根據對華新光電、日東集團的剝離液成分進行分析得知,剝離液主要成分為單乙醇胺(MEA),二甲亞砜(DMS0)和二乙二醇單丁醚(BDG),其中市場上大部分以二乙二醇單丁醚居多。剝離液廢液多呈深黑色且氣味大,由以下幾種組分構成:(1)、1~20%重量的醇胺或者酰胺,以伯胺和腫胺為主。(2)、10~60%重量的醇;(3)、10~50%重量的水;(4)、5~50%重量的極性有機溶劑,如;N-甲基吡咯烷酮(NMP),環丁基砜、二甲基亞砜(DMSO)、二甲基乙酰胺、N-乙基甲酰胺等。(5)、0.001~3%重量的金屬抗蝕劑,如2-氨基環己醇、2-氨基環戊醇等。根據上述分析可以看出,剝離液中大部分是有機溶劑,...
砷化鎵也有容易被腐蝕的特點,比如堿性的氨水、酸性的鹽酸、硫酸、硝酸等。去膠,也成為光刻膠的剝離。即完成光刻鍍膜等處理之后,需要去除光刻膠之后進行下一步。有時直接采用**+異丙醇的方式就可以去除。但是對于等離子體處理過的光刻膠,一般就比較難去除干凈。有的人把**加熱到60℃,雖然去膠效果快了一些,但是**沸點是60℃,揮發的特別快,而且**蒸汽也有易燃的風險,因此找一款去膠效果好的光刻膠剝離液十分有必要。介紹常見的一款剝離液,該剝離液去膠效果好,但是對砷化鎵有輕微腐蝕,不易長時間浸泡。工藝參數因產品和光刻膠的種類而不同,但基本上都要加熱。好的剝離液的標準是什么。京東方用的蝕刻液剝離液推薦貨源濕電...
腔室10及過濾器30可以采用與現有技術相同的設計。處于剝離制程中的玻璃基板,按照玻璃基板傳送方向從當前腔室101開始逐級由各腔室10向玻璃基板供給剝離液以進行剝離制程。剝離液從當前腔室101進入相應的存儲箱20,在剝離液的水平面超過預設高度后流入過濾器30,再經過過濾器30的過濾將過濾后的剝離液傳送至下一級腔室102內。其中,薄膜碎屑70一般為金屬碎屑或ito碎屑。其中,如圖2所示,圖2為本申請實施例提供的剝離液機臺100的第二種結構示意圖。閥門開關60設置在***管道40及第二管道50上。在過濾器30被阻塞時,關閉位于過濾器30兩側的***管道40及第二管道50上的閥門開關60,可以...
濕電子化學品位于電子信息產業偏中上游的材料領域。濕電子化學品上游是基 礎化工產品,下游是電子信息產業(信息通訊、消費電子、家用電器、汽車電子、 LED、平板顯示、太陽能電池、**等領域)。濕電子化學品的生產工藝主要采用物 理的提純技術及混配技術,將工業級的化工原料提純為超凈高純化學試劑,并按照 特定的配方混配為具有特定功能性的化學試劑。濕電子化學品行業是精細化工和電 子信息行業交叉的領域,其行業特色充分融入了兩大行業的自身特點,具有品種多、 質量要求高、對環境潔凈度要求苛刻、產品更新換代快、產品附加值高、資金投入 量大等特點,是化工領域相當有發展前景的領域之一。剝離液的發展趨勢如何。滁州江化微...
所述過濾器包括多個并列排布的子過濾器,所述***管道包括多個***子管道,每一所述***子管道與一子過濾器連通,且所述多個***子管道與當前級腔室對應的存儲箱連通。在一些實施例中,所述第二管道包括公共子管道及多個第二子管道,每一所述第二子管道與一子過濾器連通,每一所述第二子管道與所述公共子管道連通,所述公共子管道與所述下一級腔室連通。在一些實施例中,所述閥門開關設置在每一所述***子管道上。在一些實施例中,所述閥門開關設置在每一所述第二子管道上。在一些實施例中,所述閥門開關設置在每一所述***子管道及每一所述第二子管道上。在一些實施例中,所述第二管道包括多個第三子管道,每一所述第三子管...
