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上海氮化鎵納米壓印

來源: 發布時間:2020-03-02

EVG ® 610 紫外線納米壓印光刻系統

具有紫外線納米壓印功能的通用研發掩膜對準系統,從碎片到比較大150毫米。

該工具支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并且可以選擇背面對準。此外,該系統還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對準和納米壓印光刻(NIL)。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具,以改變用戶需求,光刻和NIL之間的轉換時間*為幾分鐘。其先進的多用戶概念可以適應從初學者到**級別的所有需求,因此使其成為大學和研發應用程序的理想選擇。


EV Group提供混合和單片微透鏡成型工藝,能夠輕松地適應各種材料組合,以用于工作印模和微透鏡材料。上海氮化鎵納米壓印

納米壓印光刻設備-處理結果:

新應用程序的開發通常與設備功能的提高緊密相關。 EVG的NIL解決方案能夠產生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案,并在顯示器,生物技術和光子應用中實現了許多新的創新。HRI SmartNIL®壓印上的單個像素的1.AFM圖像壓印全息結構的AFM圖像

資料來源:EVG與SwissLitho

AG合作(歐盟項目SNM)

2.通過熱壓花在PMMA中復制微流控芯片

資料來源:EVG

3.高縱橫比(7:1)的10 μm柱陣列

由加拿大國家研究委 員會提供

4.L / S光柵具有優化的殘留層,厚度約為10 nm

資料來源:EVG

5.紫外線成型鏡片300 μm

資料來源:EVG

6.光子晶體用于LED的光提取

多晶硅的蜂窩織構化(mc-Si)

由Fraunhofer ISE提供

7.金字塔形結構50 μm

資料來源:EVG

8.**小尺寸的光模塊晶圓級封裝

資料來源:EVG

9.光子帶隙傳感器光柵

資料來源:EVG(歐盟Saphely項目)

10.在強光照射下對HRISmartNIL®烙印進行完整的晶圓照相

資料來源:EVG EVG610納米壓印美元價EVG ? 7200 LA是大面積SmartNIL ? UV紫外光納米壓印光刻系統。

    首先準備一塊柔性薄膜作為彈性基底層,然后將巰基-烯預聚物旋涂在具有表面結構的母板上,彈性薄膜壓印在巰基-烯層上,與材料均勻接觸。巰基-烯材料可以在自然環境中固化通過“點擊反應”形成交聯聚合物,不受氧氣和水的阻聚作用。順利分離開母板后,彈性薄膜與固化后的巰基-烯層緊密連接在一起,獲得雙層結構的復合柔性模板。由于良好的材料特性,剛性巰基-烯結構層可以實現較高的分辨率。因此,利用該方法可以制備高 分辨的復合柔性模板,經過表面防粘處理后可以作為軟壓印模板使用。該研究利用新方法制備了以PDMS和PET為彈性基底的亞100nm線寬的光柵結構復合軟壓印模板。相關研究成果發表于《納米科技與納米技術雜志》(JournalofNanoscienceandNanotechnology)。(來自網絡。

EVG ® 510 HE熱壓印系統

應用:高度靈活的熱壓印系統,用于研發和小批量生產

EVG510 HE半自動熱壓印系統設計用于對熱塑性基材進行高精度壓印。該設備配置有通用壓花室以及真空和接觸力功能,并管理適用于熱壓印的全部聚合物。結合高縱橫比壓印和多種脫壓選項,提供了許多用于高質量納米圖案轉印的工藝。


EVG ® 510 HE特征:

用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應用

自動化壓花工藝

EVG專有的**對準工藝,用于光學對準的壓印和壓印

完全由軟件控制的流程執行

閉環冷卻水供應選項

外部浮雕和冷卻站 EVG的納米壓印設備括不同的單步壓印系統,大面積壓印機以及用于高 效母版制作的分步重復系統。

IQ Aligner UV-NIL特征:

用于光學元件的微成型應用

用于全場納米壓印應用

三個**控制的Z軸,可在印模和基材之間實現出色的楔形補償

三個**控制的Z軸,用于壓印抗蝕劑的總厚度變化(TTV)控制

利用柔軟的印章進行柔軟的UV-NIL工藝

EVG專有的全自動浮雕功能

抵抗分配站集成

粘合對準和紫外線粘合功能


IQ Aligner UV-NIL技術數據:

晶圓直徑(基板尺寸):150至300毫米

解析度:≤50 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:柔軟的UV-NIL,鏡片成型


曝光源:汞光源

對準:≤±0.5微米

自動分離:支持的

前處理:涂層:水坑點膠(可選)

迷你環境和氣候控制:可選的


工作印章制作:支持的


SmartNIL集成多次使用的軟標記處理功能,并具有顯著的擁有成本的優勢,同時保留可擴展性和易于維護的特點。碳化硅納米壓印摩擦學應用

EVG紫外光納米壓印系統還有:EVG?7200LA,HERCULES?NIL,EVG?770,IQAligner?等。上海氮化鎵納米壓印

對于壓印工藝,EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到比較大直徑150 mm。納米技術應用的配置除了可編程的高和低接觸力外,還可以包括用于印章的釋放機構。EV Group專有的卡盤設計可提供均勻的接觸力,以實現高產量的壓印,該卡盤支持軟性和硬性印模。


EVG610特征:

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形誤差補償機制

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術

**小化系統占地面積和設施要求

分步流程指導

遠程技術支持

多用戶概念(無限數量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)

敏捷處理和光刻工藝之間的轉換

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版


附加功能:

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻 

μ接觸印刷


上海氮化鎵納米壓印

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