gradodelafuentedeescapeeinfluenciadelaventilación)laextensióndecadazonapeligrosaobedeceráalossiguientescriteriosyconsideraciones:)Isletasdereposamientoodistribucióóndeservicioquepuedenconsiderarsecomodeficientementeventiladosdebidoalaenvolventemetáácomozona1porqueenélunaatmósferadegasexplosivaseprevépuedaestarpresentedeunaformaperiódicauocasionalmenteduranteelfuncionamientonormalyademásnotieneunabuenaventilacióósferaexplosivanoestápresenteenfuncionamientonormalysiloestáserádeformapocofrecuenteydecortaduración,oaundándoselascondicionesanteriores,elgradodeventilaciónesóóndecadazonaanteriormenteindicadapuedelimitarsemediantelautilizaciónde?barrerasdevapor?queimpidanelpasodegases,vaporesolíóndelossurtidoresydeladisposicióndeloscabezaleselectrónicoslasbarrerasseclasificanendostipos:1.oBarrerasdevaportipo1.。BOE蝕刻液請(qǐng)認(rèn)準(zhǔn)蘇州博洋化學(xué)。江蘇電子級(jí)BOE蝕刻液批量定制

    T156WXB-500HB156WX1-100HT156WXB-502HB156WX1-600HB156WX1-500NT156WHM-N21HB156WX1-200NT156WHM-N10HB156FH1-301HB156FH1-401NT156WHM-N22NT156WHM-N12NT156WHM-N42NV156FHM-N31NT156WHM-N50NV156FHM-N41HT150X02-100HT150X02-101TDA150-004HM150X01-101TDA150-002HM150X01-200HT141WXB-100HT140WXB-100HT140WXB-501HT140WXB-101HT140WXB-300HT140WXB-400HB140WX1-100HT140WXB-601HB140WX1-200HW14WX101HW14WX102HW14WX103HB140WX1-300HB140WX1-500HB140WX1-600HB140WX1-101HT14X1B-121HB140WX1-501HB140WX1-401HB140WX1-400HB140WX1-301HB140WHA-101HB140WX1-503HB140FH1-401HB140WH1-504HB140FH1-301HB140WX1-601HT133WXB-100HN133WU3-100HB133WX1-402HB133WX1-403HN133WU1-100HB133WX1-201JH1330010LD1330020AV128HDM-NW0HB125WX1-100HB125WX1-200BA121S01-100TT121S0M-NW0HT116WXB-100IT1160020HN116WX1-100IT1160030IT1160040HN116WX1-102NT116WHM-N11NT116WHM-N21NT116WHM-N10IT1160060BA104S01-100BA104S01-200HT101WSA-100HT101WSB-100HT101WSB-101HT101WSB-200HT101WSB-201BA101WS1-100BP101WX1-100BP101WX1-200BP101WX1-300BA101WS2-100BP101WX1-203BP101WX1-20。上海專業(yè)BOE蝕刻液私人定做BOE蝕刻液的生產(chǎn)廠家。

    然后將裝有蝕刻液的石英燒瓶放入加熱套中加熱，待加熱到確定溫度后，放入氮化硅樣片進(jìn)行蝕刻；蝕刻完后，取出樣片采用熱超純水清洗和氮?dú)獯蹈珊螅褂脵E圓偏振光譜儀對(duì)蝕刻前所取位置的6個(gè)點(diǎn)的厚度進(jìn)行測(cè)量，計(jì)算蝕刻前后6個(gè)取點(diǎn)的厚度差值，對(duì)比6個(gè)點(diǎn)之間的厚度差值的差異。與現(xiàn)有的使用磷酸作為蝕刻液相比，本發(fā)明的有益效果是：醇醚類和表面活性劑的添加能明顯改善磷酸溶液的浸潤(rùn)性和降低磷酸溶液的表面張力，有效提高了蝕刻液對(duì)氮化硅層的潤(rùn)濕性和蝕刻均勻性。具體實(shí)施方式下面結(jié)合具體實(shí)施例，進(jìn)一步闡述本發(fā)明，對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明，但不限于這些實(shí)施例。本發(fā)明的蝕刻液配制時(shí)選擇的磷酸濃度為85％，蝕刻溫度為160℃，蝕刻時(shí)間為10min。先對(duì)所配制蝕刻液的表面張力進(jìn)行檢測(cè)，然后將氮化硅樣片使用超純水清洗和氮?dú)獯蹈珊螅M(jìn)行接觸角的測(cè)量；蝕刻前使用超純水清洗和氮?dú)獯蹈傻铇悠螅诘铇悠先?個(gè)不同位置的點(diǎn)對(duì)其厚度進(jìn)行測(cè)量；蝕刻完成后使用熱超純水清洗和氮?dú)獯蹈傻铇悠螅∨c蝕刻前相同位置的6個(gè)點(diǎn)進(jìn)行厚度測(cè)量。實(shí)施例1本發(fā)明的實(shí)施例按蝕刻液總質(zhì)量為400g進(jìn)行配制，先稱取濃度為85％的磷酸，然后稱取添加劑加入磷酸中。

