主營產品: 技術服務(工藝及測試)|太赫茲/微波毫米波芯片|功率源/光電芯片|異質異構集成芯片
刻蝕是緊隨光刻之后的步驟,用于去除硅片上不需要的部分,從而塑造出芯片的內部結構。刻蝕工藝包括干法刻蝕和濕法刻蝕兩種。干法刻蝕主要利用等離子體...
隨著科技的進步,光電測試設備也在不斷更新換代。從早期的簡單光電元件到如今的高精度光電傳感器和集成化測試系統,光電測試設備的性能得到了明顯提升...
沉積技術是流片加工中用于形成金屬連線、絕緣層和其他薄膜材料的關鍵步驟。根據沉積方式的不同,沉積技術可分為物理沉積和化學沉積。物理沉積主要包括...
光電測試的關鍵技術主要包括光電轉換技術、信號處理技術和數據分析技術。光電轉換技術是將光信號轉化為電信號的關鍵,其轉換效率和穩定性直接影響到測...
南京中電芯谷高頻器件產業技術研究院成立于2018年5月24日,研究院依托固態微波器件與電路全國重點實驗室(南京)、中國電科五十五所,聚焦高頻電子器件領域,圍繞太赫茲技術、微波毫米波芯片、光電集成芯片、異質異構集成芯片、碳電子器件五大研究方向開展產業共性關鍵技術研發、科技成果集成、技術轉移轉化、技術服務、產業發展戰略研究、高科技企業孵化,建成先進的高頻器件產業孵化平臺,推進高頻器件產業化進程。