EVG ® 510 HE熱壓印系統
應用：高度靈活的熱壓印系統，用于研發和小批量生產
EVG510 HE半自動熱壓印系統設計用于對熱塑性基材進行高精度壓印。該設備配置有通用壓花室以及真空和接觸力功能，并管理適用于熱壓印的全部聚合物。結合高縱橫比壓印和多種脫壓選項，提供了許多用于高質量納米圖案轉印的工藝。
EVG ® 510 HE特征：
用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應用
自動化壓花工藝
EVG專有的**對準工藝，用于光學對準的壓印和壓印
完全由軟件控制的流程執行
閉環冷卻水供應選項
外部浮雕和冷卻站 HERCULES ? NIL是完全集成SmartNIL ?的 UV-NIL紫外光納米壓印系統。紫外光納米壓印服務為先
EVGROUP®|產品/納米壓印光刻解決方案
納米壓印光刻的介紹：
EV Group是納米壓印光刻（NIL）的市場**設備供應商。EVG開拓了這種非常規光刻技術多年，掌握了NIL并已在不斷增長的基板尺寸上實現了批量生產。EVG的專有SmartNIL技術通過多年的研究，開發和現場經驗進行了優化，以解決常規光刻無法滿足的納米圖案要求。SmartNIL可提供低至40 nm的出色保形壓印結果。岱美作為EVG在中國區的代理商，歡迎各位聯系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。
實驗室納米壓印質保期多久IQ Aligner?是EVG的可用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統。
納米壓印應用三：連續性UV納米壓印
EVG770是用于步進重復納米壓印光刻的通用平臺，可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結合，分步重復刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。岱美作為EVG在中國區的代理商，歡迎各位聯系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。
EVG ® 6200 NT是SmartNIL
UV納米壓印光刻系統。
用UV納米壓印能力設有EVG's專有SmartNIL通用掩模對準系統®技術范圍達150m。這些系統以其自動化的靈活性和可靠性而著稱，以**小的占地面積提供了**
新的掩模對準技術。操作員友好型軟件，**短的掩模和工具更換時間以及高 效的全球服務和支持使它們成為任何研發環境（半自動批量生產）的理想解決方案。該工具支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并且可以選擇背面對準。此外，該系統還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻。此外，半自動和全自動系統配置均支持EVG專有的SmartNIL技術。
EVG770是用于步進重復納米壓印光刻的通用平臺，可用于進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。
EVG ® 520 HE熱壓印系統
特色：經通用生產驗證的熱壓印系統，可滿足比較高要求
EVG520 HE半自動熱壓印系統設計用于對熱塑性基材進行高精度壓印。EVG的這種經過生產驗證的系統可以接受直徑比較大為200 mm的基板，并且與標準的半導體制造技術兼容。熱壓印系統配置有通用壓花腔室以及高真空和高接觸力功能，并管理適用于熱壓印的整個聚合物范圍。結合高縱橫比壓印和多種脫壓選項，提供了許多用于高質量圖案轉印和納米分辨率的工藝。
如果需要詳細的信息，請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。 EVG系統是客戶進行大批量晶圓級鏡頭復制（制造）的***選擇。圖像傳感器納米壓印研發生產
分步重復刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的Smart NIL工藝所需的母版。紫外光納米壓印服務為先
NIL已被證明是在大面積上實現納米級圖案的相當有成本效益的方法，因為它不受光學光刻所需的復雜光學器件的限制，并且它可以為極小尺寸（小于100分）提供比較好圖案保真度nm）結構。
EVG的SmartNIL是基于紫外線曝光的全場壓印技術，可提供功能強大的下一代光刻技術，幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能，因此還可以實現****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。另外，主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當的時間。
新應用程序的開發通常與設備功能的提高緊密相關。 紫外光納米壓印服務為先
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