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芯片納米壓印價格怎么樣

來源: 發布時間:2019-12-13

       通過中心提供的試驗生產線基礎設施,WaveOptics將超越其客戶對下個季度的預期需求,并有一條可靠的途徑將大批量生產工藝和設備轉移至能夠大規模生產波導的指定設施適用于全球前列OEM品牌。

      WaveOptics與EVG的合作突顯了其致力于以可實現的價格提供高性能,商用波導來幫助客戶將AR顯示器推向市場的承諾。利用EVG在批量生產設備和工藝技術方面的專業知識,到2019年,AR終端用戶產品將以不到600美元的價格進入市場,這是當今行業中的*低價位。 EV Group提供混合和單片微透鏡成型工藝,能夠輕松地適應各種材料組合,以用于工作印模和微透鏡材料。芯片納米壓印價格怎么樣

HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

®的 UV-NIL紫外光納米壓印系統。


EVG的HERCULES ® NIL產品系列

HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

® UV-NIL系統達200毫米

對于大批量制造的完全集成的納米壓印光刻解決方案,具有EVG's專有SmartNIL ®印跡技術


HERCULES NIL是完全集成的UV納米壓印光刻跟 蹤解決方案,適用于比較大200 mm的晶圓,是EVG的NIL產品組合的***成員。HERCULES

NIL基于模塊化平臺,將EVG專有的SmartNIL壓印技術與清潔,抗蝕劑涂層和烘烤預處理步驟相結合。這將HERCULES NIL變成了“一站式服務”,將裸露的晶圓裝載到工具中,然后將經過完全處理的納米結構晶圓退回。 三維芯片納米壓印實際價格納米壓印是一種用于大規模制造微米級和納米級結構的低成本的技術,大批量替代光刻技術。

為了優化工藝鏈,HERCULES NIL中包括多次使用的軟印章的制造,這是大批量生產的基石,不需要額外的壓印印章制造設備。作為一項特殊功能,該工具可以升級為具有ISO 3 *功能的微型環境,以確保比較低的缺 陷率和比較高質量的原版復制。

通過為大批量生產提供完整的NIL解決方案,HERCULES NIL增強了EVG在***積NIL設備解決方案中的領導地位。

*根據ISO 14644


HERCULES ® NIL特征:

批量生產**小40 nm *或更小的結構

聯合預處理(清潔/涂層/烘烤/寒意)和SmartNIL ®

體積驗證的壓印技術,具有出色的復制保真度

全自動壓印和受控的低力分離,可很大程度地重復使用工作印章

包括工作印章制造能力

高功率光源,固化時間**快

優化的模塊化平臺可實現高吞吐量


*分辨率取決于過程和模板

IQ Aligner UV-NIL特征:

用于光學元件的微成型應用

用于全場納米壓印應用

三個**控制的Z軸,可在印模和基材之間實現出色的楔形補償

三個**控制的Z軸,用于壓印抗蝕劑的總厚度變化(TTV)控制

利用柔軟的印章進行柔軟的UV-NIL工藝

EVG專有的全自動浮雕功能

抵抗分配站集成

粘合對準和紫外線粘合功能


IQ Aligner UV-NIL技術數據:

晶圓直徑(基板尺寸):150至300毫米

解析度:≤50 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:柔軟的UV-NIL,鏡片成型


曝光源:汞光源

對準:≤±0.5微米

自動分離:支持的

前處理:涂層:水坑點膠(可選)

迷你環境和氣候控制:可選的


工作印章制作:支持的


高 效,強大的SmartNIL工藝提供高圖案保真度,擁有高度均勻圖案層和**少殘留層,易于擴展的晶圓尺寸和產量。

IQ Aligner UV-NIL 自動化紫外線納米壓印光刻系統

應用:用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統

IQ Aligner UV-NIL系統允許使用直徑從150 mm至300 mm的壓模和晶片進行微成型和納米壓印工藝,非常適合高度平行地制造聚合物微透鏡。該系統從從晶圓尺寸的主圖章復制的軟性圖章開始,提供了混合和整體式微透鏡成型工藝,可以輕松地將其與工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合相適應。此外,EV Group提供合格的微透鏡成型工藝,包括所有相關的材料專業知識。EV Group專有的卡盤設計可為高產量大面積印刷提供均勻的接觸力。配置包括從壓印基材上釋放印章的釋放機制。


EVG系統是客戶進行大批量晶圓級鏡頭復制(制造)的***選擇。EV Group納米壓印技術服務

EVG620 NT是以其靈活性和可靠性而聞名的,因為它以**小的占位面積提供了***的掩模對準技術。芯片納米壓印價格怎么樣

EVG ® 7200 LA大面積SmartNIL

® UV納米壓印光刻系統

用于大面積****的共形納米壓印光刻。

EVG7200大面積UV納米壓印系統使用EVG專有且經過量證明的SmartNIL技術,將納米壓印光刻(NIL)縮放為第三代(550 mm x 650 mm)面板尺寸的基板。對于不能減小尺寸的顯示器,線柵偏振器,生物技術和光子元件等應用,至關重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率。NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經濟有效的方法,因為它不受光學系統的限制,并且可以為**小的結構提供比較好的圖案保真度。

SmartNIL利用非常強大且可控的加工工藝,提供了低至40 nm *的出色保形壓印結果。憑借獨特且經過驗證的設備功能(包括****的易用性)以及高水平的工藝專業知識,EVG通過將納米壓印提升到一個新的水平來滿足行業需求。

*分辨率取決于過程和模板 芯片納米壓印價格怎么樣

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