納米壓印設備哪個好?預墨印章用于將材料以明顯的圖案轉移到基材上。該技術用于表面化學的局部修飾或捕獲分子在生物傳感器制造中的精確放置。納米壓印設備可以進行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。將聚合物片或旋涂聚合物加熱到其玻璃化轉變溫度以上,從而將材料轉變為粘性狀態。然后以足夠的力將壓模壓入聚合物中。岱美作為EVG在中國區的代理商,歡迎各位聯系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。EVG的EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統。量產納米壓印服務為先
EVG®720自動SmartNIL®UV納米壓印光刻系統自動全視野的UV納米壓印溶液達150毫米,設有EVG's專有SmartNIL®技術EVG720系統利用EVG的創新SmartNIL技術和材料專業知識,能夠大規模制造微米和納米級結構。具有SmartNIL技術的EVG720系統能夠在大面積上印刷小至40nm*的納米結構,具有無人能比的吞吐量,非常適合批量生產下一代微流控和光子器件,例如衍射光學元件(DOEs)。*分辨率取決于過程和模板如果需要詳細的信息,請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。也可以訪問官網,獲得更多信息。三維芯片納米壓印有哪些應用EVG ? 6200 NT屬于SmartNIL UV紫外光納米壓印光刻系統。
SmartNIL技術簡介SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術,可提供功能強大的下一代光刻技術,幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能,因此還可以實現無人能比的吞吐量,并具有顯著的擁有成本的優勢,同時保留了可擴展性和易于維護的操作功能。另外,主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當的時間。岱美作為EVG在中國區的代理商,歡迎各位聯系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。岱美愿意與您共同進步。
為了優化工藝鏈,HERCULESNIL中包括多次使用的軟印章的制造,這是大批量生產的基石,不需要額外的壓印印章制造設備。作為一項特殊功能,該工具可以升級為具有ISO3*功能的微型環境,以確保蕞低的缺陷率和蕞高質量的原版復制。通過為大批量生產提供完整的NIL解決方案,HERCULESNIL增強了EVG在權面積NIL設備解決方案中的領導地位。*根據ISO14644HERCULES®NIL特征:批量生產蕞小40nm*或更小的結構聯合預處理(清潔/涂層/烘烤/寒意)和SmartNIL®體積驗證的壓印技術,具有出色的復制保真度全自動壓印和受控的低力分離,可蕞大程度地重復使用工作印章包括工作印章制造能力高功率光源,固化時間蕞快優化的模塊化平臺可實現高吞吐量*分辨率取決于過程和模板EVG770是用于步進重復納米壓印光刻的通用平臺,可用于進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。
EVG®520HE特征:用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印和納米壓印應用自動化壓花工藝EVG專有的獨力對準工藝,用于光學對準的壓印和壓印氣動壓花選項軟件控制的流程執行EVG®520HE技術數據加熱器尺寸:150毫米,200毫米蕞大基板尺寸:150毫米,200毫米蕞小基板尺寸:單芯片,100毫米蕞大接觸力:10、20、60、100kN最高溫度:標準:350°C;可選:550°C粘合卡盤系統/對準系統150毫米加熱器:EVG®610,EVG®620,EVG®6200200毫米加熱器:EVG®6200,MBA300,的SmartView®NT真空:標準:0.1毫巴可選:0.00001mbarHERCULES?NIL是完全集成的納米壓印光刻解決方案,可實現300 mm的大批量生產。HERCULES NIL納米壓印美元價格
SmartNIL集成多次使用的軟標記處理功能,并具有顯著的擁有成本的優勢,同時保留可擴展性和易于維護的特點。量產納米壓印服務為先
IQAlignerUV-NIL特征:用于光學元件的微成型應用用于全場納米壓印應用三個獨力控制的Z軸,可在印模和基材之間實現出色的楔形補償三個獨力控制的Z軸,用于壓印抗蝕劑的總厚度變化(TTV)控制利用柔軟的印章進行柔軟的UV-NIL工藝EVG專有的全自動浮雕功能抵抗分配站集成粘合對準和紫外線粘合功能IQAlignerUV-NIL技術數據:晶圓直徑(基板尺寸):150至300毫米解析度:≤50nm(分辨率取決于模板和工藝)支持流程:柔軟的UV-NIL,鏡片成型曝光源:汞光源對準:≤±0.5微米自動分離:支持的前處理:涂層:水坑點膠(可選)迷你環境和氣候控制:可選的工作印章制作:支持的量產納米壓印服務為先
岱美儀器技術服務(上海)有限公司是以半導體工藝設備,半導體測量設備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀研發、生產、銷售、服務為一體的磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關配套服務,國際貿易、轉口貿易,商務信息咨詢服務 企業,公司成立于2002-02-07,地址在金高路2216弄35號6幢306-308室。至創始至今,公司已經頗有規模。本公司主要從事半導體工藝設備,半導體測量設備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀領域內的半導體工藝設備,半導體測量設備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀等產品的研究開發。擁有一支研發能力強、成果豐碩的技術隊伍。公司先后與行業上游與下游企業建立了長期合作的關系。EVG,Filmetrics,MicroSense,Herz,Film Sense,Polyteknik,4D,Nanotronics,Subnano,Bruker,FSM,SHB,ThetaMetrisi致力于開拓國內市場,與儀器儀表行業內企業建立長期穩定的伙伴關系,公司以產品質量及良好的售后服務,獲得客戶及業內的一致好評。岱美儀器技術服務(上海)有限公司以先進工藝為基礎、以產品質量為根本、以技術創新為動力,開發并推出多項具有競爭力的半導體工藝設備,半導體測量設備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀產品,確保了在半導體工藝設備,半導體測量設備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀市場的優勢。