濕電子化學品位于電子信息產業偏中上游的材料領域。濕電子化學品上游是基 礎化工產品,下游是電子信息產業(信息通訊、消費電子、家用電器、汽車電子、 LED、平板顯示、太陽能電池、**等領域)。濕電子化學品的生產工藝主要采用物 理的提純技術及混配技術,將工業級的化工原料提純為超凈高純化學試劑,并按照 特定的配方混配為具有特定功能性的化學試劑。濕電子化學品行業是精細化工和電 子信息行業交叉的領域,其行業特色充分融入了兩大行業的自身特點,具有品種多、 質量要求高、對環境潔凈度要求苛刻、產品更新換代快、產品附加值高、資金投入 量大等特點,是化工領域相當有發展前景的領域之一。質量好的剝離液的公司聯系方式。紹...
本申請涉及半導體工藝技術領域,具體涉及一種剝離液機臺及其工作方法。背景技術:剝離(lift-off)工藝通常用于薄膜晶體管(thinfilmtransistor)制程中的光罩縮減,lift-off先形成光阻并圖案化,再在光阻上成膜,移除光阻的同時,沉積在光阻上的膜層也被剝離,從而完成膜層的圖形化,通過該制程可以實現兩次光刻合并為一次以達到光罩縮減的目的。現有技術中,由于光阻上沉積了薄膜(該薄膜材料可以為金屬,ito(氧化銦錫)等用于制備tft的膜層),在剝離光阻的同時薄膜碎屑被帶入剝離液(stripper)中,大量的薄膜碎屑將會導致剝離液機臺中的過濾器(filter)堵塞,從而導致機臺...
根據對華新光電、日東集團的剝離液成分進行分析得知,剝離液主要成分為單乙醇胺(MEA),二甲亞砜(DMS0)和二乙二醇單丁醚(BDG),其中市場上大部分以二乙二醇單丁醚居多。剝離液廢液多呈深黑色且氣味大,由以下幾種組分構成:(1)、1~20%重量的醇胺或者酰胺,以伯胺和腫胺為主。(2)、10~60%重量的醇;(3)、10~50%重量的水;(4)、5~50%重量的極性有機溶劑,如;N-甲基吡咯烷酮(NMP),環丁基砜、二甲基亞砜(DMSO)、二甲基乙酰胺、N-乙基甲酰胺等。(5)、0.001~3%重量的金屬抗蝕劑,如2-氨基環己醇、2-氨基環戊醇等。根據上述分析可以看出,剝離液中大部分是有機溶劑,...
本申請實施例還提供一種剝離液機臺的工作方法,請參閱圖5,圖5為本申請實施例提供的剝離液機臺的工作方法的流程示意圖,該方法包括:步驟110、將多級腔室順序排列,按照處于剝離制程的剝離基板的傳送方向逐級向剝離基板提供剝離液;步驟120、將來自于當前級腔室經歷剝離制程的剝離液收集和存儲于當前級腔室相應的存儲箱中,所述剝離液中夾雜有薄膜碎屑;步驟130、使用當前級腔室相應的過濾器過濾來自當前級腔室的剝離液并將過濾后的剝離液傳輸至下一級腔室;步驟140、若所述過濾器被所述薄膜碎屑阻塞,則關閉連接被阻塞的所述過濾器的管道上的閥門開關;步驟150、取出被阻塞的所述過濾器。若過濾器包括多個并列排布的子...
使用當前級腔室相應的過濾器過濾來自當前級腔室的剝離液并將過濾后的剝離液傳輸至下一級腔室;若所述過濾器被所述薄膜碎屑阻塞,則關閉連接被阻塞的所述過濾器的管道上的閥門開關;取出被阻塞的所述過濾器。在一些實施例中,所述若所述過濾器被所述薄膜碎屑阻塞,則關閉連接被阻塞的所述過濾器的管道上的閥門開關包括:若所述過濾器包括多個并列排布的子過濾器,則關閉連接被阻塞的所述子過濾器的管道上的閥門開關。本申請實施例還提供一種剝離液機臺,包括:依次順序排列的多級腔室、每一級所述腔室對應連接一存儲箱;過濾器,所述過濾器的一端設置通過***管道與當前級腔室對應的存儲箱連接,所述過濾器的另一端通過第二管道與下一級...
