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來源: 發(fā)布時間:2021-03-03

非晶態(tài)多晶硅硅元素以非晶和晶體兩種形式存在, 在兩級之間是部分結(jié)晶硅。部分結(jié)晶硅又被叫做多晶硅。


非晶硅和多晶硅的光學常數(shù)(n和k)對不同沉積條件是獨特的,必須有精確的厚度測量。 測量厚度時還必須考慮粗糙度和硅薄膜結(jié)晶可能的風化。

Filmetrics 設(shè)備提供的復(fù)雜的測量程序同時測量和輸出每個要求的硅薄膜參數(shù), 并且“一鍵”出結(jié)果。

測量范例多晶硅被***用于以硅為基礎(chǔ)的電子設(shè)備中。這些設(shè)備的效率取決于薄膜的光學和結(jié)構(gòu)特性。隨著沉積和退火條件的改變,這些特性隨之改變,所以準確地測量這些參數(shù)非常重要。監(jiān)控晶圓硅基底和多晶硅之間,加入二氧化硅層,以增加光學對比,其薄膜厚度和光學特性均可測得。F20可以很容易地測量多晶硅薄膜的厚度和光學常數(shù),以及二氧化硅夾層厚度。Bruggeman光學模型被用來測量多晶硅薄膜光學特性。


一般較短波長 (例如, F50-UV) 可用于測量較薄的薄膜,而較長波長可以測量更厚、更不平整和更不透明的薄膜。美國進口膜厚儀出廠價

電介質(zhì)成千上萬的電解質(zhì)薄膜被用于光學,半導(dǎo)體,以及其它數(shù)十個行業(yè), 而Filmetrics的儀器幾乎可以測量所有的薄膜。 

測量范例氮化硅薄膜作為電介質(zhì),鈍化層,或掩膜材料被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。這個案例中,我們用F20-UVX成功地測量了硅基底上氮化硅薄膜的厚度,折射率,和消光系數(shù)。有趣的事,氮化硅薄膜的光學性質(zhì)與薄膜的分子當量緊密相關(guān)。使用Filmetrics專有的氮化硅擴散模型,F(xiàn)20-UVX可以很容易地測量氮化硅薄膜的厚度和光學性質(zhì),不管他們是富硅,貧硅,還是分子當量。 Profilm3D膜厚儀芯片行業(yè)紅外干涉測量技術(shù), 非接觸式測量。

接觸探頭測量彎曲和難測的表面

CP-1-1.3測量平面或球形樣品,結(jié)實耐用的不銹鋼單線圈。

CP-1-AR-1.3可以抑 制背面反射,對 1.5mm 厚的基板可抑 制 96%。 鋼制單線圈外加PVC涂層,比較大可測厚度 15um。

CP-2-1.3用于探入更小的凹表面,直徑 17.5mm。

CP-C6-1.3探測直徑小至 6mm 的圓柱形和球形樣品外側(cè)。

CP-C12-1.3用于直徑小至 12mm 圓柱形和球形樣品外側(cè)。

CP-C26-1.3用于直徑小至 26mm 圓柱形和球形樣品外側(cè)。

CP-BendingRod-L350-2彎曲長度 300mm,總長度 350mm 的接觸探頭。 用于難以到達的區(qū)域,但不會自動對準表面。

CP-ID-0to90Deg-2用于食品和飲料罐頭內(nèi)壁的接觸探頭。

CP-RA-3mmDia-200mmL-2直徑**小的接觸探頭,配備微型直角反射鏡,用來測量小至直徑 3mm 管子的內(nèi)壁,不能自動對準表面。

CP-RA-10mmHigh-2配備微型直角反射鏡,可以在相隔 10mm 的兩個平坦表面之間進行測量。

F54包含的內(nèi)容:

集成光譜儀/光源裝置

MA-Cmount 安裝轉(zhuǎn)接器 

顯微鏡轉(zhuǎn)接器光纖連接線BK7 

參考材料TS-Focus-SiO2-4-10000 

厚度標準 聚焦/厚度標準4", 6" and 200mm 

參考晶圓真空泵備用燈

型號厚度范圍*波長范圍

F54:20nm-40μm 380-850nm

F54-UV:4nm-30μm 190-1100nm

F54-NIR:40nm-100μm 950-1700nm

F54-EXR:20nm-100μm 380-1700nm

F54-UVX:4nm-100μm190-1700nm

*取決于材料與顯微鏡

額外的好處:每臺系統(tǒng)內(nèi)建超過130種材料庫, 隨著不同應(yīng)用更超過數(shù)百種應(yīng)用工程師可立刻提供幫助(周一 - 周五)網(wǎng)上的 “手把手” 支持 (需要連接互聯(lián)網(wǎng))硬件升級計劃 F30-UV測厚范圍:3nm-40μm;波長:190-1100nm。

F50 系列

包含的內(nèi)容:集成光譜儀/光源裝置光纖電纜4", 6" and 200mm 參考晶圓TS-SiO2-4-7200 厚度標準BK7 參考材料整平濾波器 (用于高反射基板)真空泵備用燈

型號 厚度范圍*波長范圍

F50:20nm-70μm 380-1050nm

F50-UV:5nm-40μm 190-1100nm

F50-NIR:100nm-250μm 950-1700nm

F50-EXR:20nm-250μm 380-1700nm

F50-UVX:5nm-250μm 190-1700nm

F50-XT:0.2μm-450μm 1440-1690nm

F50-s980:4μm-1mm 960-1000nm

F50-s1310:7μm-2mm 1280-1340nm

F50-s1550:10μm-3mm 1520-1580nm

額外的好處:每臺系統(tǒng)內(nèi)建超過130種材料庫, 隨著不同應(yīng)用更超過數(shù)百種應(yīng)用工程師可立刻提供幫助(周一 - 周五)網(wǎng)上的 “手把手” 支持 (需要連接互聯(lián)網(wǎng))硬件升級計劃 測量厚度: 15 — 780 μm (單探頭) ; 3 mm (雙探頭總厚度測量)。四川膜厚儀報價

F20-UV測厚范圍:1nm - 40μm;波長:190-1100nm。美國進口膜厚儀出廠價

F10-HC輕而易舉而且經(jīng)濟有效地分析單層和多層硬涂層F10-HC 以 Filmetrics F20 平臺為基礎(chǔ),根據(jù)光譜反射數(shù)據(jù)分析快速提供薄膜測量結(jié)果。 F10-HC 先進的模擬算法是為測量聚碳酸酯和其它單層和多層硬涂層(例如,底涂/硬涂層)專門設(shè)計的。

全世界共有數(shù)百臺 F10-HC 儀器在工作,幾乎所有主要汽車硬涂層公司都在使用它們。

像我們所有的臺式儀器一樣,F(xiàn)10-HC 可以連接到您裝有 Windows 計算機的 USB 端口并在幾分鐘內(nèi)完成設(shè)定。

包含的內(nèi)容:集成光譜儀/光源裝置FILMeasure 8 軟件FILMeasure **軟件 (用于遠程數(shù)據(jù)分析)CP-1-1.3 探頭BK7 參考材料TS-Hardcoat-4um 厚度標準備用燈

額外的好處:應(yīng)用工程師可立刻提供幫助(周一 - 周五)網(wǎng)上的 “手把手” 支持 (需要連接互聯(lián)網(wǎng))硬件升級計劃 美國進口膜厚儀出廠價

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