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EVG6200NT納米壓印高性價比選擇

來源: 發布時間:2020-02-02

為了優化工藝鏈,HERCULES NIL中包括多次使用的軟印章的制造,這是大批量生產的基石,不需要額外的壓印印章制造設備。作為一項特殊功能,該工具可以升級為具有ISO 3 *功能的微型環境,以確保比較低的缺 陷率和比較高質量的原版復制。

通過為大批量生產提供完整的NIL解決方案,HERCULES NIL增強了EVG在***積NIL設備解決方案中的領導地位。

*根據ISO 14644


HERCULES ® NIL特征:

批量生產**小40 nm *或更小的結構

聯合預處理(清潔/涂層/烘烤/寒意)和SmartNIL ®

體積驗證的壓印技術,具有出色的復制保真度

全自動壓印和受控的低力分離,可很大程度地重復使用工作印章

包括工作印章制造能力

高功率光源,固化時間**快

優化的模塊化平臺可實現高吞吐量


*分辨率取決于過程和模板 SmartNIL技術可提供功能強大的下一代光刻技術,幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。EVG6200NT納米壓印高性價比選擇

EVG610特征:

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形誤差補償機制

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術

**小化系統占地面積和設施要求

分步流程指導

遠程技術支持

多用戶概念(無限數量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)

敏捷處理和光刻工藝之間的轉換

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版


EVG610附加功能:

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻 

μ接觸印刷


EVG610技術數據:

晶圓直徑(基板尺寸)

標準光刻:比較大150毫米的碎片

柔軟的UV-NIL:比較大150毫米的碎片

解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:柔軟的UV-NIL

曝光源:汞光源或紫外線LED光源

自動分離:不支持

工作印章制作:外部


晶片納米壓印優惠價格IQ Aligner UV-NIL是自動化紫外線納米壓印光刻系統,是用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印的系統。

    面板廠為補償較低的開口率,多運用在背光模塊搭載較多LED的技術,但此作法的缺點是用電量較高。若運用NIL制程,可確保適當的開口率,降低用電量。利用一般曝光設備也可在玻璃基板上形成偏光膜。然8代曝光設備一次可形成的圖樣面積較小。若要制造55吋面板,需要經過數十次的曝光制程。不僅制程時間長,經過多次曝光后,在圖樣間會形成細微的縫隙,無法完整顯示影像。若將NIL技術應用在5代設備,可一次形成55吋、60吋面板的偏光膜圖樣。在8代基板可制造6片55吋面板,6次的壓印接觸可處理完1片8代基板。南韓業者表示,在玻璃基板上形成偏光圖樣以提升質量的生產制程,是LCD領域中***一個創新任務。若加速NIL制程導入LCD生產的時程,偏光膜企業的營收可能減少。(來自網絡。

       EVG公司技術開發和IP總監Markus Wimplinger補充說:“我們開發新技術和工藝以應對*復雜的挑戰,幫助我們的客戶成功地將其新產品創意商業化。技術,我們創建了我們的NILPhotonics能力中心。“在具有保護客戶IP的強大政策的框架內,我們為客戶提供了從可行性到生產階段的產品開發和商業化支持。這正是我們***與AR領域的**者WaveOptics合作所要做的,以為*終客戶提供真正可擴展的解決方案。”

      EVG的NILPhotonics®能力中心框架內的協作開發工作旨在支持WaveOptics的承諾,即在工業,企業和消費者等所有主要市場領域釋放AR在大眾市場的應用,并遵循公司模塊計劃的推出。 EVG?720/EVG?7200/EVG?7200LA是自動化的全場域納米壓印解決方案,適用于第3代基材。

關于WaveOptics       

      WaveOptics是衍射波導的全球**設計商和制造商,衍射波導是可穿戴AR設備中的關鍵光學組件。

      諸如智能眼鏡之類的AR可穿戴設備使用戶能夠觀看覆蓋在現實世界之上的數字圖像。有兩個關鍵元素可讓您看到這些圖像-微型投影儀之類的光源,以及將圖像從投影儀傳遞到用戶眼睛中的一種方式。

WaveOptics的波導技術可傳輸來自光源的光波并將其投射到用戶的眼睛中。該技術可產生大的眼框,雙目觀察和高視野。眼圖框(查看窗口)是從中可以看到完整圖像的AR顯示器的尺寸-請參見下圖。WaveOptics的波導提供清晰,無失真的文本以及穩定的圖像。

      WaveOptics技術旨在用于工業,企業和消費者市場的沉浸式AR體驗。該公司的目標是,憑借其獨特的技術和專業知識,其波導將成為所有AR可穿戴設備中使用的he心光學組件,以實現****的制造可擴展性和視覺性能,并為眾多應用提供多功能性。 SmartNIL的主要技術是可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印結果。EVG610納米壓印當地價格

EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT是具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統。EVG6200NT納米壓印高性價比選擇

NIL已被證明是在大面積上實現納米級圖案的相當有成本效益的方法,因為它不受光學光刻所需的復雜光學器件的限制,并且它可以為極小尺寸(小于100分)提供比較好圖案保真度nm)結構。

EVG的SmartNIL是基于紫外線曝光的全場壓印技術,可提供功能強大的下一代光刻技術,幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能,因此還可以實現****的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優勢,同時保留了可擴展性和易于維護的操作。另外,主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當的時間。

新應用程序的開發通常與設備功能的提高緊密相關。 EVG6200NT納米壓印高性價比選擇

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