EVGROUP®|產(chǎn)品/納米壓印光刻解決方案
納米壓印光刻的介紹：
EV Group是納米壓印光刻（NIL）的市場**設備供應商。EVG開拓了這種非常規(guī)光刻技術多年，掌握了NIL并已在不斷增長的基板尺寸上實現(xiàn)了批量生產(chǎn)。EVG的專有SmartNIL技術通過多年的研究，開發(fā)和現(xiàn)場經(jīng)驗進行了優(yōu)化，以解決常規(guī)光刻無法滿足的納米圖案要求。SmartNIL可提供低至40 nm的出色保形壓印結(jié)果。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。
EVG ? 520 HE是熱壓印系統(tǒng)。福建高校納米壓印
NIL已被證明是在大面積上實現(xiàn)納米級圖案的相當有成本效益的方法，因為它不受光學光刻所需的復雜光學器件的限制，并且它可以為極小尺寸（小于100分）提供比較好圖案保真度nm）結(jié)構(gòu)。
EVG的SmartNIL是基于紫外線曝光的全場壓印技術，可提供功能強大的下一代光刻技術，幾乎具有無限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能，因此還可以實現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。另外，主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當?shù)臅r間。
新應用程序的開發(fā)通常與設備功能的提高緊密相關。 山東納米壓印圖像傳感器應用 EVG?770可用于連續(xù)重復的納米壓印光刻技術，可進行有效的母版制作。
**的衍射波導設計商和制造商WaveOptics***宣布與EV Group（EVG）進行合作，EV Group是晶圓鍵合和納米壓印光刻設備的**供應商，以帶來高性能增強現(xiàn)實（ AR）波導以當今業(yè)界*低的成本進入大眾市場。波導是可穿戴AR的關鍵光學組件。
WaveOptics首席執(zhí)行官David Hayes評論：“這一合作伙伴關系標志著增強現(xiàn)實行業(yè)的轉(zhuǎn)折點，是大規(guī)模生產(chǎn)高質(zhì)量增強現(xiàn)實解決方案的關鍵步驟，這是迄今為止尚無法實現(xiàn)的能力。” EVG的專業(yè)知識與我們可擴展的通用技術的結(jié)合將使到明年年底，AR終端用戶產(chǎn)品的市場價格將低于600美元。“這項合作是釋放AR可穿戴設備發(fā)展的關鍵；我們共同處于有利位置，可以在AR中引入大眾市場創(chuàng)新，以比以往更低的成本開辟了可擴展性的新途徑。”
SmartNIL是行業(yè)**的NIL技術，可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化，并可以對各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術相結(jié)合，可實現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期前景，即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結(jié)構(gòu)的低成本，大批量替代光刻技術。
*分辨率取決于過程和模板
如果需要詳細的信息，請聯(lián)系我們岱美儀器技術服務有限公司。 EVG的SmartNIL技術是基于紫外線曝光的全場壓印技術，可提供功能強大的下一代光刻技術。
納米壓印光刻（NIL） -SmartNIL ®
用于大批量生產(chǎn)的大面積軟UV納米壓印光刻工藝
介紹：
EVG是納米壓印光刻（NIL）的市場**設備供應商。EVG開拓了這種非常規(guī)光刻技術多年，掌握了NIL并已在不斷增長的基板尺寸上實現(xiàn)了批量生產(chǎn)。EVG的專有SmartNIL技術通過多年的研究，開發(fā)和現(xiàn)場經(jīng)驗進行了優(yōu)化，以解決常規(guī)光刻無法滿足的納米圖案要求。SmartNIL可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印結(jié)果。
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EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT是具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統(tǒng)。3D IC納米壓印有哪些應用
**小外形尺寸和大體積創(chuàng)新型光子結(jié)構(gòu)提供了更多的自由度，這對于實現(xiàn)衍射光學元件（DOE）至關重要。福建高校納米壓印
EVG ® 510 HE是EVG500系列的熱壓印系統(tǒng)
EV Group的一系列高精度熱壓印系統(tǒng)基于該公司市場**的晶圓鍵合技術。出色的壓力和溫度控制以及大面積的均勻性可實現(xiàn)高精度的壓印。熱壓印是一種經(jīng)濟高
效且靈活的制造技術，對于尺寸低至50 nm的特征，其復制精度非常高。該系統(tǒng)非常適合將復雜的微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)以及高縱橫比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中。壓模與基板對準的組合可將熱壓紋與預處理的基板結(jié)構(gòu)對準。這個系列包含的型號有：EVG®510HE，EVG®520HE。 福建高校納米壓印
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