG的NILPhotonics?能力中心開展，這是一個開放式的光刻/納米壓印（NIL）技術創新孵化器，同時也是全球***可及的300-mm光刻/納米壓印技術線2019年8月28日，奧地利，圣弗洛里安――微機電系統（MEMS）、納米技術和半導體市場晶圓鍵合與光刻設備**供應商EV集團（EVG）***宣布，與特種玻璃和微晶玻璃領域的**技術集團肖特攜手合作，證明300-mm（12英寸）光刻/納米壓印（NIL）技術在下一代增強現實/混合現實（AR/MR）頭戴顯示設備的波導/光導制造中使用的高折射率（HRI）玻璃晶圓的大體積圖案成形已就緒。此次合作涉及EVG的專有SmartNIL?工藝和SCHOTTRealView?高折射率玻璃晶圓，將在EVG位于奧地利總部的NILPhotonics?能力中心進行。肖特將于9月4日至7日在深圳會展中心舉行的中國國際光電博覽會上展示一款采用EVGSmartNIL技術進行圖案成形的300-mmSCHOTTRealView?玻璃晶圓。300-mm和200-mmSCHOTTRealView?玻璃基板，裝配在應用SmartNIL?UV-NIL技術的EVG?HERCULES?。EVG6200NT納米壓印國內用戶

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