剝離液是用來干嘛的?簡單了解了剝離液的朋友圈,接下來,我們就展開講講剝離液是做什么的吧。剝離液通常用在蝕刻工藝完成之后,用于去除光刻膠和殘留物質,同時防止對下層的襯底層造成損壞。可以說我們現在正在看的手機、電腦屏幕都用到剝離液。據調研報告顯示,在LCD面板制造所需的濕電子化學品中,剝離液占比31%;在OLED面板制造所需的濕電子化學品中,剝離液占比44%;剝離液是顯示面板制造中用量比較大的濕電子化學品之一。那么,剝離液是如何應用在顯示面板中的呢?我們以“人體的新***”——手機為例。現在**常見的手機屏幕主要是LCD屏和OLED屏。龍騰光電用的哪家的剝離液?浙江哪家蝕刻液剝離液配方技術博洋股份...
實施例1~6:按照表1配方將二甲基亞砜、一乙醇胺、四甲基氫氧化銨、硫脲類緩蝕劑、聚氧乙烯醚類非離子型表面活性劑、n-甲基吡咯烷酮和去離子水混合,得到用于疊層晶圓的光刻膠剝離液。表1:注:含量中不滿100wt%的部分由去離子水補足余量。以cna披露的光刻膠剝離液作為對照例,與實施例1~6所得用于疊層晶圓的光刻膠剝離液進行比較試驗,對面積均為300cm2的疊層晶圓上的光刻膠進行剝離并分別測定剝離周期、金屬鍍層的腐蝕率和過片量(剝離的面壁數量)。對比情況見表2:表2:剝離周期/s金屬腐蝕率/ppm過片量/片實施例1130~15015376實施例2130~15016583實施例3130~150...
當當前級別腔室101對應的過濾器30被薄膜碎屑阻塞后,通過閥門開關60關閉當前級別腔室101對應的存儲箱20與過濾器30之間的液體流通,從而可以在閥門開關60關閉后取下被阻塞的過濾器30進行清理并不會導致之后的下一級腔室102的剝離進程無法繼續。其中,腔室10用于按照處于剝離制程的玻璃基板的傳送方向逐級向玻璃基板分別提供剝離液;與多個腔室10分別對應連接的多個存儲箱20,各級腔室10分別通過管道與相應的存儲箱20連接,存儲箱20用于收集和存儲來自當前級腔室101的經歷剝離制程的剝離液;過濾器30用于過濾來自當前級腔室101的存儲箱20的剝離液,并且過濾器30還可以通過管道與下一級腔室1...
技術領域:本發明涉及一種選擇性剝離光刻膠制備微納結構的方法,可用于微納制造,光學領域,電學,生物領域,mems領域,nems領域。技術背景:微納制造技術是衡量一個國家制造水平的重要標志,對提高人們的生活水平,促進產業發展與經濟增長,保障**安全等方法發揮著重要作用,微納制造技術是微傳感器、微執行器、微結構和功能微納系統制造的基本手段和重要基礎。基于半導體制造工藝的光刻技術是**常用的手段之一。對于納米孔的加工,常用的手段是先利用曝光負性光刻膠并顯影后得到微納尺度的柱狀結構,再通過金屬的沉積和溶膠實現圖形反轉從而得到所需要的納米孔。然而傳統的方法由于光刻過程中的散焦及臨近效應等會造成曝光...
使用當前級腔室相應的過濾器過濾來自當前級腔室的剝離液并將過濾后的剝離液傳輸至下一級腔室;若所述過濾器被所述薄膜碎屑阻塞,則關閉連接被阻塞的所述過濾器的管道上的閥門開關;取出被阻塞的所述過濾器。在一些實施例中,所述若所述過濾器被所述薄膜碎屑阻塞,則關閉連接被阻塞的所述過濾器的管道上的閥門開關包括:若所述過濾器包括多個并列排布的子過濾器,則關閉連接被阻塞的所述子過濾器的管道上的閥門開關。本申請實施例還提供一種剝離液機臺,包括:依次順序排列的多級腔室、每一級所述腔室對應連接一存儲箱;過濾器,所述過濾器的一端設置通過***管道與當前級腔室對應的存儲箱連接,所述過濾器的另一端通過第二管道與下一級...
