面板廠為補償較低的開口率，多運用在背光模塊搭載較多LED的技術，但此作法的缺點是用電量較高。若運用NIL制程，可確保適當的開口率，降低用電量。利用一般曝光設備也可在玻璃基板上形成偏光膜。然8代曝光設備一次可形成的圖樣面積較小。若要制造55吋面板，需要經過數十次的曝光制程。不僅制程時間長，經過多次曝光后，在圖樣間會形成細微的縫隙，無法完整顯示影像。若將NIL技術應用在5代設備，可一次形成55吋、60吋面板的偏光膜圖樣。在8代基板可制造6片55吋面板，6次的壓印接觸可處理完1片8代基板。南韓業者表示，在玻璃基板上形成偏光圖樣以提升質量的生產制程，是LCD領域中***一個創新任務。若加速NIL制程導入LCD生產的時程，偏光膜企業的營收可能減少。（來自網絡。EV Group 提供完整的UV 紫外光納米壓印光刻（UV-NIL）產品線。中國澳門納米壓印現場服務

EVG ® 7200 LA特征：

專有SmartNIL ®技術，提供了****的印跡形大面積

經過驗證的技術，具有出色的復制保真度和均勻性

多次使用的聚合物工作印模技術可延長母版使用壽命并節省大量成本

強大且精確可控的處理

與所有市售的壓印材料兼容

EVG ® 7200 LA技術數據：

晶圓直徑（基板尺寸）：直徑200毫米（比較大Gen3）（550 x 650毫米）

解析度：40 nm-10 μm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：SmartNIL ®

曝光源：大功率窄帶（> 400 mW /cm2）

對準：可選的光學對準：≤±15 μm

自動分離：支持的

迷你環境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

福建納米壓印一級代理SmartNIL集成多次使用的軟標記處理功能，并具有顯著的擁有成本的優勢，同時保留可擴展性和易于維護的特點。

EVG ® 620 NT特征：

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形補償序列

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術

**小化系統占地面積和設施要求

分步流程指導

遠程技術支持

多用戶概念（無限數量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）

敏捷處理和轉換工具

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版

EVG ® 620 NT附加功能：

鍵對準

紅外對準

SmartNIL

μ接觸印刷技術數據

晶圓直徑（基板尺寸）

標準光刻：比較大150毫米的碎片

柔軟的UV-NIL：比較大150毫米的碎片

SmartNIL ®：在100毫米范圍

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：軟UV-NIL＆SmartNIL

®

曝光源：汞光源或紫外線LED光源

對準：

軟NIL：≤±0.5 μm

SmartNIL ®：≤±3微米

自動分離：柔紫外線NIL：不支持；SmartNIL

®：支持

工作印章制作：柔軟的UV-NIL：外部：SmartNIL ®：支持

    NIL系統肖特增強現實負責人RuedigerSprengard博士表示：“將高折射率玻璃晶圓的制造擴展到300-mm，對于實現我們客戶滿足當今和未來**AR/MR設備不斷增長的市場需求所需的規模經濟產量來說至關重要。通過攜手合作，EVG和肖特彰顯了當今300-mm高折射率玻璃制造的設備和供應鏈的就緒性。”在此之前，使用光刻/納米壓印技術對具有光子學應用結構的玻璃基板進行圖案成形***于200-mm基板。向300-mm晶圓加工的遷移是將AR/MR頭戴顯示設備推向大眾消費和工業市場邁出的重要一步。不過，在這些較大的基板上保持高基板質量和工藝均勻性是很難控制的，需要先進的自動化和工藝控制能力。EVG的SmartNIL技術得益于多年的研究、開發和實驗，旨在滿足納米圖案成形的需求，經過了現場驗證，能夠輕松從晶圓級樣品尺寸擴展到大面積基板。去年六月，EVG推出了HERCULES?NIL300mm，將SmartNIL引入300-mm制造，滿足各種設備和應用的生產需求，其中包括AR、MR和虛擬現實（VR）頭戴顯示設備的光學器件以及3D傳感器、生物醫療設備、納米光子學和等離子電子學。集成到SmartNIL?UV-NIL系統的全模塊化EVG?HERCULES?。HERCULES?NIL是完全集成的納米壓印光刻解決方案，可實現300 mm的大批量生產。

