亚洲尺码欧洲尺码的适用场景,国产女人18毛片水真多1,乳头疼是怎么回事一碰就疼,学生娇小嫩白紧小疼叫漫画

安徽EVG6200 NT光刻機

來源: 發布時間:2020-07-21

IQ Aligner® 自動化掩模對準系統

特色:EVG ® IQ定位儀®平臺用于自動非接觸近距離處理而優化的用于晶片尺寸高達200毫米。

技術數據:IQ Aligner是具有高度自動化程度的非接觸式接近光刻平臺,可滿足將生產線中的掩模污染降至**/低并增加掩模壽命和產品良率的需求。除了多種對準功能外,該系統還通過專門配置進行了廣/泛的安裝和現場驗證,可自動處理和處理翹曲或變薄的晶圓。標準的頂側或底側對準與集成的IR對準功能之間的混合匹配操作進一步拓寬了應用領域,尤其是在與工程或粘合基板對準時。該系統還通過快速響應的溫度控制工具集支持晶片對準跳動控制。 EVG光刻機關注未來市場趨勢 - 例如光子學 、光學3D傳感- 并為這些應用開發新的方案和調整現有的解決方案。安徽EVG6200 NT光刻機

EVG120特征2:

先進且經過現場驗證的機器人具有雙末端執行器功能,可確保連續的高產量;

工藝技術卓/越和開發服務:

多用戶概念(無限數量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)

智能過程控制和數據分析功能[Framework SW Platform]

用于過程和機器控制的集成分析功能

設備和過程性能跟/蹤功能;

并行/排隊任務處理功能;

智能處理功能;

發生和警報分析;

智能維護管理和跟/蹤;


技術數據:

可用模塊;

旋涂/ OmniSpray ® /開發;

烤/冷;

晶圓處理選項:

單/雙EE /邊緣處理/晶圓翻轉;

彎曲/翹曲/薄晶圓處理。


云南化合物半導體光刻機EVG光刻機**/新的曝光光學增強功能是對LED燈的設置。

EVG ® 610特征:

晶圓/基板尺寸從小到200 mm /8''

頂側和底側對準能力

高精度對準臺

自動楔形補償序列

電動和程序控制的曝光間隙

支持**/新的UV-LED技術

**小化系統占地面積和設施要求

分步流程指導

遠程技術支持

多用戶概念(無限數量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)

便捷處理和轉換重組

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版


EVG ® 610附加功能:

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻(NIL)


EVG ® 610技術數據:

對準方式

上側對準:≤±0.5 μm

底面要求:≤±2,0 μm

紅外校準:≤±2,0 μm /具體取決于基板材料

鍵對準:≤±2,0 μm

NIL對準:≤±2,0 μm

IQ Aligner工業自動化功能:盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,彎曲,翹曲,邊緣晶圓處理

晶圓直徑(基板尺寸):高達200毫米

對準方式:

上側對準:≤±0.5 μm

底側對準:≤±1,0 μm

紅外校準:≤±2,0 μm /具體取決于基板材料


曝光設定:真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式

曝光選項:間隔曝光/洪水曝光


系統控制

操作系統:Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數

多語言用戶GUI和支持:CN,DE,FR,IT,JP,KR

實時遠程訪問,診斷和故障排除


產能

全自動:第/一批生產量:每小時85片

全自動:吞吐量對準:每小時80片 我們可以根據您的需求提供進行優化的多用途系統。

HERCULES 光刻軌道系統

所述HERCULES ®是一個高容量的平臺整合整個光刻工藝流在一個系統中,縮小處理工序和操作者支持。


HERCULES基于模塊化平臺,將EVG建立的光學掩模對準技術與集成的晶圓清洗,光刻膠涂層,烘烤和光刻膠顯影模塊相結合。HERCULES支持各種晶片尺寸的盒到盒處理。HERCULES安全地處理厚,彎曲度高,矩形,小直徑的晶圓,甚至可以處理設備托盤。精密的頂側和底側對準以及亞微米至超厚(**/大300微米)光刻膠的涂層可用于夾層和鈍化應用。出色的對準臺設計可實現高產量的高精度對準和曝光結果。


HERCULES平臺是“一站式服務”平臺。ABM光刻機中芯在用嗎

EVG通過不斷開發掩模對準器來為這些領域做出巨大的貢獻,以提高**重要的光刻技術的水平。安徽EVG6200 NT光刻機

IQ Aligner®NT自動掩模對準系統

特色:IQ Aligner®在**/高吞吐量NT經過優化零協助非接觸式近程處理。

技術數據:IQ Aligner NT是用于大批量應用的生產力**/高,技術**/先進的自動掩模對準系統。該系統具有**/先進的打印間隙控制和零輔助雙尺寸晶圓處理能力,可完全滿足大批量制造(HVM)的需求。與EVG的上一代IQ

Aligner系統相比,它的吞吐量提高了2倍,對準精度提高了2倍,是所有掩模對準器中**/高的吞吐量。IQ Aligner NT超越了對后端光刻應用**苛刻的要求,同時與競爭性系統相比,其掩模成本降低了30%,而競爭系統超出了掩模對準工具所支持的**/高吞吐量。 安徽EVG6200 NT光刻機

岱美儀器技術服務(上海)有限公司擁有磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關配套服務,國際貿易、轉口貿易,商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目,經相關部門批準后方可開展經營活動】磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關配套服務,國際貿易、轉口貿易,商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目,經相關部門批準后方可開展經營活動】等多項業務,主營業務涵蓋磁記錄,半導體,光通訊生產,測試儀器的批發。公司目前擁有專業的技術員工,為員工提供廣闊的發展平臺與成長空間,為客戶提供高質的產品服務,深受員工與客戶好評。誠實、守信是對企業的經營要求,也是我們做人的基本準則。公司致力于打造***的磁記錄,半導體,光通訊生產,測試儀器的批發。公司深耕磁記錄,半導體,光通訊生產,測試儀器的批發,正積蓄著更大的能量,向更廣闊的空間、更寬泛的領域拓展。

主站蜘蛛池模板: 临海市| 绥阳县| 峨山| 宝应县| 连平县| 新乐市| 定西市| 古交市| 兴宁市| 江孜县| 嵊州市| 绿春县| 同仁县| 赞皇县| 仙居县| 赣榆县| 新乡县| 安化县| 理塘县| 江津市| 三台县| 邻水| 兰州市| 江城| 凤翔县| 务川| 墨竹工卡县| 松潘县| 许昌县| 通城县| 舞阳县| 河间市| 屯留县| 霍林郭勒市| 洛南县| 扎囊县| 微山县| 永吉县| 和顺县| 涞源县| 绿春县|