例如即使為50/50μm以下的線/間距、推薦10/10~40/40μm的線/間距也能除去抗蝕劑。實施例以下,舉出實施例對本發明進行詳細說明,但本發明不受這些實施例任何限定。實施例1抗蝕劑的剝離液的制備:將以下的表1中記載的成分在水中混合、溶解而制備抗蝕劑的剝離液。【表1】(mol/l)氫氧化鉀氫氧化鈉異丙基溶纖劑硅酸鉀本發明組成:(1)基板制作方法為了提**膜抗蝕劑一基材間的密合,將覆銅層疊板(古河電工(株式會社)制:ccl:電解銅箔gts35μm箔)通過粗化處理(jcu制:ebakemuneobrownnbsii、蝕刻量μm)使表面粗度成為ra約μm。其后,使用干膜抗蝕劑(日立化成制...
光刻作為IC制造的關鍵一環常常被人重視,但是光刻膠***都是作為**層被去掉的,如何快速、干凈的去除工藝后的光刻膠是一個經常被疏忽的問題,但是很重要,直接影響了產品質量。如何快速有效的去除光刻膠。筆者**近就碰到一些去膠的問題,比如正膠和負膠去除需要的工藝有差別。去膠工藝還和光刻膠受過什么樣的工藝處理有關,比如ICPRIE之后的光刻膠、還有濕法腐蝕后的光刻膠。市面上針對光刻膠去除的特殊配方的去膠液有很多種,但需要根據自身產品特性加以選擇。在做砷化鎵去除光阻的案例,砷化鎵是一種化合物半導體材料,分子式GaAs。立方晶系閃鋅礦結構,即由As和Ga兩種原子各自組成面心立方晶格套構而成的復式晶格,其晶...
光電行業的大力發展,致使剝離液被國內外研究人員所關注及研究,雖然在**網及技術網上對剝離液的闡述較少,但當前國內與國外均在剝離液廢液如何利用及處置方面有了一定的成果,。美國專利US7273560公布了包含單乙醇胺與二乙二醇單丁醚組合的光刻膠剝離液廢液中含有、77%的二乙二醇單丁醚、3%的光刻膠和。現有技術***采用的光刻膠剝離液廢液回收方法通常是通過薄膜蒸發器回收大部分的有機成分,回收得到的有機組分或再經脫色脫水等處理后可再次作為光刻膠剝離液應用。這種方法雖然流程簡便,但在使用薄膜蒸發器蒸發溶劑過程中,光刻膠濃度達到一定程度后其傳熱傳質效率快速下降,使溶劑回收效率大為降低,處理能耗...
所述過濾器包括多個并列排布的子過濾器,所述***管道包括多個***子管道,每一所述***子管道與一子過濾器連通,且所述多個***子管道與當前級腔室對應的存儲箱連通。在一些實施例中,所述第二管道包括公共子管道及多個第二子管道,每一所述第二子管道與一子過濾器連通,每一所述第二子管道與所述公共子管道連通,所述公共子管道與所述下一級腔室連通。在一些實施例中,所述閥門開關設置在每一所述***子管道上。在一些實施例中,所述閥門開關設置在每一所述第二子管道上。在一些實施例中,所述閥門開關設置在每一所述***子管道及每一所述第二子管道上。在一些實施例中,所述第二管道包括多個第三子管道,每一所述第三子管...
能夠除去抗蝕劑。用本發明剝離液處理施加有抗蝕劑的基材的條件沒有特別限定,例如,可以舉出在設為10~80℃的本發明剝離液中浸漬基材1~60分鐘左右的條件、將設為10~80℃的本發明剝離液向基材噴霧1~60分鐘左右的條件。需要說明的是,浸漬時,可以搖動基材,或對本發明剝離液施加超聲波。抗蝕劑的種類沒有特別限定,可以是例如干膜抗蝕劑、液體抗蝕劑等中的任一種。干膜抗蝕劑的種類也沒有特別限定,例如推薦堿可溶型的干膜抗蝕劑。作為這樣的堿可溶型的干膜抗蝕劑,例如,可以舉出rd-1225(sap用25μm厚)(日立化成株式會社制)等。施加抗蝕劑的基材沒有特別限定,例如,可以舉出印刷布線板、半導體基板、...
