電子顯示屏制造過程中，液晶面板清洗、ITO 玻璃蝕刻、偏光片貼合等工序對水質要求極為嚴格，水中的顆粒雜質、金屬離子和有機物會影響顯示屏的顯示效果和質量。合鑫為某顯示屏制造企業定制的 30T/H 純水設備，采用 “預處理 + 雙級反滲透 + EDI + 超濾 + 紫外線殺菌” 工藝，產水電阻率≥15MΩ?cm，顆粒度（≥0.2μm）＜50 個 /ml，TOC＜10ppb。設備還配備了精密的在線監測和自動控制系統，確保水質穩定可靠。該企業使用后，顯示屏的壞點率從 2% 降至 0.3%，產品的良品率大幅提升，進一步鞏固了市場地位。CEDI 模塊設計，提升合鑫純水設備運行穩定性。邵陽智能純水設備

   活性炭過濾器緊接多介質過濾之后。活性炭具有極為豐富的孔隙結構，比表面積巨大，這賦予了它強大的吸附能力。當經過初步過濾的水通過活性炭層時，水中的余氯、部分有機物及異味物質被活性炭吸附。余氯具有氧化性，會破壞后續反滲透膜的結構，縮短其使用壽命，而活性炭的吸附作用能有效消除這一隱患。同時，它對水中的色素、部分微生物等也有一定的吸附去除效果，進一步改善水質，降低水中有機污染物含量，為后續反滲透處理提供更適宜的進水條件，確保純水設備產出的水質更優。小型純水設備聯系電話超濾預處理，為設備穩定運行護航。

   電鍍行業中，純水用于電鍍液配制、鍍件漂洗等工序，水質的好壞直接影響鍍層的質量和性能。水中的金屬離子、有機物和雜質會導致鍍層出現、麻點、結合力差等問題。合鑫為某電鍍園區設計的 60T/H 純水設備，采用 “多介質過濾 + 活性炭吸附 + 雙級反滲透 + 離子交換” 工藝，產水重金屬離子（Fe、Cu、Zn 等）＜0.1ppb，電導率＜2μS/cm。設備配備重金屬在線檢測儀，一旦水質超標，立即自動排放并報警。園區企業使用該設備后，電鍍產品的合格率從 88% 提升至 96%，每年減少返工成本超 150 萬元，增強了園區企業的市場競爭力。

    科研實驗室中的各種精密儀器，如高效液相色譜儀、原子吸收光譜儀、ICP-MS 等，對實驗用水的純度要求極高。普通的自來水或蒸餾水無法滿足其需求，必須使用超純水。合鑫為某高?；瘜W實驗室提供的 5L/H 小型純水機，具備 “純水” 和 “超純水” 雙路出水功能。采用 “預處理 + 反滲透 + EDI+UV 紫外殺菌 + 0.22μm 終端過濾” 工藝，超純水產水電阻率可達 18.2MΩ?cm，TOC＜5ppb。設備還設有密碼管理功能，保障實驗數據安全。該實驗室使用后，實驗儀器的故障率明顯降低，實驗結果的準確性和重復性得到顯著提高，有力支持了科研工作的開展。反滲透技術不斷優化，產水更優。

   為了滿足一些對水質要求極高且水質成分復雜的應用場景，合鑫公司推出了反滲透 - 離子交換組合純水設備。該設備先利用反滲透技術去除水中大部分的雜質、離子、細菌等，產出初步純化的水，然后再通過離子交換樹脂進一步去除水中殘留的微量離子，精確調節水質的酸堿度和電導率。在電子芯片制造領域，這種組合設備能夠生產出滿足芯片制造工藝要求的超純水，確保芯片的性能和質量。通過兩種技術的優勢互補，既提高了純水的純度，又增強了設備對不同水質原水的適應性，廣泛應用于對純水質量要求苛刻的制造行業。反滲透技術，是合鑫純水設備除雜的關鍵手段。浙江食品廠純水設備

多介質過濾，為后續處理創造良好條件。邵陽智能純水設備

   在電子工業領域，尤其是芯片制造等關鍵環節，對水質的純凈度近乎苛刻。芯片制造過程中，微小的雜質顆粒都可能導致電路短路或性能偏差。例如，在光刻工藝里，需要超純水沖洗硅片，水中若存在重金屬離子，如銅、鐵等，會在硅片表面形成雜質吸附，影響芯片的電子遷移率，進而降低芯片性能。東莞市合鑫水處理科技有限公司的純水設備，運用多級反滲透技術，搭配離子交換樹脂深度去除水中的重金屬離子，同時通過超濾膜攔截微生物與微小顆粒雜質，產出的超純水電阻率可達 18.2MΩ?cm 以上，滿足電子工業對水質的極高要求，為生產高性能芯片及其他電子元器件提供堅實保障。邵陽智能純水設備