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黑龍江進口光刻機

來源: 發布時間:2020-08-03

IQ Aligner®NT曝光設定:硬接觸/軟接觸/接近模式/柔性模式

楔形補償:全自動軟件控制;非接觸式


IQ Aligner®NT曝光選項:間隔曝光/洪水曝光

先進的對準功能:自動對準

暗場對準功能/完整的明場掩模移動(FCMM)

大間隙對準

跳動控制對準


IQ Aligner®NT系統控制:

操作系統:Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數

多語言用戶GUI和支持:CN,DE,FR,IT,JP,KR

實時遠程訪問,診斷和故障排除


如果您需要確認準確的產品的信息,請聯系我們。如果需要鍵合機,請看官網信息。 EVG620 NT / EVG6200 NT可從手動到自動的基片處理,能夠實現現場升級。黑龍江進口光刻機

HERCULES 光刻軌道系統

所述HERCULES ®是一個高容量的平臺整合整個光刻工藝流在一個系統中,縮小處理工序和操作者支持。


HERCULES基于模塊化平臺,將EVG建立的光學掩模對準技術與集成的晶圓清洗,光刻膠涂層,烘烤和光刻膠顯影模塊相結合。HERCULES支持各種晶片尺寸的盒到盒處理。HERCULES安全地處理厚,彎曲度高,矩形,小直徑的晶圓,甚至可以處理設備托盤。精密的頂側和底側對準以及亞微米至超厚(**/大300微米)光刻膠的涂層可用于夾層和鈍化應用。出色的對準臺設計可實現高產量的高精度對準和曝光結果。


晶片光刻機原理EVG的大批量制造系統目的是在以**/佳的成本效率與**/高的技術標準相結合,為全球服務基礎設施提供支持。

IQ Aligner®NT技術數據:

產能:

全自動:首/次生產量印刷:每小時200片

全自動:吞吐量對準:每小時160片晶圓

工業自動化功能:盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,彎曲,翹曲,晶圓邊緣處理


智能過程控制和數據分析功能(框架SW平臺)

用于過程和機器控制的集成分析功能

并行任務/排隊任務處理功能

設備和過程性能跟/蹤功能

智能處理功能

事/故和警報分析/智能維護管理和跟/蹤


晶圓直徑(基板尺寸):高達300毫米

對準方式:

頂部對準:≤±0,25 μm

底側對準:≤±0.5 μm

紅外對準:≤±2,0 μm /取決于基材

EVG6200 NT特征:

晶圓/基板尺寸從小到200 mm /8''

系統設計支持光刻工藝的多功能性

在第/一次光刻模式下的吞吐量高達180 WPH,在自動對準模式下的吞吐量高達140 WPH

易碎,薄或翹曲的多種尺寸的晶圓處理,更換時間短

帶有間隔墊片的自動無接觸楔形補償序列

自動原點功能,用于對準鍵的精確居中

具有實時偏移校正功能的動態對準功能

支持**/新的UV-LED技術

返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統

自動化系統上的手動基板裝載功能

可以從半自動版本升級到全自動版本

**小化系統占地面積和設施要求

多用戶概念(無限數量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)

先進的軟件功能以及研發與全/面生產之間的兼容性

便捷處理和轉換重組

遠程技術支持和SECS / GEM兼容性

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版 在全球范圍內,我們為許多用戶提供了量產型的光刻機系統,并得到了他們的無數好評。

     EV Group企業技術總監Thomas Glinsner博士證實:“我們看到支持晶圓級光學器件的設備需求正在急劇增加。” “*從今年年初開始,我們就向大型WLO制造商交付了多個用于透鏡成型和堆疊以及計量的系統,以進行大批量生產。此類訂單進一步鞏固了EVG在該領域市場***的地位,同時創造了新興應用程序中有大量新機會。”

      業界**的設備制造商**近宣布了擴大其傳感領域業務目標的計劃,以幫助解決客戶日益激進的上市時間窗口。根據市場研究和策略咨詢公司YoleDéveloppement的說法,下一代智能手機中正在設計十多種傳感器。其中包括3D感測相機,指紋傳感器,虹膜掃描儀,激光二極管發射器,激光測距儀和生物傳感器。總體而言,光纖集線器預計將從2016年的106億美元增長到2021年的180億美元,復合年增長率超過11%*。 EVG150光刻膠處理系統擁有:Ergo裝載盒式工作站/ SMIF裝載端口/ SECS / GEM / FOUP裝載端口。原裝進口光刻機有誰在用

岱美是EVG光刻機在中國的代理商,提供本地化的質量服務。黑龍江進口光刻機

EVG620 NT特征2:

自動原點功能,用于對準鍵的精確居中

具有實時偏移校正功能的動態對準功能

支持**/新的UV-LED技術

返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統

自動化系統上的手動基板裝載功能

可以從半自動版本升級到全自動版本

**小化系統占地面積和設施要求

多用戶概念(無限數量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)

先進的軟件功能以及研發與全/面生產之間的兼容性

便捷處理和轉換重組

遠程技術支持和SECS / GEM兼容性


EVG620 NT附加功能:

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻(NIL) 黑龍江進口光刻機

岱美儀器技術服務(上海)有限公司屬于儀器儀表的高新企業,技術力量雄厚。公司致力于為客戶提供安全、質量有保證的良好產品及服務,是一家有限責任公司企業。以滿足顧客要求為己任;以顧客永遠滿意為標準;以保持行業優先為目標,提供***的磁記錄,半導體,光通訊生產,測試儀器的批發。岱美儀器技術服務將以真誠的服務、創新的理念、***的產品,為彼此贏得全新的未來!

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