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MEMS納米壓印優(yōu)惠價(jià)格

來源: 發(fā)布時間:2021-02-20

HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

®的 UV-NIL紫外光納米壓印系統(tǒng)。


EVG的HERCULES ® NIL產(chǎn)品系列

HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

® UV-NIL系統(tǒng)達(dá)200毫米

對于大批量制造的完全集成的納米壓印光刻解決方案,具有EVG's專有SmartNIL ®印跡技術(shù)


HERCULES NIL是完全集成的UV納米壓印光刻跟 蹤解決方案,適用于比較大200 mm的晶圓,是EVG的NIL產(chǎn)品組合的***成員。HERCULES

NIL基于模塊化平臺,將EVG專有的SmartNIL壓印技術(shù)與清潔,抗蝕劑涂層和烘烤預(yù)處理步驟相結(jié)合。這將HERCULES NIL變成了“一站式服務(wù)”,將裸露的晶圓裝載到工具中,然后將經(jīng)過完全處理的納米結(jié)構(gòu)晶圓退回。 EVG770是用于步進(jìn)重復(fù)納米壓印光刻的通用平臺,可用于進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。MEMS納米壓印優(yōu)惠價(jià)格

    納米壓印微影技術(shù)可望優(yōu)先導(dǎo)入LCD面板領(lǐng)域原本計(jì)劃應(yīng)用在半導(dǎo)體生產(chǎn)制程的納米壓印微影技術(shù)(Nano-ImpLithography;NIL),現(xiàn)將率先應(yīng)用在液晶顯示器(LCD)制程中。NIL為次世代圖樣形成技術(shù)。據(jù)ETNews報(bào)導(dǎo),南韓顯示器面板企業(yè)LCD制程研發(fā)小組,未確認(rèn)NIL設(shè)備實(shí)際圖樣形成能力,直接參訪海外NIL設(shè)備廠。該制程研發(fā)小組透露,若引進(jìn)相關(guān)設(shè)備,將可提升面板性能。并已展開具體供貨協(xié)商。NIL是以刻印圖樣的壓印機(jī),像蓋章般在玻璃基板上形成圖樣的制程。在基板上涂布UV感光液后,再以壓印機(jī)接觸施加壓力,印出面板圖樣。之后再經(jīng)過蝕刻制程形成圖樣。NIL可在LCD玻璃基板上刻印出偏光圖樣,不需再另外貼附偏光薄膜。雖然在面板制程中需增加NIL、蝕刻制程,但省落偏光膜貼附制程,可維持同樣的生產(chǎn)成本。偏光膜會吸收部分光線降低亮度。若在玻璃基板上直接形成偏光圖樣,將不會發(fā)生降低亮度的情況。通常面板分辨率越高,因配線較多,較難確保開口率(ApertureRatio)。EVG7200LA納米壓印聯(lián)系電話EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)有: EVG?610,EVG?620NT,EVG?6200NT,EVG?720,EVG?7200等。

EV Group的一系列高精度熱壓花系統(tǒng)基于該公司市場**的晶圓鍵合技術(shù)。出色的壓力和溫度控制以及大面積上的均勻性可實(shí)現(xiàn)高精度的壓印。熱壓印是一種經(jīng)濟(jì)高 效且靈活的制造技術(shù),具有非常高的復(fù)制精度,可用于**小50 nm的特征尺寸。該系統(tǒng)非常適合將復(fù)雜的微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)以及高長寬比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中。

NILPhotonics®能力中心-支持和開發(fā)

NILPhotonics能力中心是經(jīng)過驗(yàn)證的創(chuàng)新孵化器。


歡迎各位客戶來樣制作,驗(yàn)證EVG的納米壓印設(shè)備的性能。


UV納米壓印光刻系統(tǒng)

EVG®610/EVG®620NT /EVG®6200NT:具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)

■高精度對準(zhǔn)臺

■自動楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制

■電動和程序控制的曝光間隙

■支持***的UV-LED技術(shù)

■**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求


EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA:自動化的全場納米壓印解決方案,適用于第3代基材

■體積驗(yàn)證的壓印技術(shù),具有出色的復(fù)制保真度

■專有的SmartNIL®技術(shù)和多用途聚合物印章技術(shù)

■集成式壓印,UV固化,脫模和工作印模制作

■盒帶間自動處理以及半自動研發(fā)模式


■適用于所有市售壓印材料的開放平臺


EV Group提供混合和單片微透鏡成型工藝,能夠輕松地適應(yīng)各種材料組合,以用于工作印模和微透鏡材料。

EVG ® 770分步重復(fù)納米壓印光刻系統(tǒng)

分步重復(fù)納米壓印光刻技術(shù),可進(jìn)行有效的母版制作


EVG770是用于步進(jìn)式納米壓印光刻的通用平臺,可用于有效地進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。這種方法允許從**

大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結(jié)合,分步重復(fù)刻印通常用于有效地制造晶圓級光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。

EVG770的主要功能包括精確的對準(zhǔn)功能,完整的過程控制以及可滿足各種設(shè)備和應(yīng)用需求的靈活性。 HERCULES NIL 300 mm提供市場上**納米壓印功能,具有較低的力和保形壓印,快速高功率曝光和平滑壓模分離。EVG520 HE納米壓印出廠價(jià)

EVG ? 7200是自動SmartNIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng)。MEMS納米壓印優(yōu)惠價(jià)格

HERCULES NIL 300 mm提供了市場上**的納米壓印功能,具有較低的力和保形壓印,快速的高功率曝光和平滑的壓模分離。該系統(tǒng)支持各種設(shè)備和應(yīng)用程序的生產(chǎn),包括用于增強(qiáng)/虛擬現(xiàn)實(shí)(AR / VR)頭戴式耳機(jī)的光學(xué)設(shè)備,3D傳感器,生物醫(yī)學(xué)設(shè)備,納米光子學(xué)和等離激元學(xué)。


HERCULES ® NIL特征:

全自動UV-NIL壓印和低力剝離

**多300毫米的基材

完全模塊化的平臺,具有多達(dá)八個可交換過程模塊(壓印和預(yù)處理)

200毫米/ 300毫米橋接工具能力

全區(qū)域烙印覆蓋

批量生產(chǎn)**小40 nm或更小的結(jié)構(gòu)

支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀,包括3D

適用于高地形(粗糙)表面

*分辨率取決于過程和模板


MEMS納米壓印優(yōu)惠價(jià)格

岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司主要經(jīng)營范圍是儀器儀表,擁有一支專業(yè)技術(shù)團(tuán)隊(duì)和良好的市場口碑。岱美儀器技術(shù)服務(wù)致力于為客戶提供良好的磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā),一切以用戶需求為中心,深受廣大客戶的歡迎。公司秉持誠信為本的經(jīng)營理念,在儀器儀表深耕多年,以技術(shù)為先導(dǎo),以自主產(chǎn)品為重點(diǎn),發(fā)揮人才優(yōu)勢,打造儀器儀表良好品牌。岱美儀器技術(shù)服務(wù)立足于全國市場,依托強(qiáng)大的研發(fā)實(shí)力,融合前沿的技術(shù)理念,飛快響應(yīng)客戶的變化需求。

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