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測厚儀膜厚儀鍍膜行業(yè)

來源: 發(fā)布時間:2020-11-20

非晶態(tài)多晶硅硅元素以非晶和晶體兩種形式存在, 在兩級之間是部分結(jié)晶硅。部分結(jié)晶硅又被叫做多晶硅。


非晶硅和多晶硅的光學(xué)常數(shù)(n和k)對不同沉積條件是獨特的,必須有精確的厚度測量。 測量厚度時還必須考慮粗糙度和硅薄膜結(jié)晶可能的風化。

Filmetrics 設(shè)備提供的復(fù)雜的測量程序同時測量和輸出每個要求的硅薄膜參數(shù), 并且“一鍵”出結(jié)果。

測量范例多晶硅被***用于以硅為基礎(chǔ)的電子設(shè)備中。這些設(shè)備的效率取決于薄膜的光學(xué)和結(jié)構(gòu)特性。隨著沉積和退火條件的改變,這些特性隨之改變,所以準確地測量這些參數(shù)非常重要。監(jiān)控晶圓硅基底和多晶硅之間,加入二氧化硅層,以增加光學(xué)對比,其薄膜厚度和光學(xué)特性均可測得。F20可以很容易地測量多晶硅薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù),以及二氧化硅夾層厚度。Bruggeman光學(xué)模型被用來測量多晶硅薄膜光學(xué)特性。


F50-UV測厚范圍:5nm-40μm;波長:190-1100nm。測厚儀膜厚儀鍍膜行業(yè)

    1、激光測厚儀是利用激光的反射原理,根據(jù)光切法測量和觀察機械制造中零件加工表面的微觀幾何形狀來測量產(chǎn)品的厚度,是一種非接觸式的動態(tài)測量儀器。它可直接輸出數(shù)字信號與工業(yè)計算機相連接,并迅速處理數(shù)據(jù)并輸出偏差值到各種工業(yè)設(shè)備。2、X射線測厚儀利用X射線穿透被測材料時,X射線的強度的變化與材料的厚度相關(guān)的特性,滄州歐譜從而測定材料的厚度,是一種非接觸式的動態(tài)計量儀器。它以PLC和工業(yè)計算機為**,采集計算數(shù)據(jù)并輸出目標偏差值給軋機厚度控制系統(tǒng),達到要求的軋制厚度。主要應(yīng)用行業(yè):有色金屬的板帶箔加工、冶金行業(yè)的板帶加工。3、紙張測厚儀:適用于4mm以下的各種薄膜、紙張、紙板以及其他片狀材料厚度的測量。4、薄膜測厚儀:用于測定薄膜、薄片等材料的厚度,測量范圍寬、測量精度高,具有數(shù)據(jù)輸出、任意位置置零、公英制轉(zhuǎn)換、自動斷電等特點。5、涂層測厚儀:用于測量鐵及非鐵金屬基體上涂層的厚度.6、超聲波測厚儀:超聲波測厚儀是根據(jù)超聲波脈沖反射原理來進行厚度測量的,當探頭發(fā)射的超聲波脈沖通過被測物體到達材料分界面時,脈沖被反射回探頭,通過精確測量超聲波在材料中傳播的時間來確定被測材料的厚度。中芯國際膜厚儀報價F30-UV測厚范圍:3nm-40μm;波長:190-1100nm。

鏡頭組件Filmetrics 提供幾十種不同鏡頭配置。訂制專門用途 的鏡片一般在幾天之內(nèi)可以完成。

LA-GL25-25-30-EXR用于 60-1000mm 工作距離的直徑 1" 鏡頭組件,30mm 焦距鏡頭。KM-GL25用于直徑 1" 鏡頭的簡化動力支架。 可以在兩個軸上斜向調(diào)節(jié)。 8-32 安裝螺紋。KM-F50用于直徑 0.5" 鏡頭的簡化動力支架。 還可以用于 F50。可提供不同的鏡頭組合。LA-F50/SS-13-20-UVX小光斑 (200um) 選項,可見光, 近紅外或紫外線。

