EVG ® 7200 LA特征:
專有SmartNIL ®技術,提供了****的印跡形大面積
經過驗證的技術,具有出色的復制保真度和均勻性
多次使用的聚合物工作印模技術可延長母版使用壽命并節省大量成本
強大且精確可控的處理
與所有市售的壓印材料兼容
EVG ® 7200 LA技術數據:
晶圓直徑(基板尺寸):直徑200毫米(比較大Gen3)(550 x 650毫米)
解析度:40 nm-10 μm(分辨率取決于模板和工藝)
支持流程:SmartNIL ®
曝光源:大功率窄帶(> 400 mW /cm2)
對準:可選的光學對準:≤±15 μm
自動分離:支持的
迷你環境和氣候控制:可選的
工作印章制作:支持的
EVG770是用于步進重復納米壓印光刻的通用平臺,可用于進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。江蘇納米壓印當地價格
EVG公司技術開發和IP總監Markus Wimplinger補充說:“我們開發新技術和工藝以應對*復雜的挑戰,幫助我們的客戶成功地將其新產品創意商業化。技術,我們創建了我們的NILPhotonics能力中心。“在具有保護客戶IP的強大政策的框架內,我們為客戶提供了從可行性到生產階段的產品開發和商業化支持。這正是我們***與AR領域的**者WaveOptics合作所要做的,以為*終客戶提供真正可擴展的解決方案?!?
EVG的NILPhotonics®能力中心框架內的協作開發工作旨在支持WaveOptics的承諾,即在工業,企業和消費者等所有主要市場領域釋放AR在大眾市場的應用,并遵循公司模塊計劃的推出。 全域納米壓印應用EVG提供不同的***積壓印系統,大面積壓印機,微透鏡成型設備以及用于高 效母版制作的分步重復系統。
IQ Aligner UV-NIL特征:
用于光學元件的微成型應用
用于全場納米壓印應用
三個**控制的Z軸,可在印模和基材之間實現出色的楔形補償
三個**控制的Z軸,用于壓印抗蝕劑的總厚度變化(TTV)控制
利用柔軟的印章進行柔軟的UV-NIL工藝
EVG專有的全自動浮雕功能
抵抗分配站集成
粘合對準和紫外線粘合功能
IQ Aligner UV-NIL技術數據:
晶圓直徑(基板尺寸):150至300毫米
解析度:≤50 nm(分辨率取決于模板和工藝)
支持流程:柔軟的UV-NIL,鏡片成型
曝光源:汞光源
對準:≤±0.5微米
自動分離:支持的
前處理:涂層:水坑點膠(可選)
迷你環境和氣候控制:可選的
工作印章制作:支持的
NIL300mmEV集團企業技術開發和知識產權總監MarkusWimplinger表示:“EVG的NILPhotonics能力中心成立于2014年,為光刻/納米壓印技術供應鏈中的各個合作伙伴和公司與EVG合作提供了一個開放式的創新孵化器,從而縮短創新光子器件和應用的開發周期和上市時間。我們很高興與肖特公司合作,證明EVG光刻/納米壓印技術解決方案的價值,不僅有助于新技術和新工藝的開發,還能夠加速新技術和新工藝在大眾市場中的采用。我們正在攜手肖特開展的工作,彰顯了光刻/納米壓印技術設備和工藝的成熟性,為各種令人興奮的基于光子學的新產品和新應用的300-mm制造奠定了基礎?!盨CHOTTRealView?高折射率玻璃晶圓是**AR/MR設備的關鍵組件,已經實現了批量生產。產品組合提供了高達,支持深度沉浸的AR/MR應用,視野更廣,高達65度。在與增強現實硬件制造商進行多年研發之后,肖特在2018年推出了***代SCHOTTRealView?。這款**產品在上市一年后便榮獲了享有盛譽的2019年SID顯示行業獎(SIDDisplayIndustryAward2019)。關于肖特肖特是特種玻璃、微晶玻璃和相關高科技材料領域的**國際技術集團。公司積累了超過130年的經驗,是眾多行業的創新合作伙伴。納米壓印設備可用來進行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。
HERCULES ® NIL完全模塊化和集成SmartNIL ® UV-NIL系統達300毫米
結合EVG的SmartNIL一個完全模塊化平臺®技術支持AR / VR,3D傳感器,光子和生物技術生產應用
EVG的HERCULES NIL 300 mm是一個完全集成的跟 蹤系統,將清潔,抗蝕劑涂層和烘烤預處理步驟與EVG專有的SmartNIL大面積納米壓印光刻(NIL)工藝結合在一個平臺上,用于直徑比較大為300 mm的晶圓。它是***個基于EVG的全模塊化設備平臺和可交換模塊的NIL系統,可為客戶提供比較大的自由度來配置他們的系統,以比較好地滿足其生產需求,包括200 mm和300 mm晶圓的橋接功能。
**小外形尺寸和大體積創新型光子結構提供了更多的自由度,這對于實現衍射光學元件(DOE)至關重要。芯片納米壓印有哪些品牌
SmartNIL的主要技術是可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印結果。江蘇納米壓印當地價格
納米壓印光刻設備-處理結果:
新應用程序的開發通常與設備功能的提高緊密相關。 EVG的NIL解決方案能夠產生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案,并在顯示器,生物技術和光子應用中實現了許多新的創新。HRI SmartNIL®壓印上的單個像素的1.AFM圖像壓印全息結構的AFM圖像
資料來源:EVG與SwissLitho
AG合作(歐盟項目SNM)
2.通過熱壓花在PMMA中復制微流控芯片
資料來源:EVG
3.高縱橫比(7:1)的10 μm柱陣列
由加拿大國家研究委 員會提供
4.L / S光柵具有優化的殘留層,厚度約為10 nm
資料來源:EVG
5.紫外線成型鏡片300 μm
資料來源:EVG
6.光子晶體用于LED的光提取
多晶硅的蜂窩織構化(mc-Si)
由Fraunhofer ISE提供
7.金字塔形結構50 μm
資料來源:EVG
8.**小尺寸的光模塊晶圓級封裝
資料來源:EVG
9.光子帶隙傳感器光柵
資料來源:EVG(歐盟Saphely項目)
10.在強光照射下對HRISmartNIL®烙印進行完整的晶圓照相
資料來源:EVG 江蘇納米壓印當地價格
岱美儀器技術服務(上海)有限公司發展規模團隊不斷壯大,現有一支專業技術團隊,各種專業設備齊全。在岱美儀器技術服務近多年發展歷史,公司旗下現有品牌岱美儀器技術服務等。公司以用心服務為重點價值,希望通過我們的專業水平和不懈努力,將磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關配套服務,國際貿易、轉口貿易,商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目,經相關部門批準后方可開展經營活動】磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關配套服務,國際貿易、轉口貿易,商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目,經相關部門批準后方可開展經營活動】等業務進行到底。岱美儀器技術服務始終以質量為發展,把顧客的滿意作為公司發展的動力,致力于為顧客帶來***的磁記錄,半導體,光通訊生產,測試儀器的批發。