表面三維輪廓儀對精密加工的作用：

一、從根源保障物件成品的準確性：

通過光學表面三維輪廓儀的掃描檢測，得出物件的誤差和超差參數，**提高物件在生產加工時的精確度。杜絕因上游的微小誤差形成“蝴蝶效應”，造成下游生產加工的更大偏離，**終導致整個生產鏈更大的損失。

二、提高效率：

  智能化檢測，全自動測量，檢測時只需將物件放置在載物臺，然后在檢定軟件上選擇相關參數，即可一鍵分析批量測量。擯棄傳統檢測方法耗時耗力，精確度低的缺點，**提高加工效率。

三、涵蓋面廣的2D、3D形貌參數分析：

  表面三維輪廓儀可測量300余種2D、3D參數，無論加工的物件使用哪一種評定標準，都可以提供***的檢測結果作為評定依據，可輕松獲取被測物件精確的線粗糙度、面粗糙度、輪廓度等參數。

四、穩定性強，高重復性：

  儀器運用高性能內部抗震設計，不受外部環境影響測量的準確性。超精密的Z向掃描模塊和測量軟件完美結合，保證高重復性，將測量誤差降低到亞納米級別。 表面三維評定參數由于能更***，更真實的反應零件表面的特征。日本輪廓儀值得買

輪廓儀產品概述：  

NanoX-2000/3000

系列 3D 光學干涉輪廓儀建立在移相干涉測量（PSI）、白光垂直掃描干涉測量（VSI）和單色光

垂直掃描干涉測量（CSI）等技術的基礎上，以其納米級測量準確度和重復性（穩定性）定量地反映出被測件的表面粗

糙度、表面輪廓、臺階高度、關鍵部位的尺寸及其形貌特征等。廣泛應用于集成電路制造、MEMS、航空航天、精密加

工、表面工程技術、材料、太陽能電池技術等領域。

想要了解更多的信息，請聯系我們岱美儀器。 山東晶圓片輪廓儀自動聚焦范圍 ： ± 0.3mm。

表面三維微觀形貌測量的意義

 在生產中，表面三維微觀形貌對工程零件的許多技術性能的評家具有**直接的影響，而且表面三維評定參數由于能更***，更真實的反應零件表面的特征及衡量表面的質量而越來越受到重視，因此表面三維微觀形貌的測量就越顯重要。通過兌三維形貌的測量可以比較***的評定表面質量的優劣，進而確認加工方法的好壞以及設計要求的合理性，這樣就可以反過來通過知道加工，優化加工工藝以及加工出高質量的表面，確保零件使用功能的實現。

 表面三位微觀形貌的此類昂方法非常豐富，通常可分為接觸時和非接觸時兩種，其中以非接觸式測量方法為主。

NanoX-8000 3D輪廓測量主要技術參數

3D測量主要技術指標（1）：

測量模式： PSI + VSI + CSI

Z軸測量范圍： 大行程PZT 掃描 （300um 標配/500um選配）

10mm 精密電機拓展掃描

CCD相機： 1920x1200 高速相機（標配）

干涉物鏡： 2.5X, 5X, 10X（標配）, 20X, 50X, 100X(NIKON )

物鏡切換： 5孔電動鼻切換 FOV： 1100x700um(10X物鏡), 220x140um(50X物鏡)

Z軸聚焦： 高精密直線平臺自動聚焦

照明系統： 高 效長壽白光LED + 濾色鏡片電動切換（綠色/藍色）

傾斜調節： ±5°電動調節

橫向分辨率： ≥0.35μm（與所配物鏡有關）

3D測量主要技術指標（2）：

垂直掃描速度： PSI : <10s，VSI/CSI：< 38um/s

高度測量范圍： 0.1nm – 10mm

表面反射率： > 0.5%

測量精度: PSI: 垂直分辨率 < 0.1nm

準確度 < 1nm

RMS重復性 < 0.01nm (1σ)

臺階高重復性：0.15nm(1σ)

VSI/CSI：垂直分辨率 < 0.5nm

準確度<1%

重復性<0.1% (1σ，10um臺階高) 輪廓儀可用于藍寶石拋光工藝表面粗糙度分析（粗拋與精拋比較）。

輪廓儀對所測樣品的尺寸有何要求？

答：輪廓儀對載物臺xy行程為140*110mm（可擴展），Z向測量范圍比較大可達10mm，但由于白光干涉儀單次測量區域比較小（以10X鏡頭為例，在1mm左右），因而在測量大尺寸的樣品時，全檢的方式需要進行拼接測量，檢測效率會比較低，建議尋找樣品表 面的特征位置或抽取若干區域進行抽點檢測，以單點或多點反映整個面的粗糙度參數；

4.測量的**小尺寸是否可以達到12mm，或者能夠測到更小的尺寸？

如果需要了解更多，請訪問官網。 由于光罩中電路結構尺寸極小，任何微小的黏附異物和下次均會導致制造的晶圓IC表面存在缺 陷。Nano X-3000輪廓儀價格怎么樣

白光干涉系統基于無限遠顯微鏡系統，通過干涉物鏡產生干涉條紋，使基本的光學顯微鏡系統變為白光干涉儀.日本輪廓儀值得買

    比較橢圓偏振儀和光譜反射儀光譜橢圓偏振儀(SE)和光譜反射儀(SR)都是利用分析反射光確定電介質，半導體，和金屬薄膜的厚度和折射率。兩者的主要區別在于橢偏儀測量小角度從薄膜反射的光,而光譜反射儀測量從薄膜垂直反射的光。獲取反射光譜指南入射光角度的不同造成兩種技術在成本，復雜度，和測量能力上的不同。由于橢偏儀的光從一個角度入射，所以一定要分析反射光的偏振和強度，使得橢偏儀對超薄和復雜的薄膜堆有較強的測量能力。然而，偏振分析意味著需要昂貴的精密移動光學儀器。光譜反射儀測量的是垂直光，它忽略偏振效應（絕大多數薄膜都是旋轉對稱）。因為不涉及任何移動設備，光譜反射儀成為簡單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強大透光率分析。從下面表格可以看出,光譜反射儀通常是薄膜厚度超過10um的優先，而橢偏儀側重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之間，兩種技術都可用。而且具有快速，簡便，成本低特點的光譜反射儀通常是更好的選擇。光譜反射率光譜橢圓偏振儀厚度測量范圍1nm-1mm(非金屬)-50nm(金屬)*-(非金屬)-50nm(金屬)測量折射率的厚度要求>20nm(非金屬)5nm-50nm(金屬)>5nm(非金屬)>。日本輪廓儀值得買

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