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北京晶圓片光刻機

來源: 發布時間:2021-07-28

EVG ® 150--光刻膠自動處理系統

EVG ® 150是全自動化光刻膠處理系統中提供高吞吐量的性能與在直徑承晶片高達300毫米。

EVG150設計為完全模塊化的平臺,可實現自動噴涂/旋轉/顯影過程和高通量性能。EVG150可確保涂層高度均勻并提高重復性。具有高形貌的晶片可以通過EVG的OmniSpray 技術進行均勻涂覆,而傳統的旋涂技術則受到限制。


EVG ® 150特征:

晶圓尺寸可達300毫米

多達六個過程模塊

可自定義的數量-多達二十個烘烤/冷卻/汽化堆

多達四個FOUP裝載端口或盒式磁帶裝載


岱美是EVG光刻機在中國的代理商,提供本地化的質量服務。北京晶圓片光刻機

IQ Aligner工業自動化功能:盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,彎曲,翹曲,邊緣晶圓處理

晶圓直徑(基板尺寸):高達200毫米

對準方式:

上側對準:≤±0.5 μm

底側對準:≤±1,0 μm

紅外校準:≤±2,0 μm /具體取決于基板材料


曝光設定:真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式

曝光選項:間隔曝光/洪水曝光


系統控制

操作系統:Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數

多語言用戶GUI和支持:CN,DE,FR,IT,JP,KR

實時遠程訪問,診斷和故障排除


產能

全自動:第/一批生產量:每小時85片

全自動:吞吐量對準:每小時80片 上海HVM光刻機HERCULES以**小的占地面積結合了EVG精密對準和光刻膠處理系統的所有優勢。

HERCULES®

■   全自動光刻跟/蹤系統,模塊化設計,用于掩模和曝光,集成了預處理和后處理能力

■   高產量的晶圓加工

■   **多8個濕法處理模塊以及多達24個額外烘烤,冷卻和蒸汽填料板

■   基于EVG的IQ Aligner® 或者EVG®6200

NT技術進行對準和曝光

■   **的柜內化學處理

■   支持連續操作模式(CMO)

EVG光刻機可選項有:

手動和自動處理

我們所有的自動化系統還支持手動基片和掩模加載功能,以便進行過程評估。此外,該系統可以配置成處理彎曲,翹曲,變薄或非SEMI標準形狀的晶片和基片。各種晶圓卡盤設計毫無任何妥協,帶來**/大的工藝靈活性和基片處理能力。我們的掩模對準器配有機械或非接觸式光學預對準器,以確保**/佳的工藝能力和產量。Load&Go選項可在自動化系統上提供超快的流程啟動。

EVG也提供量產型掩模對準系統。對于在微米范圍內的光刻圖形,掩模對準器是**/具成本效益的技術,與其他解決方案相比,每層可節省30%以上的成本,這對用戶來說是至關重要的。EVG的大批量制造系統旨在以**/佳的成本效率與**/高的技術標準相結合,并由卓/越的全球服務基礎設施提供支持。**重要的是,大焦深曝光光學系統完美匹配大批量生產中的厚抗蝕劑,表面形貌和非平面基片的圖形。在全球范圍內,我們為許多客戶提供了量產型的光刻機系統,得到了他們的無數好評。EVG的大批量制造系統目的是在以**/佳的成本效率與**/高的技術標準相結合,為全球服務基礎設施提供支持。

EVG增強對準:全電動頂部和底部分離場顯微鏡支持實時,大間隙,晶圓平面或紅外對準,在可編程位置自動定位。確保**/佳圖形對比度,并對明場和暗場照明進行程序控制。先進的模式識別算法,自動原點功能,合成對準鍵模式導入和培訓可確保高度可重復的對準結果。

曝光光學:提供不同配置的曝光光學系統,旨在實現任何應用的**/大靈活性。汞燈曝光光學系統針對150,200和300 mm基片進行了優化,可與各種濾光片一起用于窄帶曝光要求,例如i-,g-和h-線濾光片,甚至還有深紫外線。 EVG光刻機關注未來市場趨勢 - 例如光子學 、光學3D傳感- 并為這些應用開發新的方案和調整現有的解決方案。福建中科院光刻機

IQ Aligner NT 光刻機系統使用零輔助橋接工具-雙基片,支持200mm和300mm尺寸的晶圓。北京晶圓片光刻機

EVG120光刻膠自動處理系統附加模塊選項

預對準:光學/機械

ID讀取器:條形碼,字母數字,數據矩陣

系統控制:

操作系統:Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數/離線程序編輯器

靈活的流程定義/易于拖放的程序編程

并行處理多個作業/實時遠程訪問,診斷和故障排除

多語言用戶GUI和支持:CN,DE,FR,IT,JP,KR


分配選項:

各種光刻膠分配泵,可覆蓋高達52000 cP的粘度

液體底漆/預濕/洗盤

去除邊緣珠(EBR)/背面沖洗(BSR)

恒壓分配系統/注射器分配系統

電阻分配泵具有流量監控功能

可編程分配速率/可編程體積/可編程回吸


超音波


北京晶圓片光刻機

岱美儀器技術服務(上海)有限公司致力于儀器儀表,是一家其他型公司。公司業務分為磁記錄,半導體,光通訊生產,測試儀器的批發等,目前不斷進行創新和服務改進,為客戶提供良好的產品和服務。公司將不斷增強企業重點競爭力,努力學習行業知識,遵守行業規范,植根于儀器儀表行業的發展。岱美儀器技術服務秉承“客戶為尊、服務為榮、創意為先、技術為實”的經營理念,全力打造公司的重點競爭力。

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