為了提高粒徑的測量精度，需要較高的圓盤轉速，目前市面上常見的運行速度較高在15000RPM，而國內在1500RPM，無法滿足CPM化學機械拋光的需求。CPS-24000納米粒度儀的最高轉速為24000轉，測試范圍在5nm-75um，每次加樣只需要0.1ml，降低樣液的測試成本，可連續測量多達40個樣品。CPS納米粒度分析儀的使用方法已經列入國標，包括《金屬粉末粒度分布的測量-重力沉淀光透法》、《煤礦粉塵粒度分布測定方法》、《橡膠配合劑-炭黑-聚集體尺寸的測定-使用光跟蹤盤式離心沉淀儀法》等。選擇馳光機電科技有限公司，就是選擇質量、真誠和未來。河南病毒顆粒分析儀廠家

對于粒徑分布范圍很寬的樣品，通過可選的速度調節功能圓盤，只需常規圓盤分析時間的1/20。經過CPS納米粒度儀對裂解后炭黑進行粒徑測試后的結果所示：與掃描電鏡所顯示的結果基本一致，裂解后的炭黑較小粒徑為3um，較大可至50多微米，并且出現很多峰值，證明樣液中具有不同粒徑且含量不同的的炭黑。峰值粒徑處于30um左右。真實反映了不同炭黑粒徑的分布狀態。隨著半導體工業飛速發展，電子器件尺寸縮小，要求晶片表面平整度達到納米級。作為芯片制造不可或缺的一環，CMP工藝在設備和材料領域歷來是受歡迎的。新疆納米粒度分析儀廠家馳光機電以顧客為本，誠信服務為經營理念。

氧化鋅可以應用于病毒載體制劑，并且病毒顆粒大小和病毒聚集對基于病毒的生物制品的下游加工、配方和混合有著巨大的影響此款設備在有關工藝優化和產品質量等重要問題上有重要的參考價值。CPS納米粒度分析儀可以直觀準確的表征病毒顆粒的團聚情況。CPS納米粒度分析儀測定不同處理方式下病毒顆粒的團聚情況的結果，儀器使用轉速為24,000轉/分?？梢悦黠@看到病毒顆粒是否發生團聚現象，儀器分辨率很好。CPS利用差速離心沉降法的原理表征不同處理方式下病毒顆粒的沉降時間，以及病毒顆粒的團聚情況。

印刷和涂料，涂料：水基和油基涂料，微纖維涂料粘度改性劑，打印機/復印件墨粉，噴墨打印機墨水，炭黑，磁性材料。半導體：微磨料，CMP化學機械拋光。其他：納米微球，淀粉/面粉顆粒，顆粒團聚模式分析，標準顆粒。CPS納米粒度分析儀的操作軟件集數據于一體，主要包括以下特性：后臺數據采集，允許測量時瀏覽數據；重量，表面積，數量和吸收分布圖；可以在同一張圖表上顯示20個不同的分布結果；可定制的分布統計輸出結果；完整的粒度分布統計。馳光機電尊崇團結、信譽、勤奮。

光電探測器陣列由一系列同心環帶組成，每個環帶是一個單獨的探測器，能將投射到上面的散射光線形地轉換成電壓，然后送給數據采集卡，該卡將電信號放大，再進行AID轉化后送入計算機。激光粒度儀依據全量程米氏散射理論，充分考慮到被測顆粒和分散介質的折射率等光學性質，根據激光照射在顆粒上產生的散射光能量反演出顆粒群的粒度大小和粒度分布規律。激光粒度儀注意事項：本儀器適用于＜1mm粒度測定，＞1mm的應過篩測定；必須先開計算機電源，工作正常后，再開儀器電源，順序不能反了，否則信號送不到計算機。馳光機電科技有限公司通過專業的知識和可靠技術為客戶提供服務。河南病毒顆粒分析儀廠家

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CMP(化學機械拋光)工藝中磨料顆粒的高精度粒徑表征隨著半導體工業飛速發展，電子器件尺寸縮小，要求晶片表面平整度達到納米級。CMP工藝作為芯片制造業不可或缺的一個部分，其對于磨料的顆粒粒度表征要求十分重要。CMP過程中使用的磨料顆粒典型尺寸范圍是10-200nm，其顆粒表征要求精確地確定納米級顆粒的尺寸，因此高分辨率納米粒度分析儀是磨料顆粒表征的完美解決方案。磨料對CMP工藝起著至關重要的作用！歡迎選用CPS納米粒度分析儀為您完美解決磨料顆粒問題！河南病毒顆粒分析儀廠家

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