場效應管（英語：field-effect transistor，縮寫：FET）是一種通過電場效應控制電流的電子器件。它依靠電場去控制導電溝道形狀，因此能控制半導體材料中某種類型載流子的溝道的導電性。場效應晶體管有時被稱為“單極性晶體管”，以它的單載流子型作用對比雙極性晶體管。由于半導體材料的限制，以及雙極性晶體管比場效應晶體管容易制造，場效應晶體管比雙極性晶體管要晚造出，但場效應晶體管的概念卻比雙極性晶體管早。MOS管的寄生二極管，由于生產工藝，MOS 管會有寄生二極管，或稱體二極管。這是mos管與三極管較大的一個區別。場效應管的靈敏度較高，可以實現精確的電流控制。南京功耗低場效應管廠家供應

場效應管由于它只靠半導體中的多數載流子導電，又稱單極型晶體管。FET 英文為Field Effect Transistor，簡寫成FET。場效應管分為結型場效應管（JFET）和絕緣柵場效應管（MOS管）兩大類。按溝道材料型和絕緣柵型各分N溝道和P溝道兩種；按導電方式：耗盡型與增強型，結型場效應管均為耗盡型，絕緣柵型場效應管既有耗盡型的，也有增強型的。場效應晶體管可分為結場效應晶體管和MOS場效應晶體管，而MOS場效應晶體管又分為N溝耗盡型和增強型；P溝耗盡型和增強型四大類。無錫絕緣柵場效應管廠家直銷基本場效應管的特點包括輸入電阻高、輸入電容低。

高穩定場效應管的制造工藝堪稱嚴苛，從源材料的選擇開始，就嚴格把控材料純度，確保晶體結構完美無缺陷。這一系列嚴格的工藝措施，極大地降低了參數漂移的可能性，使其在各類復雜環境下都能始終保持穩定的性能。在精密測量儀器中，例如原子力顯微鏡，它需要探測原子級別的微小結構，對信號處理的穩定性要求極高；高精度頻譜分析儀要精確分析極其微弱的頻譜信號。高穩定場效應管就像一位堅定不移的守護者，在儀器長期運行過程中，保證信號處理與放大的穩定性，使測量精度始終恒定。無論是物理領域對微觀世界的深入研究，還是化學領域對物質結構的精確分析，亦或是生物領域對細胞分子的精細探測，高穩定場效應管都為科研工作者提供了可靠的數據，助力多學科在前沿領域不斷探索創新。

場效應管應用場景：電路主電源開關，完全切斷，低功耗省電。大功率負載供電開關，如：電機，太陽能電池充電\放電，電動車電池充電逆變器SPWM波升壓部分功率電路；功放，音響的功率線性放大電路；數字電路中用于電平信號轉換；開關電源中，高頻大功率狀態；用于LED燈的恒流驅動電路；汽車、電力、通信、工業控制、家用電器等。MOS管G、S、D區分以及電流流向。MOS管G、S、D表示什么？G：gate 柵極S：source 源極D：drain 漏極。MOS管是金屬(Metal)—氧化物(Oxid)—半導體(Semiconductor)場效應晶體管。市面上常有的一般為N溝道和P溝道。N溝道的電源一般接在D，輸出S，P溝道的電源一般接在S，輸出D。場效應管的主要作用是在電路中放大或開關信號，用于控制電流或電壓。

對于開關頻率小于100kHz的信號一般取（400～500）kHz載波頻率較好，變壓器選用較高磁導如5K、7K等高頻環形磁芯，其原邊磁化電感小于約1毫亨左右為好。這種驅動電路只適合于信號頻率小于100kHz的場合，因信號頻率相對載波頻率太高的話，相對延時太多，且所需驅動功率增大，UC3724和UC3725芯片發熱溫升較高，故100kHz以上開關頻率只對較小極電容的MOSFET才可以。對于1kVA左右開關頻率小于100kHz的場合，它是一種良好的驅動電路。該電路具有以下特點：單電源工作，控制信號與驅動實現隔離，結構簡單尺寸較小，尤其適用于占空比變化不確定或信號頻率也變化的場合。來看這個電路，控制信號PGC控制V4.2是否給P_GPRS供電。此電路中，源漏兩端沒有接反，R110與R113存在的意義在于R110控制柵極電流不至于過大，R113控制柵極的常態，將R113上拉為高，截至PMOS，同時也可以看作是對控制信號的上拉，當MCU內部管腳并沒有上拉時，即輸出為開漏時，并不能驅動PMOS關閉，此時，就需要外部電壓給予的上拉，所以電阻R113起到了兩個作用。R110可以更小，到100歐姆也可。場效應管是一種半導體器件，通過外部電場調節電導。無錫絕緣柵場效應管廠家直銷

MOSFET通過柵極與源極電壓調節，是現代電子器件中常見的元件。南京功耗低場效應管廠家供應

漏極電流iD沿溝道產生的電壓降使溝道內各點與柵極間的電壓不再相等，靠近源極一端的電壓較大，這里溝道較厚，而漏極一端電壓較小，其值為VGD=vGS－vDS，因而這里溝道較薄。但當vDS較小（vDS 隨著vDS的增大，靠近漏極的溝道越來越薄，當vDS增加到使VGD=vGS－vDS=VT(或vDS=vGS－VT)時，溝道在漏極一端出現預夾斷，如圖2(b)所示。再繼續增大vDS，夾斷點將向源極方向移動，如圖2(c)所示。由于vDS的增加部分幾乎全部降落在夾斷區，故iD幾乎不隨vDS增大而增加，管子進入飽和區，iD幾乎只由vGS決定。南京功耗低場效應管廠家供應