EVG ® 510 HE熱壓印系統(tǒng)

應(yīng)用：高度靈活的熱壓印系統(tǒng)，用于研發(fā)和小批量生產(chǎn)

EVG510 HE半自動熱壓印系統(tǒng)設(shè)計用于對熱塑性基材進(jìn)行高精度壓印。該設(shè)備配置有通用壓花室以及真空和接觸力功能，并管理適用于熱壓印的全部聚合物。結(jié)合高縱橫比壓印和多種脫壓選項，提供了許多用于高質(zhì)量納米圖案轉(zhuǎn)印的工藝。

EVG ® 510 HE特征：

用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應(yīng)用

自動化壓花工藝

EVG專有的**對準(zhǔn)工藝，用于光學(xué)對準(zhǔn)的壓印和壓印

完全由軟件控制的流程執(zhí)行

閉環(huán)冷卻水供應(yīng)選項

外部浮雕和冷卻站 EVG的納米壓印光刻（NIL） - SmartNIL ? 是用于大批量生產(chǎn)的大面積軟UV納米壓印光刻工藝。福建納米壓印現(xiàn)場服務(wù)

EVG ® 720特征：

體積驗證的壓印技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度

專有SmartNIL ®技術(shù)，多使用聚合物印模技術(shù)

集成式壓印，UV固化脫模和工作印模制造

盒帶到盒帶自動處理以及半自動研發(fā)模式

可選的頂部對準(zhǔn)

可選的迷你環(huán)境

適用于所有市售壓印材料的開放平臺

從研發(fā)到生產(chǎn)的可擴展性

系統(tǒng)外殼，可實現(xiàn)比較好過程穩(wěn)定性和可靠性技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑（基板尺寸）

75至150毫米

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：SmartNIL ®

曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2

對準(zhǔn)：可選的頂部對準(zhǔn)

自動分離：支持的

迷你環(huán)境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

量產(chǎn)納米壓印美元價SmartNIL 非常適合對具有復(fù)雜納米結(jié)構(gòu)微流控芯片進(jìn)行高精度圖案化，用在下一代藥 物研究和醫(yī)學(xué)診斷設(shè)備生產(chǎn)。

納米壓印設(shè)備哪個好？預(yù)墨印章用于將材料以明顯的圖案轉(zhuǎn)移到基材上。該技術(shù)用于表面化學(xué)的局部修飾或捕獲分子在生物傳感器制造中的精確放置。

納米壓印設(shè)備可以進(jìn)行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。

將聚合物片或旋涂聚合物加熱到其玻璃化轉(zhuǎn)變溫度以上，從而將材料轉(zhuǎn)變?yōu)檎承誀顟B(tài)。然后以足夠的力將壓模壓入聚合物中。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。我們愿意與您共同進(jìn)步。

EV Group的一系列高精度熱壓花系統(tǒng)基于該公司市場**的晶圓鍵合技術(shù)。出色的壓力和溫度控制以及大面積上的均勻性可實現(xiàn)高精度的壓印。熱壓印是一種經(jīng)濟(jì)高 效且靈活的制造技術(shù)，具有非常高的復(fù)制精度，可用于**小50 nm的特征尺寸。該系統(tǒng)非常適合將復(fù)雜的微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)以及高長寬比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中。

NILPhotonics®能力中心-支持和開發(fā)

NILPhotonics能力中心是經(jīng)過驗證的創(chuàng)新孵化器。

歡迎各位客戶來樣制作，驗證EVG的納米壓印設(shè)備的性能。

EV Group的一系列高精度熱壓花系統(tǒng)是基于該公司市場**的晶圓鍵合技術(shù)。

曲面基底上的納米結(jié)構(gòu)在許多領(lǐng)域都有著重要應(yīng)用，例如仿生學(xué)、柔性電子學(xué)和光學(xué)器件等。傳統(tǒng)的納米壓印技術(shù)通常采用剛性模板，可以實現(xiàn)亞10nm的分辨率，但是模板不能彎折，無法在曲面基底上壓印制備納米結(jié)構(gòu)。而采用彈性模板的軟壓印技術(shù)可以在無外界提供壓力下與曲面保形接觸，實現(xiàn)結(jié)構(gòu)在非平面基底上的壓印復(fù)制，但是由于彈性模板的楊氏模量較低，所以壓印結(jié)構(gòu)的分辨率和精度都受到限制。基于目前納米壓印的發(fā)展現(xiàn)狀，結(jié)合傳統(tǒng)的納米壓印技術(shù)和軟壓印技術(shù)，中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所團(tuán)隊發(fā)展了一種基于紫外光固化巰基-烯材料的亞100nm分辨率的復(fù)合軟壓印模板的制備方法，該模板包含剛性結(jié)構(gòu)層和彈性基底層。（來自網(wǎng)絡(luò)，侵權(quán)請聯(lián)系我們進(jìn)行刪除，謝謝！） EVG620 NT支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，以及背面對準(zhǔn)選項。3D IC納米壓印代理價格

EVG620 NT是以其靈活性和可靠性而聞名的，因為它以**小的占位面積提供了***的掩模對準(zhǔn)技術(shù)。福建納米壓印現(xiàn)場服務(wù)

EVG ® 770特征：

微透鏡用于晶片級光學(xué)器件的高 效率制造主下降到納米結(jié)構(gòu)為SmartNIL ®

簡單實施不同種類的大師

可變抗蝕劑分配模式

分配，壓印和脫模過程中的實時圖像

用于壓印和脫模的原位力控制

可選的光學(xué)楔形誤差補償

可選的自動盒帶間處理

EVG ® 770技術(shù)數(shù)據(jù)：

晶圓直徑（基板尺寸）：100至300毫米

解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL

曝光源：大功率LED（i線）> 100 mW /cm2

對準(zhǔn)：頂側(cè)顯微鏡，用于實時重疊校準(zhǔn)≤±500 nm和精細(xì)校準(zhǔn)≤±300 nm

較早印刷模具到模具的放置精度：≤1微米

有效印記區(qū)域：長達(dá)50 x 50毫米

自動分離：支持的

前處理：涂層：液滴分配（可選）

福建納米壓印現(xiàn)場服務(wù)

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司總部位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗區(qū)加太路39號第五層六十五部位，是一家磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項目，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項目，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】的公司。公司自創(chuàng)立以來，投身于磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)，是儀器儀表的主力軍。岱美儀器技術(shù)服務(wù)始終以本分踏實的精神和必勝的信念，影響并帶動團(tuán)隊取得成功。岱美儀器技術(shù)服務(wù)始終關(guān)注自身，在風(fēng)云變化的時代，對自身的建設(shè)毫不懈怠，高度的專注與執(zhí)著使岱美儀器技術(shù)服務(wù)在行業(yè)的從容而自信。