    ?O?.Elinteriordeestaarquetasseclasificazona?O?debidoasusituaciónbajoelniveldesueloyportenerpuntosdeescapes,bienporladescargadecisternas,bienporlaoperaciónnormaldemedicióndetanquesomantenimientodelainstalació(zona?O?)seprocuraránoinstalarningúnequipoeléándeacuerdoporloquerespectaamaterialesycanalizacionesconlosapartadosSeleccióéctricasenzona?O?.oUnocomozona1queocupará.oOtroinmediatoalanterior,énconcentroenelpuntosuperiordedichasarquetas.[Figura5]),óptimamenteventilados,seclasificancomosigue:1.oUnocomozona1queocuparáásaltodelatuberíadeventilació.oOtro,inmediatoalanterior,énconcentroenelextremomásaltodelatuberíadeventilación.[Figura6])ímetroscúbicosomásdesubsustanciasdelgrupoE(puntodedestellomayode60),dichoslocalesseconsiderará)Eltipodematerialeléctricoainstalar:Engeneralsiemprequeseaposibleylainstalaciónlopermitadebeprocurarsenoinstalarenemplazamientospeligrosos,equiposeléctricosquepuedanproducirarcos。蘇州博洋化學(xué)股份有限公司，蝕刻液專業(yè)生產(chǎn)商。

    本發(fā)明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液，通過(guò)在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑，來(lái)改善磷酸的浸潤(rùn)性和表面張力，使之均勻蝕刻氮化硅。背景技術(shù)：氮化硅是一種具有很高的化學(xué)穩(wěn)定性的絕緣材料，氫氟酸和熱磷酸能對(duì)氮化硅進(jìn)行緩慢地腐蝕。在半導(dǎo)體制造工藝中，一般是采用熱磷酸對(duì)氮化硅進(jìn)行蝕刻，一直到了90nm的制程也是采用熱磷酸來(lái)蝕刻氮化硅。但隨著半導(dǎo)體制程的飛速發(fā)展，器件的特征尺寸越來(lái)越小，集成度越來(lái)越高，對(duì)制造工藝中的各工藝節(jié)點(diǎn)要求也越來(lái)越高，如蝕刻工藝中對(duì)蝕刻后晶圓表面的均勻性、蝕刻殘留、下層薄膜的選擇性等都有要求。在使用熱磷酸對(duì)氮化硅進(jìn)行蝕刻時(shí)，晶圓表面會(huì)出現(xiàn)不均勻的現(xiàn)象，體現(xiàn)于在蝕刻前后進(jìn)行相同位置取點(diǎn)的厚度測(cè)量時(shí)，檢測(cè)點(diǎn)之間蝕刻前后的厚度差值存在明顯差異。為了解決氮化硅蝕刻不均勻的問(wèn)題，通過(guò)在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑可以實(shí)現(xiàn)氮化硅層的均勻蝕刻。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種能均勻蝕刻氮化硅層的蝕刻液。本發(fā)明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液，所述蝕刻液的組成包括：占蝕刻液總重量≥88％的磷酸、％的醇醚類、％的表面活性劑。進(jìn)一步地，本發(fā)明涉及上述蝕刻液。天馬微電子用哪家BOE蝕刻液更多？江蘇電子級(jí)BOE蝕刻液批量定制

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    所述九氟丁基烷基醚主要由九氟正丁基烷基醚和九氟異丁基烷基醚組成。5.權(quán)利要求14中任一項(xiàng)的組合物，特征在于，所述組合物是共沸的或共沸型的。6.權(quán)利要求5的組合物，特征在于，所述組合物包含515重量％的甲基四氫呋喃和8595重量％的九氟丁基甲基醚。7.共沸組合物，其包含8重量％的甲基四氫呋喃和92重量％的九氟丁基甲基醚，并且在大氣壓()下具有°C的沸點(diǎn)。8.權(quán)利要求5的組合物，特征在于，所述組合物包含1040重量％的甲基四氫呋喃和6090重量％的九氟丁基乙基醚。9.共沸組合物，其包含％的甲基四氫呋喃和％的九氟丁基乙基醚，并且在大氣壓()下具有°C的沸點(diǎn)。10.制冷劑，特征在于，其包含前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的組合物。11.溶劑，特征在于，其包含權(quán)利要求19中任一項(xiàng)的組合物。全文摘要本發(fā)明涉及含有全氟丁基醚的共沸或共沸型混合物或組合物。更具體地說(shuō)，本發(fā)明涉及含有至少一種九氟丁基烷基醚和可生物降解化合物的組合物，該組合物可用作溶劑或制冷劑。江蘇電子級(jí)BOE蝕刻液批量定制