    它為晶圓級光學元件開發、原型設計和制造提供了一種獨特的方法，可以方便地接觸***研發技術與材料。晶圓級納米壓印光刻和透鏡注塑成型技術確保在如3D感應的應用中使用小尺寸的高 分辨率光學傳感器供應鏈合作推動晶圓級光學元件應用要在下一代光學傳感器的大眾化市場中推廣晶圓級生產，先進的粘合劑與抗蝕材料發揮著不可取代的作用。開發先進的光學材料，需要充分地研究化學、機械與光學特性，以及已被證實的大規模生產（HVM）的可擴展性。擁有在NIL圖形壓印和抗蝕工藝方面的材料兼容性，以及自動化模制和脫模的專業知識，才能在已驗證的大規模生產中，以**小的形狀因子達到晶圓級光學元件的比較好性能。材料供應商與加工設備制造商之間的密切合作，促成了工藝流程的研發與改善，確保晶圓級光學元件的高質量和制造的可靠性。EVG和DELO的合作將支持雙方改善工藝流程與產品，并增強雙方的專業技能，從而適應當前與未來市場的要求。雙方的合作提供了成熟的材料與專業的工藝技術，并將加快新產品設計與原型制造的速度，為雙方的客戶保駕護航。“NILPhotonics解決方案支援中心的獨特之處是：它解決了行業內部需要用更短時間研發產品的需求，同時保障比較高的保密性。EVG?720/EVG?7200/EVG?7200LA是自動化的全場域納米壓印解決方案，適用于第3代基材。中科院納米壓印價格

SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能，因此還可以實現****的吞吐量。中國澳門納米壓印現場服務

    納米壓印微影技術可望優先導入LCD面板領域原本計劃應用在半導體生產制程的納米壓印微影技術(Nano-ImpLithography；NIL)，現將率先應用在液晶顯示器(LCD)制程中。NIL為次世代圖樣形成技術。據ETNews報導，南韓顯示器面板企業LCD制程研發小組，未確認NIL設備實際圖樣形成能力，直接參訪海外NIL設備廠。該制程研發小組透露，若引進相關設備，將可提升面板性能。并已展開具體供貨協商。NIL是以刻印圖樣的壓印機，像蓋章般在玻璃基板上形成圖樣的制程。在基板上涂布UV感光液后，再以壓印機接觸施加壓力，印出面板圖樣。之后再經過蝕刻制程形成圖樣。NIL可在LCD玻璃基板上刻印出偏光圖樣，不需再另外貼附偏光薄膜。雖然在面板制程中需增加NIL、蝕刻制程，但省落偏光膜貼附制程，可維持同樣的生產成本。偏光膜會吸收部分光線降低亮度。若在玻璃基板上直接形成偏光圖樣，將不會發生降低亮度的情況。通常面板分辨率越高，因配線較多，較難確保開口率(ApertureRatio)。中國澳門納米壓印現場服務

岱美儀器技術服務（上海）有限公司專注技術創新和產品研發，發展規模團隊不斷壯大。公司目前擁有較多的高技術人才，以不斷增強企業重點競爭力，加快企業技術創新，實現穩健生產經營。岱美儀器技術服務（上海）有限公司主營業務涵蓋磁記錄，半導體，光通訊生產，測試儀器的批發，堅持“質量保證、良好服務、顧客滿意”的質量方針，贏得廣大客戶的支持和信賴。公司深耕磁記錄，半導體，光通訊生產，測試儀器的批發，正積蓄著更大的能量，向更廣闊的空間、更寬泛的領域拓展。