按照組成成分和應用工藝不同,濕電子化學品可分為通用性和功能性濕電子化 學品。通用濕電子化學品以超凈高純試劑為主,一般為單組份、單功能、被大量使 用的液體化學品,按照性質劃分可分為:酸類、堿類、有機溶劑類和其他類。酸類 包括氫氟酸、硝酸、鹽酸、硫酸、磷酸等;堿類包括氨水、氫氧化鈉、氫氧化鉀等;有機溶劑類包括甲醇、乙醇、異丙醇、**、乙酸乙酯等;其他類包括雙氧水等。功能濕電子化學品指通過復配手段達到特殊功能、滿足制造中特殊工藝需求的復配 類化學品,即在單一的超凈高純試劑(或多種超凈高純試劑的配合)基礎上,加入 水、有機溶劑、螯合劑、表面活性劑混合而成的化學品。例如剝離液、顯影液、蝕 刻液、清洗液等...
所述防濺射擋板下方安裝有印刷輥,所述表面印刷結構一側安裝有所述膠面剝離結構,所述膠面剝離結構上方安裝有收卷調速器,所述收卷調速器一側安裝有收卷驅動電機,所述收卷驅動電機一側安裝有輥固定架,所述輥固定架一側安裝有膠水盛放箱,所述膠水盛放箱下方安裝有點膠頭,所述點膠頭下方安裝有卷邊輥,所述卷邊輥一側安裝有膠面收卷輥,所述膠面剝離結構一側安裝有電加熱箱,所述電加熱箱下方安裝有熱風噴頭,所述熱風噴頭下方安裝有干燥度感應器,所述干燥度感應器下方安裝有電氣控制箱,所述電氣控制箱上方安裝有液晶操作面板。進一步的,所述主支撐架與所述橫向支架通過螺栓連接,所述伺服變頻電機與所述電機減速箱通過導線連接。進...
具體實施方式現有技術中剝離液廢液中含有光刻膠樹脂、水和某些金屬雜質,而剝離液廢液的處理主要是通過焚燒或者低水平回收,其大量的使用但不能夠有效地回收,或者回收后需要通過大量的時間分析其含量以及花大量時間進行再生處理,影響了剝離液廢液的利用率。本發明對于已知的剝離液的含量以及比例有預先的了解,通過預先制定添加劑的方法,將添加劑以及某些原材料加入后重新制備剝離液新液。本發明中對于回收的剝離液廢液的進一步處理加工,是采用現有技術中加壓、蒸餾等方式,可以是采用階段性變壓精餾塔進行加壓、蒸餾處理。表1:已知的剝離液新液的組分:表二:添加劑的組分組分比例:純化液體的組分表四:制備剝離液新液在對純化液...
用顯微鏡觀察也難以看出的程度)3:有少量殘渣4:基本能剝離,但一部分殘渣多5:一半以上能剝離,但一部分殘渣多6:基本不能剝離,但一部分剝離7:不能剝離【表2】由該結果可知,在含有溶纖劑的抗蝕劑的剝離液中使用氫氧化鉀代替氫氧化鈉的本發明組成,與使用氫氧化鈉的比較組成相比,即使l/s狹窄,也能除去抗蝕劑。(3)剝離性能的評價方法將液溫設為50℃的各剝離液使用噴涂裝置向上述試驗片實施剝離處理,將試驗片的粘性部分的dfr以目視全部面積的90%以上被剝離的時刻作為剝離時間。另外,剝離片尺寸(長邊)是采集噴涂停止后附著于設置于試驗基板固定用的臺上的排渣用網眼的剝離片以目視實施的。此時的噴涂裝置的條...
本發明涉及能夠從施加有抗蝕劑的基材剝離抗蝕劑的抗蝕劑的剝離液。背景技術::印刷布線板的制造、主要是半加成法中使用的干膜抗蝕劑等抗蝕劑的剝離液中,伴隨微細布線化而使用胺系的剝離液。然而,以往的胺系的抗蝕劑的剝離液有廢液處理性難、海外的法規制度的問題,而避免其使用。近年來,為了避免胺系的抗蝕劑的剝離液的問題點,還報道了一種含有氫氧化鈉和溶纖劑的剝離液(專利文獻1),由于剝離時的抗蝕劑沒有微細地粉碎,因此存在近年的微細的布線間的抗蝕劑難以除去的問題點。現有技術文獻專利文獻專利文獻1:日本特開2002-323776號公報技術實現要素:發明要解決的問題因此,本發明的課題在于,提供容易除去微細的布...
