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來源: 發(fā)布時間:2023-10-26

CPS納米粒度儀測量金剛石的粒徑:金剛石微粉是指顆粒度細于36/54微米的金剛石顆粒,金剛石微粉硬度高、耐磨性好。大量用于機械、航天、光學儀器、玻璃、陶瓷、電子、石油、地質(zhì)、工業(yè)部門,用于制作PCD(聚晶金剛石)、 PDC(金剛石復合片)、陶瓷結合劑、金屬結合劑、電鍍產(chǎn)品;制作拉絲模、電鍍磨具,陶瓷、金屬結合劑磨具等;制造金剛石樹脂結合劑彈性磨塊等;用于精密機械、光學玻璃、精細陶瓷、寶石及半導體等產(chǎn)品的研磨拋光。CPS納米粒度分析儀測量金剛石微粉的粒徑。馳光機電科技有限公司品質(zhì)好、服務好、客戶滿意度高。海南高精度納米粒度分析儀哪家好

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系統(tǒng)配有沖洗系統(tǒng),減少了由于系統(tǒng)污染引起的計劃外停機維護時間。樣品預處理系統(tǒng):正確設計和操作樣品調(diào)節(jié)系統(tǒng)是分析儀成功運行的關鍵。該系統(tǒng)基于現(xiàn)場經(jīng)驗針對這種復雜的工藝樣品,專門為低維護操作而設計。低維護的固體顆粒分離器。不帶過濾元件可將顆粒去除達到2-3微米,減少了維護量。先進的安全系統(tǒng),保護分析儀免受高壓影響和防止產(chǎn)品泄漏。簡單校準。標準的引入是一種手工操作,只需使用注射器即可,不需要定期重新校準,無樣本回收系統(tǒng)。遼寧激光粒度分析儀哪家好馳光機電品質(zhì)好、服務好、客戶滿意度高。

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而CMP工藝離不開研磨料的發(fā)展,那么對于磨料的顆粒粒度表征就顯得尤為重要了。CMP就是用化學腐蝕和機械力對加工過程中的硅晶圓或其它襯底材料進行平滑處理。將硅片固定在拋光頭的較下面,將拋光墊放置在研磨盤上,拋光時,旋轉(zhuǎn)的拋光頭以一定的壓力壓在旋轉(zhuǎn)的拋光墊上,由亞微米或納米磨粒和化學溶液組成的研磨液在硅片表面和拋光墊之間流動,然后研磨液在拋光墊的傳輸和離心力的作用下,均勻分布其上,在硅片和拋光墊之間形成一層研磨液液體薄膜。

UHR型可達1%,良好性能:CPS高精度納米粒度分析儀能夠提供高分辨率準確的分析結果,即使對于使用其它分析方法非常難分析的樣品,CPS依然能夠提供滿意的分析結果。高分辨率:CPS具有強大的分辨率,粒徑差別在2%以內(nèi)的窄峰可以被完全分辨出來。所示樣品包含五種不同的聚苯乙烯標定顆粒,在圖中可以清楚地看到它們完全被分辨出來呈現(xiàn)為五個單獨的粒度峰。高準確度:可追溯&校準到NIST標準顆粒的可靠、重復性結果。高精度:與SEM/顯微鏡分析結果的對比。馳光機電科技有限公司通過專業(yè)的知識和可靠技術為客戶提供服務。

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光電探測器陣列由一系列同心環(huán)帶組成,每個環(huán)帶是一個單獨的探測器,能將投射到上面的散射光線形地轉(zhuǎn)換成電壓,然后送給數(shù)據(jù)采集卡,該卡將電信號放大,再進行AID轉(zhuǎn)化后送入計算機。激光粒度儀依據(jù)全量程米氏散射理論,充分考慮到被測顆粒和分散介質(zhì)的折射率等光學性質(zhì),根據(jù)激光照射在顆粒上產(chǎn)生的散射光能量反演出顆粒群的粒度大小和粒度分布規(guī)律。激光粒度儀注意事項:本儀器適用于<1mm粒度測定,>1mm的應過篩測定;必須先開計算機電源,工作正常后,再開儀器電源,順序不能反了,否則信號送不到計算機。馳光機電傾城服務,確保質(zhì)量無后顧之憂。山西高純度氧化鋁粉粒度在線分析儀報價

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CPS利用差速離心沉降法的原理表征不同處理方式下病毒顆粒的沉降時間,以及病毒顆粒的團聚情況,峰值清晰可見,為疫苗的研發(fā)生產(chǎn)提供全新的解決方案。應用范圍:CPS納米粒度分析儀可測量粒度分布在5nm-75微米之間的超細粉,大量應用于以下領域。化工:聚合物乳膠和乳液,助劑及添加劑(納米碳酸鈣CaCO,重晶石3CaSO),白炭黑SiO2,金剛石、磨料、陶瓷、碳化硅、氮化硅等,抗沖擊增強顆粒。制藥/生物:納米金和納米銀,病毒和類病毒顆粒,細胞和細胞碎片,蛋白質(zhì),脂質(zhì)體。海南高精度納米粒度分析儀哪家好

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