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中科院納米壓印技術服務

來源: 發布時間:2020-11-07

EVG ® 6200 NT是SmartNIL

UV納米壓印光刻系統。


用UV納米壓印能力設有EVG's專有SmartNIL通用掩模對準系統®技術范圍達150m。這些系統以其自動化的靈活性和可靠性而著稱,以**小的占地面積提供了**

新的掩模對準技術。操作員友好型軟件,**短的掩模和工具更換時間以及高 效的全球服務和支持使它們成為任何研發環境(半自動批量生產)的理想解決方案。該工具支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并且可以選擇背面對準。此外,該系統還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對準和納米壓印光刻。此外,半自動和全自動系統配置均支持EVG專有的SmartNIL技術。


EVG ? 610也可以設計成紫外線納米壓印光刻系統。中科院納米壓印技術服務

客戶示范

■工藝開發

■材料測試

■與合作伙伴共同研發

■資助項目

■小批量試生產

■IP管理

■過程技術許可證

■流程培訓

→世界前列的潔凈室基礎設施

→**的設備

→技術**

→**計量

→工藝知識

→應用知識

→與NIL的工作印模材料和表面化學有關的化學專業知識


新應用程序的開發通常與設備功能的提高緊密相關。 EVG的NIL解決方案能夠產生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案,并在顯示器,生物技術和光子應用中實現了許多新的創新。

岱美作為EVG在中國區的代理商,歡迎各位聯系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。


湖北納米壓印技術服務納米壓印設備可用來進行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。

    NIL300mmEV集團企業技術開發和知識產權總監MarkusWimplinger表示:“EVG的NILPhotonics能力中心成立于2014年,為光刻/納米壓印技術供應鏈中的各個合作伙伴和公司與EVG合作提供了一個開放式的創新孵化器,從而縮短創新光子器件和應用的開發周期和上市時間。我們很高興與肖特公司合作,證明EVG光刻/納米壓印技術解決方案的價值,不僅有助于新技術和新工藝的開發,還能夠加速新技術和新工藝在大眾市場中的采用。我們正在攜手肖特開展的工作,彰顯了光刻/納米壓印技術設備和工藝的成熟性,為各種令人興奮的基于光子學的新產品和新應用的300-mm制造奠定了基礎?!盨CHOTTRealView?高折射率玻璃晶圓是**AR/MR設備的關鍵組件,已經實現了批量生產。產品組合提供了高達,支持深度沉浸的AR/MR應用,視野更廣,高達65度。在與增強現實硬件制造商進行多年研發之后,肖特在2018年推出了***代SCHOTTRealView?。這款**產品在上市一年后便榮獲了享有盛譽的2019年SID顯示行業獎(SIDDisplayIndustryAward2019)。關于肖特肖特是特種玻璃、微晶玻璃和相關高科技材料領域的**國際技術集團。公司積累了超過130年的經驗,是眾多行業的創新合作伙伴。

為了優化工藝鏈,HERCULES NIL中包括多次使用的軟印章的制造,這是大批量生產的基石,不需要額外的壓印印章制造設備。作為一項特殊功能,該工具可以升級為具有ISO 3 *功能的微型環境,以確保比較低的缺 陷率和比較高質量的原版復制。

通過為大批量生產提供完整的NIL解決方案,HERCULES NIL增強了EVG在***積NIL設備解決方案中的領導地位。

*根據ISO 14644


HERCULES ® NIL特征:

批量生產**小40 nm *或更小的結構

聯合預處理(清潔/涂層/烘烤/寒意)和SmartNIL ®

體積驗證的壓印技術,具有出色的復制保真度

全自動壓印和受控的低力分離,可很大程度地重復使用工作印章

包括工作印章制造能力

高功率光源,固化時間**快

優化的模塊化平臺可實現高吞吐量


*分辨率取決于過程和模板 EV Group提供混合和單片微透鏡成型工藝,能夠輕松地適應各種材料組合,以用于工作印模和微透鏡材料。

納米壓印光刻(NIL)技術

EVG是納米壓印光刻(NIL)設備和集成工藝的市場**供應商。EVG從19年前的研究方法中率先并掌握了NIL,并實現了從2英寸化合物半導體晶圓到300 mm晶圓甚至大面積面板的各種尺寸基板的批量生產。NIL是產生納米尺度分辨率圖案的**有前途且相當有成本效益的工藝,可用于生物MEMS,微流體,電子學以及**近各種衍射光學元件的各種商業應用。


其中EVG紫外光納米壓印系統型號包含:

EVG®610

EVG®620NT

EVG®6200NT

EVG®720

EVG®7200

EVG®7200LA

HERCULES®NIL

EVG®770

IQAligner®


熱壓納米壓抑系統型號包含:

EVG®510HE

EVG®520HE


詳細的參數,請聯系我們岱美有限公司。


分步重復刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的Smart NIL工藝所需的母版。江蘇納米壓印值得買

EVG ? 7200是自動SmartNIL ? UV納米壓印光刻系統。中科院納米壓印技術服務

EVG ® 510 HE特征:

用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應用

自動化壓花工藝

EVG專有的**對準工藝,用于光學對準的壓印和壓印

完全由軟件控制的流程執行

閉環冷卻水供應選項

外部浮雕和冷卻站


EVG ® 510 HE技術數據:

加熱器尺寸:150毫米 ,200毫米

比較大基板尺寸:150毫米,200毫米

**小基板尺寸:單芯片,100毫米

比較大接觸力:10、20、60 kN

比較高溫度:標準:350°C;可選:550°C

夾盤系統/對準系統

150毫米加熱器:EVG ® 610,EVG ® 620,EVG ® 6200

200毫米加熱器:EVG ® 6200,MBA300,的Smart View ® NT

真空:

標準:0.1毫巴


可選:0.00001 mbar


中科院納米壓印技術服務

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