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不管您參與對顯示器的基礎(chǔ)研究還是制造,F(xiàn)ilmetrics 都能夠提供您所需要的...測量液晶層- 聚酰亞胺、硬涂層、液晶、間隙測量有機發(fā)光二極管層- 發(fā)光、電注入、緩沖墊、封裝對于空白樣品,我們建議使用 F20 系列儀器。 對于圖案片,F(xiàn)ilmetrics的F40用于測量薄膜厚度已經(jīng)找到了顯示器應(yīng)用***使用。

測量范例此案例中,我們成功地測量了藍寶石和硼硅玻璃基底上銦錫氧化物薄膜厚度。與Filmetrics專有的ITO擴散模型結(jié)合的F10-RTA-EXR儀器,可以很容易地在380納米到1700納米內(nèi)同時測量透射率和反射率以確定厚度,折射率,消光系數(shù)。由于ITO薄膜在各種基底上不同尋常的的擴散,這個擴展的波長范圍是必要的。 F30測厚范圍:15nm-70μm;波長:380-1050nm。

電介質(zhì)成千上萬的電解質(zhì)薄膜被用于光學(xué),半導(dǎo)體,以及其它數(shù)十個行業(yè), 而Filmetrics的儀器幾乎可以測量所有的薄膜。常見的電介質(zhì)有:二氧化硅 – **簡單的材料之一, 主要是因為它在大部分光譜上的無吸收性 (k=0), 而且非常接近化學(xué)計量 (就是說,硅:氧非常接近 1:2)。 受熱生長的二氧化硅對光譜反應(yīng)規(guī)范,通常被用來做厚度和折射率標準。 Filmetrics能測量3nm到1mm的二氧化硅厚度。氮化硅 – 對此薄膜的測量比很多電介質(zhì)困難,因為硅:氮比率通常不是3:4, 而且折射率一般要與薄膜厚度同時測量。 更麻煩的是,氧常常滲入薄膜,生成一定程度的氮氧化硅,增大測量難度。 但是幸運的是,我們的系統(tǒng)能在幾秒鐘內(nèi) “一鍵” 測量氮化硅薄膜完整特征!監(jiān)測控制生產(chǎn)過程中移動薄膜厚度。高達100 Hz的采樣率可以在多個測量位置得到。聚對二甲苯膜厚儀原產(chǎn)地

幾乎任何形狀的樣品厚度和折射率的自動測繪。人工加載或機器人加載均可。測厚儀膜厚儀鍍膜行業(yè)

F50 系列

包含的內(nèi)容:集成光譜儀/光源裝置光纖電纜4", 6" and 200mm 參考晶圓TS-SiO2-4-7200 厚度標準BK7 參考材料整平濾波器 (用于高反射基板)真空泵備用燈

型號 厚度范圍*波長范圍

F50:20nm-70μm 380-1050nm

F50-UV:5nm-40μm 190-1100nm

F50-NIR:100nm-250μm 950-1700nm

F50-EXR:20nm-250μm 380-1700nm

F50-UVX:5nm-250μm 190-1700nm

F50-XT:0.2μm-450μm 1440-1690nm

F50-s980:4μm-1mm 960-1000nm

F50-s1310:7μm-2mm 1280-1340nm

F50-s1550:10μm-3mm 1520-1580nm

額外的好處:每臺系統(tǒng)內(nèi)建超過130種材料庫, 隨著不同應(yīng)用更超過數(shù)百種應(yīng)用工程師可立刻提供幫助(周一 - 周五)網(wǎng)上的 “手把手” 支持 (需要連接互聯(lián)網(wǎng))硬件升級計劃 測厚儀膜厚儀鍍膜行業(yè)

岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗區(qū)加太路39號第五層六十五部位,交通便利,環(huán)境優(yōu)美,是一家其他型企業(yè)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)是一家有限責任公司企業(yè),一直“以人為本,服務(wù)于社會”的經(jīng)營理念;“誠守信譽,持續(xù)發(fā)展”的質(zhì)量方針。公司業(yè)務(wù)涵蓋磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā),價格合理,品質(zhì)有保證,深受廣大客戶的歡迎。岱美儀器技術(shù)服務(wù)以創(chuàng)造***產(chǎn)品及服務(wù)的理念,打造高指標的服務(wù),引導(dǎo)行業(yè)的發(fā)展。

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