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甘肅光刻機高性價比選擇

來源: 發布時間:2020-04-29

IQ Aligner®

■   晶圓規格高達200 mm / 300 mm

■   某一時間內

(第/一次印刷/對準)> 90 wph / 80 wph

■   頂/底部對準精度達到 ± 0.5 μm / ± 1.0 μm

■   接近過程100/%無觸點

■   可選Ergoload 磁盤,SMIF或者FOUP

■   精/準的跳動補償,實現**/佳的重疊對準

■   手動裝載晶圓的功能

■   IR對準能力–透射或者反射

IQ Aligner® NT

■   零輔助橋接工具-雙基片,支持200mm和300mm規格

■   無以倫比的吞吐量(第/一次印刷/對準) > 200 wph / 160 wph

■   頂/底部對準精度達到 ± 250 nm / ± 500 nm

■   接近過程100/%無觸點

■   暗場對準能力/ 全場清/除掩模(FCMM)

■   精/準的跳動補償,實現**/佳的重疊對準

■   智能過程控制和性能分析框架軟件平臺 HERCULES的橋接工具系統可對多種尺寸的晶圓進行易碎,薄或翹曲的晶圓處理。甘肅光刻機高性價比選擇

      對EVG WLO制造解決方案的需求在一定程度上是由對用于移動消費電子產品的新型光學傳感解決方案和設備的需求驅動的。關鍵示例包括3D感測(對于獲得更真實的虛擬和增強現實(VR / AR)用戶體驗至關重要),生物特征感測(對于安全應用而言越來越關鍵),環境感測,紅外(IR)感測和相機陣列。其他應用包括智能手機中用于高級深度感應以改善相機自動對焦性能的其他光學傳感器以及微型顯示器。

      EV Group企業技術開發兼IP總監Markus Wimplinger表示:“毫無疑問,晶圓級光學和3D傳感技術正在出現高度可持續的趨勢。“由于在我們公司總部的NILPhotonics能力中心支持的大量正在進行的客戶項目,我們預計在不久的將來將更***地使用該技術。” 陜西**光刻機EVG光刻機設備,可完全集成到HERCULES光刻軌道系統中,并輔以其用于從上到下側對準驗證的計量工具。

光刻膠處理系統


EVG100系列光刻膠處理系統為光刻膠涂層和顯影建立了質量和靈活性方面的新標準。EVG100系列的設計旨在提供**廣/泛的工藝變革,其模塊化功能可提供旋涂和噴涂,顯影,烘烤和冷卻模塊,以滿足個性化生產需求。這些系統可處理各種材料,例如正性和負性光刻膠,聚酰亞胺,薄光刻膠層的雙面涂層,高粘度光刻膠和邊緣保護涂層。這些系統可以處理多種尺寸的基板,直徑從2寸到300 mm,矩形,正方形甚至不規則形狀的基板,而無需或只需很短的加工時間。


HERCULES®

■   全自動光刻跟/蹤系統,模塊化設計,用于掩模和曝光,集成了預處理和后處理能力

■   高產量的晶圓加工

■   **多8個濕法處理模塊以及多達24個額外烘烤,冷卻和蒸汽填料板

■   基于EVG的IQ Aligner® 或者EVG®6200

NT技術進行對準和曝光

■   **的柜內化學處理

■   支持連續操作模式(CMO)

EVG光刻機可選項有:

手動和自動處理

我們所有的自動化系統還支持手動基片和掩模加載功能,以便進行過程評估。此外,該系統可以配置成處理彎曲,翹曲,變薄或非SEMI標準形狀的晶片和基片。各種晶圓卡盤設計毫無任何妥協,帶來**/大的工藝靈活性和基片處理能力。我們的掩模對準器配有機械或非接觸式光學預對準器,以確保**/佳的工藝能力和產量。Load&Go選項可在自動化系統上提供超快的流程啟動。 只有以客戶的需求為導向,研發才具有價值,也是我們不斷前進的動力。

     EV Group企業技術總監Thomas Glinsner博士證實:“我們看到支持晶圓級光學器件的設備需求正在急劇增加。” “*從今年年初開始,我們就向大型WLO制造商交付了多個用于透鏡成型和堆疊以及計量的系統,以進行大批量生產。此類訂單進一步鞏固了EVG在該領域市場***的地位,同時創造了新興應用程序中有大量新機會。”

      業界**的設備制造商**近宣布了擴大其傳感領域業務目標的計劃,以幫助解決客戶日益激進的上市時間窗口。根據市場研究和策略咨詢公司YoleDéveloppement的說法,下一代智能手機中正在設計十多種傳感器。其中包括3D感測相機,指紋傳感器,虹膜掃描儀,激光二極管發射器,激光測距儀和生物傳感器。總體而言,光纖集線器預計將從2016年的106億美元增長到2021年的180億美元,復合年增長率超過11%*。 EVG100系列光刻膠處理系統為光刻膠涂層和顯影建立了質量和靈活性方面的新的標準。原裝進口光刻機質量怎么樣

研發設備與EVG的**技術平臺無縫集成,這些平臺涵蓋從研發到小規模和大批量生產的整個制造鏈。甘肅光刻機高性價比選擇

光刻機軟件支持

基于Windows的圖形用戶界面的設計,注重用戶友好性,并可輕松引導操作員完成每個流程步驟。多語言支持,單個用戶帳戶設置和集成錯誤記錄/報告和恢復,可以簡化用戶的日常操作。所有EVG系統都可以遠程通信。因此,我們的服務包括通過安全連接,電話或電子郵件,對包括經過現場驗證的,實時遠程診斷和排除故障。EVG經驗豐富的工藝工程師隨時準備為您提供支持,這得益于我們分散的全球支持機構,包括三大洲的潔凈室空間:歐洲 (HQ), 亞洲 (日本) 和

北美 (美國). 甘肅光刻機高性價比選擇

岱美儀器技術服務(上海)有限公司辦公設施齊全,辦公環境優越,為員工打造良好的辦公環境。致力于創造***的產品與服務,以誠信、敬業、進取為宗旨,以建岱美儀器技術服務產品為目標,努力打造成為同行業中具有影響力的企業。公司不僅*提供專業的磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關配套服務,國際貿易、轉口貿易,商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目,經相關部門批準后方可開展經營活動】磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關配套服務,國際貿易、轉口貿易,商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目,經相關部門批準后方可開展經營活動】,同時還建立了完善的售后服務體系,為客戶提供良好的產品和服務。誠實、守信是對企業的經營要求,也是我們做人的基本準則。公司致力于打造***的磁記錄,半導體,光通訊生產,測試儀器的批發。

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