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原裝進口納米壓印有哪些品牌

來源: 發布時間:2020-08-28

客戶示范

■工藝開發

■材料測試

■與合作伙伴共同研發

■資助項目

■小批量試生產

■IP管理

■過程技術許可證

■流程培訓

→世界前列的潔凈室基礎設施

→**的設備

→技術**

→**計量

→工藝知識

→應用知識

→與NIL的工作印模材料和表面化學有關的化學專業知識


新應用程序的開發通常與設備功能的提高緊密相關。 EVG的NIL解決方案能夠產生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案,并在顯示器,生物技術和光子應用中實現了許多新的創新。

岱美作為EVG在中國區的代理商,歡迎各位聯系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。


EVG高達300 mm的高精度聚合物透鏡成型和堆疊設備支持晶圓級光學(WLO)的制造。原裝進口納米壓印有哪些品牌

納米壓印應用三:連續性UV納米壓印

EVG770是用于步進重復納米壓印光刻的通用平臺,可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結合,分步重復刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。岱美作為EVG在中國區的代理商,歡迎各位聯系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。


高精密儀器納米壓印用途SmartNIL技術可提供功能強大的下一代光刻技術,幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。

對于壓印工藝,EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到比較大直徑150 mm。納米技術應用的配置除了可編程的高和低接觸力外,還可以包括用于印章的釋放機構。EV Group專有的卡盤設計可提供均勻的接觸力,以實現高產量的壓印,該卡盤支持軟性和硬性印模。


EVG610特征:

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形誤差補償機制

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術

**小化系統占地面積和設施要求

分步流程指導

遠程技術支持

多用戶概念(無限數量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)

敏捷處理和光刻工藝之間的轉換

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版


附加功能:

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻 

μ接觸印刷


EVG ® 610 紫外線納米壓印光刻系統

具有紫外線納米壓印功能的通用研發掩膜對準系統,從碎片到比較大150毫米。

該工具支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并且可以選擇背面對準。此外,該系統還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對準和納米壓印光刻(NIL)。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具,以改變用戶需求,光刻和NIL之間的轉換時間*為幾分鐘。其先進的多用戶概念可以適應從初學者到**級別的所有需求,因此使其成為大學和研發應用程序的理想選擇。


EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT是具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統。

EVG ® 6200 NT特征:

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形補償序列

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術

**小化系統占地面積和設施要求

分步流程指導

遠程技術支持

多用戶概念(無限數量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)

敏捷處理和轉換工具

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版


EVG ® 6200 NT附加功能:

鍵對準

紅外對準

智能NIL ®

μ接觸印刷技術數據

晶圓直徑(基板尺寸)

標準光刻:75至200 mm

柔軟的UV-NIL:75至200毫米

SmartNIL ®:**多至150mm

解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:軟UV-NIL&SmartNIL

®


曝光源:汞光源或紫外線LED光源

對準:軟NIL:≤±0.5 μm;SmartNIL ®:≤±3微米

自動分離:柔紫外線NIL:不支持;SmartNIL

®:支持


工作印章制作:柔軟的UV-NIL:外部;SmartNIL ®:支持


步進重復納米壓印光刻可以從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。大面積納米壓印美元報價

EV Group 提供完整的UV 紫外光納米壓印光刻(UV-NIL)產品線。原裝進口納米壓印有哪些品牌

EVG ® 510 HE特征:

用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應用

自動化壓花工藝

EVG專有的**對準工藝,用于光學對準的壓印和壓印

完全由軟件控制的流程執行

閉環冷卻水供應選項

外部浮雕和冷卻站


EVG ® 510 HE技術數據:

加熱器尺寸:150毫米 ,200毫米

比較大基板尺寸:150毫米,200毫米

**小基板尺寸:單芯片,100毫米

比較大接觸力:10、20、60 kN

比較高溫度:標準:350°C;可選:550°C

夾盤系統/對準系統

150毫米加熱器:EVG ® 610,EVG ® 620,EVG ® 6200

200毫米加熱器:EVG ® 6200,MBA300,的Smart View ® NT

真空:

標準:0.1毫巴


可選:0.00001 mbar


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岱美儀器技術服務(上海)有限公司擁有磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關配套服務,國際貿易、轉口貿易,商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目,經相關部門批準后方可開展經營活動】磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關配套服務,國際貿易、轉口貿易,商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目,經相關部門批準后方可開展經營活動】等多項業務,主營業務涵蓋磁記錄,半導體,光通訊生產,測試儀器的批發。公司目前擁有較多的高技術人才,以不斷增強企業重點競爭力,加快企業技術創新,實現穩健生產經營。岱美儀器技術服務(上海)有限公司主營業務涵蓋磁記錄,半導體,光通訊生產,測試儀器的批發,堅持“質量保證、良好服務、顧客滿意”的質量方針,贏得廣大客戶的支持和信賴。公司深耕磁記錄,半導體,光通訊生產,測試儀器的批發,正積蓄著更大的能量,向更廣闊的空間、更寬泛的領域拓展。

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