所述印刷品傳送帶(5)一側安裝有所述印刷品放置箱(6),所述印刷品放置箱(6)一側安裝有所述表面印刷結構(7),所述表面印刷結構(7)上方設置有油墨放置箱(701),所述油墨放置箱(701)下方安裝有油墨加壓器(702),所述油墨加壓器(702)下方安裝有高壓噴頭(703),所述高壓噴頭(703)一側安裝有防濺射擋板(704),所述防濺射擋板(704)下方安裝有印刷輥(705),所述表面印刷結構(7)一側安裝有所述膠面剝離結構(8),所述膠面剝離結構(8)上方安裝有收卷調速器(801),所述收卷調速器(801)一側安裝有收卷驅動電機(802),所述收卷驅動電機(802)一側安裝有輥固定...
701、油墨放置箱;702、油墨加壓器;703、高壓噴頭;704、防濺射擋板;705、印刷輥;8、膠面剝離結構;801、收卷調速器;802、收卷驅動電機;803、輥固定架;804、膠水盛放箱;805、點膠頭;806、卷邊輥;807、膠面收卷輥;9、電加熱箱;10、熱風噴頭;11、干燥度感應器;12、電氣控制箱;13、液晶操作面板。具體實施方式下面結合附圖對本**技術作進一步說明:如圖1-圖4所示,一種印刷品膠面印刷剝離復合裝置,包括主支撐架1、橫向支架2、伺服變頻電機3、電機減速箱4、印刷品放置箱6、表面印刷結構7、膠面剝離結構8,所述主支撐架1上方設置有所述橫向支架2,所述橫向支架2...
用顯微鏡觀察也難以看出的程度)3:有少量殘渣4:基本能剝離,但一部分殘渣多5:一半以上能剝離,但一部分殘渣多6:基本不能剝離,但一部分剝離7:不能剝離【表2】由該結果可知,在含有溶纖劑的抗蝕劑的剝離液中使用氫氧化鉀代替氫氧化鈉的本發明組成,與使用氫氧化鈉的比較組成相比,即使l/s狹窄,也能除去抗蝕劑。(3)剝離性能的評價方法將液溫設為50℃的各剝離液使用噴涂裝置向上述試驗片實施剝離處理,將試驗片的粘性部分的dfr以目視全部面積的90%以上被剝離的時刻作為剝離時間。另外,剝離片尺寸(長邊)是采集噴涂停止后附著于設置于試驗基板固定用的臺上的排渣用網眼的剝離片以目視實施的。此時的噴涂裝置的條...
1.顯影液:顯影液是一種溶液,用于在PCB板上顯示銅線軌道的比例和位置,使其成為可以用于焊接元件的良好的PCB板。2.剝離液:剝離液是一種特殊的溶劑,用于將PCB板上的銅線軌道剝離開,以便重新焊接元件。3.蝕刻液:蝕刻液是一種酸性溶液,用于將PCB板上的銅線軌道腐蝕掉,以便重新焊接元件。4.清洗液:清洗液是一種混合物,用于將PCB板上的塵埃、污垢和其他殘留物消除干凈,以便進行焊接和裝配。 1.顯影液:是指用于顯影制版的液體,一般由溶劑、硫酸銅、有機酸和抗氧化劑等組成。2.剝離液:是指用于把制版上的顯影膜剝離出來的液體,一般由硝酸鋁、硫酸鈉等組成。3.蝕刻液:是指用于蝕刻制版的液體,一...
根據新思界產業研究中心發布的《2020-2024年中國剝離液行業市場供需現狀及發展趨勢預測報告》顯示,剝離液屬于濕電子化學品的重要品類,近幾年受新能源、汽車電子等產業的快速發展,我國濕電子化學品市場規模持續擴增,2019年我國濕電子化學品市場規模達到100億元左右,需求量約為138萬噸。隨著剝離液在半導體產業中的應用增長,剝離液產量以及市場規模隨之擴大,2019年我國半導體用剝離液需求量約為2.1萬噸,只占據濕電子化學品總需求量的1.5%左右。從競爭方面來看,當前全球剝離液的生產由濕電子化學品企業主導,主要集中在歐美、日韓以及中國,代表性企業有德國巴斯夫、德國漢高、美國霍尼韋爾、美國ATMI公...