2）共聚焦顯微鏡方法
共聚焦顯微鏡包括LED光源、旋轉多***盤、帶有壓電驅動器的物鏡和CCD相機。LED光源通過多***盤（MPD）和物鏡聚焦到樣品表面上，從而反射光。反射光通過MPD的***減小到聚焦的部分落在CCD相機上。傳統光學顯微鏡的圖像包含清晰和模糊的細節，但是在共焦圖像中，通過多***盤的操作濾除模糊細節（未聚焦），只有來自聚焦平面的光到達CCD相機。因此，共聚焦顯微鏡能夠在納米范圍內獲得高 分辨率。 每個共焦圖像是通過樣品的形貌的水平切片，在不同的焦點高度捕獲圖像產生這樣的圖像的堆疊，共焦顯微鏡通過壓電驅動器和物鏡的精確垂直位移來實現。200到400個共焦圖像通常在幾秒內被捕獲，之后軟件從共焦圖像的堆棧重建精確的三維高度圖像。 輪廓儀可用于藍寶石拋光工藝表面粗糙度分析（粗拋與精拋比較）。Nano X-3000輪廓儀廠家
輪廓儀的物鏡知多少?
白光干涉輪廓儀是基于白光干涉原理，以三維非接觸時方法測量分析樣片表面形貌的關鍵參數和尺寸，典型結果包括：
表面形貌（粗糙度，平面度，平行度，臺階高度，錐角等）
幾何特征（關鍵孔徑尺寸，曲率半徑，特征區域的面積和集體，特征圖形的位置和數量等）
白光干涉系統基于無限遠顯微鏡系統，通過干涉物鏡產生干涉條紋，使基本的光學顯微鏡系統變為白光干涉儀。
因此物鏡是輪廓儀****的部件，
物鏡的選擇根據功能和檢測的精度提出需求，為了滿足各種精度的需求，需要提供各種物鏡，例如標配的10×， 還有2.5×，5×，20×，50×，100×，可選。
不同的鏡頭價格有很大的差別，因此需要量力根據需求選配對應的鏡頭哦。
輪廓儀在晶圓的IC封裝中的應用：
晶圓的IC制造過程可簡單看作是將光罩上的電路圖通過UV刻蝕到鍍膜和感光層后的硅晶圓上這一過程，其中由于光罩中電路結構尺寸極小，任何微小的黏附異物和下次均會導致制造的晶圓IC表面存在缺 陷，因此必須對光罩和晶圓的表面輪廓進行檢測，檢測相應的輪廓尺寸。 PSI輪廓儀研發可以用嗎但是在共焦圖像中，通過多***盤的操作濾除模糊細節（未聚焦），只有來自聚焦平面的光到達CCD相機。
輪廓儀對所測樣品的尺寸有何要求？
答：輪廓儀對載物臺xy行程為140*110mm（可擴展），Z向測量范圍比較大可達10mm，但由于白光干涉儀單次測量區域比較小（以10X鏡頭為例，在1mm左右），因而在測量大尺寸的樣品時，全檢的方式需要進行拼接測量，檢測效率會比較低，建議尋找樣品表 面的特征位置或抽取若干區域進行抽點檢測，以單點或多點反映整個面的粗糙度參數；
4.測量的**小尺寸是否可以達到12mm，或者能夠測到更小的尺寸？
如果需要了解更多，請訪問官網。
一、從根源保障物件成品的準確性：
通過光學表面三維輪廓儀的掃描檢測，得出物件的誤差和超差參數，**提高物件在生產加工時的精確度。杜絕因上游的微小誤差形成“蝴蝶效應”，造成下游生產加工的更大偏離，**終導致整個生產鏈更大的損失。
二、提高效率：
智能化檢測，全自動測量，檢測時只需將物件放置在載物臺，然后在檢定軟件上選擇相關參數，即可一鍵分析批量測量。擯棄傳統檢測方法耗時耗力，精確度低的缺點，**提高加工效率。 包含了從納米到微米級別的輪廓、線粗糙度、面粗糙度等二維、三維參數，作為評定該物件是否合格的標準。
白光干涉輪廓儀對比激光共聚焦輪廓儀
白光干涉3D顯微鏡：
干涉面成像，
多層垂直掃描
比較好高度測量精度：< 1nm
高度精度不受物鏡影響
性價比好
激光共聚焦3D顯微鏡：
點掃描合成面成像，
多層垂直掃描
Keyence（日本）
比較好高度測量精度：～10nm
高度精度由物鏡決定，1um精度@10倍
90萬-130萬
三維光學輪廓儀采用白光軸向色差原理（性能優于白光干涉輪廓儀與激光干涉輪廓儀）對樣品表面進行快速、重復性高、高 分辨率的三維測量，測量范圍可從納米級粗糙度到毫米級的表面形貌，臺階高度，給MEMS、半導體材料、太陽能電池、醫療工程、制藥、生物材料，光學元件、陶瓷和先進材料的研發和生產提供了一個精確的、價格合理的計量方案。（來自網絡） 視場范圍：560×750um（10×物鏡） 具體視場范圍取決于所配物鏡及 CCD 相機 。Nano X-3000輪廓儀廠家
輪廓儀可用于：微結構均勻性 缺 陷，表面粗糙度。Nano X-3000輪廓儀廠家
NanoX-8000 3D輪廓測量主要技術參數
3D測量主要技術指標（1）：
測量模式： PSI + VSI + CSI
Z軸測量范圍： 大行程PZT 掃描 （300um 標配/500um選配）
10mm 精密電機拓展掃描
CCD相機： 1920x1200 高速相機（標配）
干涉物鏡： 2.5X, 5X, 10X（標配）, 20X, 50X, 100X(NIKON )
物鏡切換： 5孔電動鼻切換 FOV： 1100x700um(10X物鏡), 220x140um(50X物鏡)
Z軸聚焦： 高精密直線平臺自動聚焦
照明系統： 高 效長壽白光LED + 濾色鏡片電動切換（綠色/藍色）
傾斜調節： ±5°電動調節
橫向分辨率： ≥0.35μm（與所配物鏡有關）
3D測量主要技術指標（2）：
垂直掃描速度： PSI : <10s，VSI/CSI：< 38um/s
高度測量范圍： 0.1nm – 10mm
表面反射率： > 0.5%
測量精度: PSI: 垂直分辨率 < 0.1nm
準確度 < 1nm
RMS重復性 < 0.01nm (1σ)
臺階高重復性：0.15nm(1σ)
VSI/CSI：垂直分辨率 < 0.5nm
準確度<1%
重復性<0.1% (1σ，10um臺階高) Nano X-3000輪廓儀廠家
岱美儀器技術服務（上海）有限公司專注技術創新和產品研發，發展規模團隊不斷壯大。公司目前擁有專業的技術員工，為員工提供廣闊的發展平臺與成長空間，為客戶提供高質的產品服務，深受員工與客戶好評。公司業務范圍主要包括：磁記錄，半導體，光通訊生產，測試儀器的批發等。公司奉行顧客至上、質量為本的經營宗旨，深受客戶好評。公司深耕磁記錄，半導體，光通訊生產，測試儀器的批發，正積蓄著更大的能量，向更廣闊的空間、更寬泛的領域拓展。