而化學機械拋光（Chemical mechanical polishing，CMP）是集成電路芯片的一個關鍵制程，國內拋光所用關鍵材料CMP拋光墊，幾乎全部依賴進口。CMP典型的拋光漿料都是納米級發煙硅石(5Vol%，170-230nm)、高純硅膠(9Vol%，6-80nm)、氧化鈰(6Vol%，200-240nm)或氧化鋁顆粒，它們的粒度或粒度分布必須小心地進行控制以免在拋光面上產生刮痕。CMP漿料的分散穩定性和保存期也是必須被認真考慮的重要環節。這種納米漿料的使用濃度一般在(5-30W%)，容易聚集。隨著貯存時間延長，它的粒度可能增大從而導致損害的產生。馳光機電品牌價值不斷提升。重慶激光粒度分析儀報價

測量低密度顆粒：示差沉降法過去一般用于測量密度大于分散介質液體密度的顆粒，CPS開發了一項新的技術技術(US Patent5,786,898)。很多用常規示差沉降法很難或者不可能分析的材料(例如油乳液、蠟乳液、粘性乳液或脂質體)，現在可以方便地使用CPS進行分析，而且精度很高。速度調節：CPS開發了一種特殊的圓盤設計使得在分析過程中可以調節圓盤的轉速，而不會對沉降液體產生擾動，轉速可以在20倍范圍內升高或者降低，這樣一來就使得分析的動態范圍幾乎增大了20倍。上海高純度氧化鋁粉粒度在線分析儀價格馳光機電團結、創新、合作、共贏。

馳光機電小編溫馨提示：為了準確地測量顆粒直徑，EyeTech必須區分在焦點中心的和離開焦點中心的交互作用，因為只有在焦點中心的交互信號才能提供真實的顆粒直徑。這個可以采用脈沖形狀過濾器可以實現。只有衍生信號窄的脈沖才被認為是在中心的交互信號，然后被加到粒徑分布數據中。顆粒互相作用產生光阻：可記錄每個顆粒數據，直接測量真實粒徑，與光學及其他性質無關，粒徑濃度均可檢測，無需校正；儀器的光學測量系統（主機）與樣品分散系統完全單獨的。

水泥的粒度分布如何將較大的影響混凝土的強度。粒度分布的測量對產品的質量控制，降低生產成本，提高產品質量，減少能耗方面均有較大的作用。對于水泥生產的實時控制，就需要粒度儀這樣的監控儀器，保證數據的輸出連續性，確保質量的可靠。納米粒度儀采用動態光散射原理和光子相關光譜技術，根據顆粒在液體中的布朗運動的速度測定顆粒大小。小顆粒布朗運動速度快，大顆粒布朗運動速度慢，激光照射這些顆粒，不同大小的顆粒將使散射光發生快慢不同的漲落起伏。馳光機電科技有限公司與廣大客戶攜手共創碧水藍天。

高靈敏度：即使只有1微克樣品，CPS也能得到一個準確的粒度分布結果。快速、高精度數模(A/D)轉換：可用信號分辨率(即軟件操作的數據對象)決定于數模轉換(A/D)過程。CPS系統使用的數模轉換可以實現在每秒31次取樣時保持20位以上的精度，即百萬分之一的誤差。快速檢測頭響應：CPS系統的檢測頭和電路設計允許在95%精度下0.1秒的響應速度，而同類產品的響應時間為1-4秒。這一出眾的快速移動峰值檢測能力較大地擴展了測量的動態范圍，比同類型產品提供高出4倍多的分析速度。馳光機電科技有限公司嚴格控制原材料的選取與生產工藝的每個環節，保證產品質量不出問題。陜西CPS高精度納米粒度分析儀報價

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因此，需要對其粒徑的分布進行測試。而目前對炭黑的粒徑測量方法為差速沉淀法。由于常用的炭黑粒徑比較均勻，在測試時粒徑的分布常呈現正態曲線分布，但在裂解后炭黑中混有橡膠纖維，導致粒徑變大，不同粒徑炭黑的含量不同，不再呈現均勻的正態分布。造成樣品的測試比較困難。美國CPS24000納米粒度分析儀可以真實反映樣品在溶液中的真實粒徑分布狀態，粒徑測試結果的精確度只次于掃描電鏡。主要特點如下：所需樣品量少，每次只需要0.1ml，這在疫苗研發、化學合成方面具有較大的優勢。重慶激光粒度分析儀報價