在微流體研究領域,德國 Polos 光刻機系列憑借獨特優勢脫穎而出。其無掩模激光光刻技術,打破傳統光刻的局限,無需掩模就能實現高精度圖案制作。這使得科研人員在構建微通道網絡時,可根據實驗需求自由設計,快速完成從圖紙到實體的轉化。?以藥物傳輸研究為例,利用 Polos 光刻機,能制造出尺寸precise、結構復雜的微通道,模擬人體環境,讓藥物在微小空間內可控流動,much提升藥物傳輸效率研究的準確性。同時,在細胞培養實驗中,該光刻機制作的微流體芯片,為細胞提供穩定且適宜的生長環境,助力細胞生物學研究取得新突破。小空間大作為的 Polos 光刻機,正推動微流體研究不斷向前。未來技術儲備:持續研發光束整形與多材料兼容工藝,lead微納制造前沿。湖北德國BEAM光刻機
某能源研究團隊采用 Polos 光刻機制造了壓電式微型能量收集器。其激光直寫技術在 PZT 薄膜上刻制出 50μm 的叉指電極,器件的能量轉換效率達 35%,在 10Hz 振動下可輸出 50μW/cm2 的功率。通過自定義電極間距和厚度,該收集器可適配不同頻率的環境振動,在智能穿戴設備中實現了運動能量的實時采集與存儲。其輕量化設計(體積 < 1mm3)還被用于物聯網傳感器節點,使傳感器續航時間從 3 個月延長至 2 年。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。北京POLOSBEAM-XL光刻機光源波長405微米實時觀測系統:120 FPS高清攝像頭搭配20x尼康物鏡,實現加工過程動態監控。
在制備用于柔性顯示的納米壓印模板時,Polos 光刻機的亞微米級定位精度(±50nm)確保了圖案的均勻復制。某光電實驗室使用該設備,在石英基底上刻制出周期 100nm 的柱透鏡陣列,模板的圖案保真度達 99.8%,邊緣缺陷率低于 0.1%。基于此模板生產的柔性 OLED 背光模組,亮度均勻性提升至 98%,厚度減至 50μm,成功應用于下一代折疊屏手機,相關技術已授權給三家面板制造商。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。
低成本桌面化光刻:SPS POLOS μ的科研普惠!Polos系列在微流體領域實現復雜3D流道結構的快速成型。例如,中科院理化所利用類似技術制備跨尺度微盤陣列,研究細胞浸潤行為,為組織工程提供新策略3。Polos的高精度與靈活性支持仿生結構批量生產,推動醫療診斷芯片研發,如tumor篩查與藥物遞送系統的微型化64。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。多材料兼容性:同步加工陶瓷 / PDMS / 金屬,微流控芯片集成電極與通道一步成型。
Polos光刻機與德國Lab14集團、弗勞恩霍夫研究所等機構合作,推動光子集成與半導體封裝技術發展。例如,Quantum X align系統的高對準精度(100 nm)為光通信芯片提供可靠解決方案,彰顯德國精密制造與全球產業鏈整合的優勢。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。德國工藝:精密制造基因,10 年以上使用壽命,維護成本低,設備殘值率達 60%。天津POLOSBEAM光刻機MAX層厚可達到10微米
微流體3D成型:復雜流道快速曝光,助力tumor篩查芯片與藥物遞送系統研發。湖北德國BEAM光刻機
某revolution生物醫學研究機構致力于開發快速、precise的疾病診斷技術。在研發一種用于早期tumor篩查的微流體診斷芯片時,采用了德國 Polos 光刻機。利用其無掩模激光光刻技術,科研團隊成功制造出擁有復雜微通道網絡的芯片。這些微通道能精確控制生物樣本與檢測試劑的混合及反應過程,極大提高了檢測的靈敏度和準確性。以往使用傳統光刻技術制備此類芯片,不only周期長,且精度難以保證。而 Polos 光刻機使制備周期縮短了近三分之一,助力該機構在tumor早期診斷研究上取得重大突破,相關成果已發表在國際authority醫學期刊上。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。湖北德國BEAM光刻機